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基板处理装置以及使用基板处理装置的基板处理方法[发明专利]

专利名称：基板处理装置以及使用基板处理装置的基板处理方法

专利类型：发明专利

发明人：日野出大辉，太田乔，西东和英，山田邦夫

申请号：CN201510116914.9

申请日：20150317

公开号：CN104934350A

公开日：

20150923

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：基板处理装置具有处理部、第一罐、第二罐、第三罐和处理液喷嘴。并行实施从第一罐至处理部的磷酸水溶液的供给动作和从处理部至第二罐或第三罐的液体回收。磷酸水溶液从第一罐供给至处理液喷嘴。磷酸水溶液从处理部回收至第二罐或第三罐。第三罐或第二罐内的硅浓度被调整。被调整的处理液经第一罐供给至处理部。磷酸水溶液供给于基板上，在基板上形成液膜。液膜被加热。加热装置具有石英玻璃制的壳体内设有第一灯加热器～第四灯加热器的构成。加热器发生的红外线透过壳体的底部照射到磷酸水溶液。底部由第一板状部件和第二板状部件构成。第一板状部件和第二板状部件之间的气体通路中供给有氮气。氮气从排出开口朝向基板的外周部的外方排出。

申请人：斯克林集团公司

地址：日本国京都府京都市

国籍：JP

代理机构：隆天知识产权代理有限公司

本文发布于:2024-09-20 13:39:29，感谢您对本站的认可！

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