专利名称:结构滤光片的制备方法
专利类型:发明专利
发明人:季陈纲,郭凌杰,所罗伯·阿查里雅,斯蒂芬·马尔多纳多申请号:CN202010443195.2
申请日:20200522
公开号:CN112198580A
公开日:
20210108
摘要:一种结构滤光片的制备方法包括:将基板与第一电解液接触,对所述基板施加电压,以使第一金属层沉积在所述基板上,其中,所述第一电解液含有第一前驱材料,所述电压引发所述第一前驱材料发生电化学反应,所述电化学反应的产物在所述基板表面沉积以形成所述第一金属层,所述沉积过程的温度小于或等于50℃;将所述第一金属层与第二电解液接触以使第一介质层沉积在所述第一金属层上,其中所述第二电解液含有第二前驱材料;以及在所述第一介质层上沉积第二金属层,使所述第一金属层与所述第二金属层位于所述介质层相对的两侧。本申请的沉积是在自然条件下进行,无论衬底的粗糙度和曲面度,均可以实现金属层、介质层和基板的共膜沉积。本申请利用三电极电化学装置的工艺可以用于控制和检测膜层的成膜过程、沉积速率以及膜厚。 申请人:宁波融光纳米科技有限公司,密歇根大学董事会
地址:315000 浙江省宁波市奉化区经济开发区滨海新区滨海大道388号
国籍:CN
代理机构:深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人:周心志