半导体制程废处理液的排放暂存装置

(19)中华人民共和国国家知识产权局

	(12)发明专利说明书
		(10)申请公布号 CN 114470920 A (43)申请公布日 2022.05.13

(21)申请号 CN202011143556.8

(22)申请日 2020.10.23

(71)申请人辛耘企业股份有限公司

地址台北市

(72)发明人赵晋亿蔡文平

(74)专利代理机构

代理人

(51)Int.CI

B01D29/11

B01D29/60

权利要求说明书说明书幅图

(54)发明名称

半导体制程废处理液的排放暂存装置

(57)摘要

一种半导体制程废处理液的排放暂存装置，包含储液容器及过滤模块。储液容器具有底壁、相对于底壁的顶壁、连接底壁与顶壁的围壁及封盖。顶壁设有废处理液进入口及杂质清理口。封盖设于顶壁且可开地封闭杂质清理口。过滤模块包括过滤槽及感测器。过滤槽位于储液容器内并位于废处理液进入口及杂质清理口下方且具有网状的底槽壁及侧槽壁，及靠近顶壁的宣泄口，底槽壁与侧槽壁共同界定过滤空间且用以过滤废处理液中的杂质，底槽壁与底壁相间隔。感测器对应过滤槽设置以侦测过滤槽内所累积的杂质是否需要清理。通过过滤模块将废处理液中的杂质过滤，而在清理过滤槽内的杂质时并不需要排空储液容器内的废处理液，因此制程机台不需要停机，而不影响产能。

法律状态

法律状态公告日	法律状态信息	法律状态
2022-05-31	实质审查的生效IPC(主分类):B01D29/11专利申请号:2020111435568申请日:20201023	实质审查的生效
2022-05-13	公开	发明专利申请公布