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一种脉冲激光激励的电磁脉冲辐射装置[实用新型专利]

专利名称：一种脉冲激光激励的电磁脉冲辐射装置专利类型：实用新型专利

发明人：易涛，于瑞珍，李廷帅，江少恩

申请号：CN201621323448.8

申请日：20161205

公开号：CN206532874U

公开日：

20170929

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本实用新型提供一种脉冲激光激励的电磁脉冲辐射装置，利用脉冲激光作为激励源，与金属靶材料相互作用产生强电流脉冲驱动发射天线产生电磁脉冲，实现光能向微波辐射能量的转换，从而获得比较稳定可靠的电磁脉冲辐射。同时脉冲激光轰击金属靶材料会产生等离子体喷射，同时在金属靶杆上产生瞬态电流脉冲，利用同轴线缆将电流脉冲引导到微波暗室，驱动发射天线发射电磁脉冲辐射。一种脉冲激光激励的电磁脉冲辐射装置，包括脉冲激光打靶系统和测试环境；其中脉冲激光打靶系统包括脉冲激光器1、聚焦透镜2、真空腔体3、金属靶4、玻璃窗口法兰6、真空电转接法兰7以及金属靶杆10；测试环境包括发射天线8和微波暗室9。

申请人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心

地址：621037 四川省绵阳市游仙区绵山路64号

国籍：CN

代理机构：北京理工大学专利中心

本文发布于:2024-09-20 12:24:47，感谢您对本站的认可！

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