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选择性降解邻苯二甲酸二丁酯的光电催化剂的制备方法[发明专利]

专利名称：选择性降解邻苯二甲酸二丁酯的光电催化剂的制备方法

专利类型：发明专利

发明人：戴高鹏，刘素芹，周京慧，李尊，刘力

申请号：CN202010173381.9

申请日：20200313

公开号：CN111359677A

公开日：

20200703

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本发明公开了一种选择性降解邻苯二甲酸二丁酯的光电催化剂的制备方法，首先制备TiO纳米管阵列并高温晶化，合成Fe(LS)Cl晶体；然后将吡咯和邻苯二甲酸二丁酯加入到盛有甲醇的烧杯中，再将TiO纳米管阵列浸入到上述溶液，随后迅速加入Fe(LS)Cl晶体，超声12h，即得到含有邻苯二甲酸二丁酯模板的聚吡咯/TiO纳米管阵列，然后置于纯水中浸泡；随后将浸泡后的聚吡咯/TiO纳米管阵列作为工作电极，以铂电极为辅助电极，以饱和甘汞电极为参比电极，在NaSO溶液中、恒电位下电解，以去除邻苯二甲酸二丁酯模板，即得到能识别邻苯二甲酸二丁酯的分子印迹聚吡咯/TiO纳米管阵列。通过本发明提供的方法制备得到的分子印迹聚吡咯/TiO纳米管阵对邻苯二甲酸二丁酯的降解具有很高的选择性。

申请人：湖北文理学院

地址：441053 湖北省襄阳市隆中路296号

国籍：CN

代理机构：南京纵横知识产权代理有限公司

代理人：董建林

本文发布于:2024-09-20 16:47:49，感谢您对本站的认可！

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