(12)发明专利说明书 | ||
(10)申请公布号 CN 114293163 A (43)申请公布日 2022.04.08 | ||
权利要求说明书 说明书 幅图 |
本发明公开了一种三跑道全刻蚀平面靶,本发明由真空底板和靶底座等组成,所述三跑道全刻蚀平面靶还包括:靶旋转机构,设在真空底板上,用于控制平面靶旋转,所述靶旋转机构包括贯通固定在真空底板上的真空密封旋转装置,所述真空密封旋转装置包括外壁固定贯通在真空底板上的轴套,轴套内部中心转动连接中心转轴,中心转轴远离靶底座的一端延出到轴套外部设置驱动模块,用于驱动中心转轴转动;以及组靶机构,设在靶底座上。通过本发明设计的一种三跑道全刻蚀平面靶,能够真正实现了靶面全刻蚀,沉积速率高,靶材利用率可达80%,运行费用低,减少换靶频次,同时均匀度也大幅提高,并且散热高效,有效延长平面靶的使用时间,为平面靶应用技术拓展更广阔的领域。 | |
法律状态公告日 | 法律状态信息 | 法律状态 |
2022-04-08 | 公开 | 发明专利申请公布 |
2022-04-26 | 实质审查的生效IPC(主分类):C23C14/35专利申请号:202111634865X申请日:20211229 | 实质审查的生效 |
本文发布于:2024-09-20 12:00:13,感谢您对本站的认可!
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