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曝光装置[发明专利]

专利名称：曝光装置

专利类型：发明专利

发明人：桥本典夫

申请号：CN201710395242.9申请日：20170527

公开号：CN107450276A

公开日：

20171208

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本发明提供曝光装置，该曝光装置对长条基板高精度地测量基板的进给量，并且在确保了基板的平面性的状态下在基板的两面上描绘图案。曝光装置具有：第1曝光单元，其包含光调制元件阵列；第1基板保持单元，其将长条基板的长度方向的一部分保持为平面状；第1相对移动单元，其使第1曝光单元与第1基板保持单元在长条基板的长度方向上相对移动；折返单元，其使长条基板的输送路径折返；第2曝光单元，其包含光调制元件阵列；第2基板保持单元，其将长条基板的长度方向的一部分保持为平面状；以及第2相对移动单元，其使第2曝光单元与第2基板保持单元在长条基板的长度方向上相对移动。

申请人：株式会社ORC制作所

地址：日本东京都

国籍：JP

代理机构：北京三友知识产权代理有限公司

本文发布于:2024-09-20 15:28:40，感谢您对本站的认可！

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