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一种光阻层阻挡能力的检测方法及检测系统[发明专利]

专利名称：一种光阻层阻挡能力的检测方法及检测系统专利类型：发明专利

发明人：温育杰，程挚，李昌达，方晓宇，郭宜婷

申请号：CN202010937768.7

申请日：20200909

公开号：CN111933545A

公开日：

20201113

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本发明提出一种光阻层阻挡能力的检测方法及检测系统，包括：提供第一晶圆和第二晶圆，所述第一晶圆和所述第二晶圆为第一掺杂类型的晶圆；对所述第一晶圆和所述第二晶圆进行第一次掺杂，以在所述第一晶圆和所述第二晶圆中形成第一掺杂区；对所述第一晶圆和所述第二晶圆进行退火处理，并测量所述第一晶圆的电阻，并将所述电阻定义为第一电阻；在所述第二晶圆上形成光阻层；通过所述光阻层对所述第二晶圆的所述第一掺杂区进行第二次掺杂；移除所述光阻层，并测量所述第二晶圆的电阻，并将所述电阻定义为第二电阻。本发明提出光阻层阻挡能力的检测方法可以快速检测出光阻层的阻挡能力。

申请人：南京晶驱集成电路有限公司

地址：210000 江苏省南京市栖霞区迈皋桥创业园科技研发基地寅春路18号-H1105

国籍：CN

代理机构：上海光华专利事务所(普通合伙)

代理人：林凡燕

本文发布于:2024-09-20 15:26:13，感谢您对本站的认可！

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