AlGaN材料的生长方法[发明专利]

专利名称:AlGaN材料的生长方法专利类型:发明专利
发明人:张怡静,陈明,王建明,闫大鹏申请号:CN202111675755.8
申请日:20211231
公开号:CN114318502A
公开日:
20220412
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:本申请提供了一种AlGaN材料的生长方法,该方法包括:向包括AlGa溶液的反应室中通入氮气;对氮气进行电离,使得电离得到的氮离子的部分溶解在AlGa溶液中;采用晶体提拉法从溶解有氮离子的AlGa溶液中得到AlGaN材料。相比现有技术中MOCVD以及MBE等方法制备AlxGa1‑xN材料来说,本申请采用氮气电离反应生成氮离子溶于AlGa溶液后生成AlGaN材料,这种方法所需条件简单,制备成本较低,所需反应温度较低,单AlGaN材料的制备速度快,产量高,较好地解决了现有技术中AlGaN材料的制备成本高且制备速度慢的问题,有利于工业大规模的生产制备。
申请人:武汉锐科光纤激光技术股份有限公司
地址:430040 湖北省武汉市东湖开发区高新大道999号
国籍:CN
代理机构:北京康信知识产权代理有限责任公司
代理人:霍文娟

本文发布于:2024-09-20 12:29:15,感谢您对本站的认可!

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标签:材料   制备   电离   方法   溶液   氮气
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