激光辐照方法和激光辐照装置[发明专利]

专利名称:激光辐照方法和激光辐照装置专利类型:发明专利
发明人:田中幸一郎,山本良明
申请号:CN200910160531.6
申请日:20050324
公开号:CN101677061A
公开日:
20100324
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:本发明的目的是提供一种激光辐照方法和激光辐照装置,该方法和装置通过阻挡线形光束的低强度部分,用强度更均匀的线形光束来照射某一受辐照表面,同时不会在该受辐照表面上形成因衍射而导致的条纹。在该激光辐照过程中,从激光振荡器101中发出的激光束穿过狭缝102以便阻挡该激光束的低强度部分,镜子103使该激光束的前进方向发生改变,并且凸柱面透镜104将在该狭缝处形成的像投影到受辐照表面106上。
申请人:株式会社半导体能源研究所
地址:日本神奈川县
国籍:JP
代理机构:上海专利商标事务所有限公司
代理人:毛力

本文发布于:2024-09-20 11:45:53,感谢您对本站的认可!

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