技术应用科学大众·Popular Science2019年3月
国家知识产权局专利局专利审查协作湖北中心 李椰，刘媛
摘 要：文章以光刻胶为主题，检索了中国截至2019年5月公开的全部专利，重点分析了光刻胶中国区域申请量状况、具体地域分布、重点申请人情况、重点发明人状况以及光刻胶在中国区域的法律状态。通过对中国地区光刻胶专利技术梳理、分析，给国内相关企业提供一定的专利技术支持。 关键词：光刻胶；专利现状；光刻胶领域专利
光刻胶，又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、X射线等光源的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料。主要用于集成电路和半导体分立器件的微细加工，同时，在平板显示、LED、倒扣封装、磁头及精密传感器等制作过程中也有着广泛的应用[1]。
中国产业信息网数据显示，2015年全球光刻胶市场规模为73.6亿美元，其中，印制电路板（Printed Circuit Board，PCB）光刻胶占比24.5%，液晶显示器（Liquid Crystal Display，LCD）光刻胶占比26.6%，半导体光刻胶占比24.1%，其他类光刻胶占比24.8%。2010—2015年光刻胶全球市场规模年复合增长率约为5.8%。据中经先略数据中心预测，在下游电子行业的带动下，预计2019年全球光刻胶市场规
模为87.7亿美元，到2022年将突破100亿美元[2]。
1 专利现状
本文分析数据来源于patentics数据库，采用关键词以及相关国际专利分类号IPC进行检索，统计时间截至2019年5月，申请人以及发明人均是由pat e nt ics数据库标准化获得。2018—2019年还有部分数据处于未公开状态，不作为分析对比基础。
1.1 专利发展简要介绍
截至2019年5月，在国内公开的专利量共6 313件，国内申请人共申请了专利2 111件，国外申请人共申请了专利4 202件。从时间趋势上来看，从1985年开始，我国光刻胶领域即开始出现专利申请，但是初期专利数量很少，数量保持在年均10件以内，1993—2000年进入专利申请量第一增长期，年申请量达到两位数，这期间主要是国外申请人申请的专利。2001—2005年进入专利申请量第二增长期，年申请量达到百件。2005—2017年国外专利申请量基本达到平稳，年均申请量在230件上下浮动。而国内申请人2005年以前，专利申请量极少，2005—2011年进入快速增长期，2011—2017年进入平稳期。
1.2 地域分布
从申请人分布情况来说，目前专利仍以国外申请人为主，申请量达到67%，而国内申请人的申请量只有
33%。国外申请人申请主要来自日本、韩国、美国、瑞士、德国。其中，国外申请中，日本申请人的申请量占据56%，韩国占21%。国内申请人中，主要申请量集中在北京市、台湾省、上海市、江苏省、广东省，其中，北京市占22%、台湾省占16%。
1.3 申请人情况
国外申请人排名第一的为住友—株式会社，其次是陶氏杜邦、富士施乐株式会社，申请量分别为316件、276件、235件。另外，前10位申请人中，有7名申请人来自日本。其中，韩国三星公司、LG公司也在前10位的行列。从申请量上来看，国外申请人中，前5位申请人的申请量占据了国外申请人申请量的30%，申请量高度集中。国内申请人中，中国科学院、京东方、奇美实业股份有限公司（台湾地区）占据申请量前3，申请量分别为238件、216件、150件，3个申请人的申请量占据国内申请人申请量的28%，可见国内申请人的申请量也高度集中在前3个申请人中。国内申请人中，另7名为中芯国际集成电路、中国电子信息产业集团、TCL集团、台湾积体电路、华中科技大学、上海交通大学、苏州华飞微电子、友达光电，从申请人类型来看，国内申请人主要是研究院和高校。
1.4 发明人情况
在前10名申请人中，选取日、美、韩国家申请人各一家为代表对发明人进行分析。其中，住友—株式会社的主要发明人为市川幸司，申请量达到55件，目前在中国有7件有效专利；陶氏杜邦的主要申请人为D
王（WANG DEYAN），申请量达到19件，目前在中国有18件有效专利；三星SDI株式—会社的主要发明人为权志伦、李昌珉。
1.5 法律状况
国外申请人专利有效量为37%，国内申请人的专利有效量为35%，两者在有效专利比率上很接近，但是由于申请量上，国外申请人约是国内申请人的两倍，因此，从有效专利数量上来看，国外申请人占有量还是远大于国内申请人的。另外，目前国外申请人中有17%的实效专利，24%公开待审专利；国内申请人中有10%的实效专利，30%公开待审专利。
2 结语
近年来，国内电子行业以及半导体行业快速发展，未来光刻胶材料市场将会越来越大。虽然中国区域涉及光刻胶材料的本土专利在快速增长，申请人数量也在快速增长，但是整体数量上，光刻胶领域专利仍然集中在国外申请人手中，且从申请人模式进行分析，也可知道，目前国内申请人主要是研究院和高校，主要是研究型专利申请。在关键技术上，与国外申请人仍存在差距。由于目前国外公司在我国进行了大量专利申请布局，我国的相关企业应当不断加大新技术的研究和专利布局，在一定程度上可以学习和参考国外公司专利布局，同时，也可以联合国内研究院和高校，共同研发创新，提高产品的竞争率并扩大市场占有率。
[参考文献]
[1]郑金红.光刻胶的发展及应用[J].精细与专用化学品，2006（16）：24-30.
[2]马太.光刻胶：国产化势不可挡[J].行业研究，2017（41）：11-13.
作者简介：李椰（1986—），女，汉族，湖北鄂州人，助理研究员，硕士；研究方向：专利实质审查。
第二作者简介：刘媛（1987—），女，汉族，湖北武汉人，助理研究员，硕士；研究方向：专利实质审查。（第二作者对本文贡献等同于第一作者）
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