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利用电子束辐照降解水体中抗炎药物吲哚美辛的方法[发明专利]

专利名称：利用电子束辐照降解水体中抗炎药物吲哚美辛的方法

专利类型：发明专利

发明人：周伟，张芝勃，邹齐，张俊云，杨晓，徐刚

申请号：CN202010385221.0

申请日：20200509

公开号：CN111718041A

公开日：

20200929

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本发明公开了一种利用电子束辐照降解水体中抗炎药物吲哚美辛的方法，属于水处理及环境保护领域。通过电子束辐照激发水分解产生具有高反应性的·OH、H·和在氧化和还原作用下降解吲哚美辛，是一种简洁高效的污染物去除方法。将含有一定浓度的吲哚美辛溶液在电子束下进行辐照处理，辐照剂量为0.5～3kGy，去除效果随着剂量的增加而增加，符合拟一级动力学，在短时间内可完全去除吲哚美辛。向溶液中添加1～100mmol/L过氧化氢可促进辐照降解吲哚美辛，提高辐照处理污染物经济性。本发明去除效率高、反应速率快、操作简便、无二次污染，具有广泛的适用性。

申请人：上海大学

地址：200444 上海市宝山区上大路99号

国籍：CN

代理机构：上海上大专利事务所(普通合伙)

代理人：顾勇华

本文发布于:2024-09-20 12:01:24，感谢您对本站的认可！

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