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一种制作光刻胶厚度和关键尺寸关系曲线的方法[发明专利]

专利名称：一种制作光刻胶厚度和关键尺寸关系曲线的方法专利类型：发明专利

发明人：刘必秋，毛智彪，甘志锋

申请号：CN201510547788.2

申请日：20150831

公开号：CN105159031A

公开日：

20151216

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本发明公开了一种制作光刻胶厚度和关键尺寸关系曲线的方法，首先提供一表面具有高度梯度的晶圆模板，其中，晶圆模板被划分为至少两个不同表面高度的区域，区域包括至少一个曝光单元；接着在具有高度梯度的晶圆模板上形成厚度渐变的光刻胶膜；然后对晶圆模板的各个区域进行逐个曝光和显影，并测量光刻胶膜的不同厚度所对应的关键尺寸；最后根据不同厚度光刻胶对应的关键尺寸，制作光刻胶厚度与关键尺寸的关系曲线。本发明制作光刻胶厚度与关键尺寸关系曲线的方法大大降低了成本，且节省了工艺时间，通过晶圆模板的高度梯度将图形转移到光刻胶膜上可控性好，光刻胶膜的变化空间大，且适合不同区间范围的光刻胶膜厚和关键尺寸关系曲线的制作。

申请人：上海华力微电子有限公司

地址：201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号

国籍：CN

代理机构：上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)

本文发布于:2024-09-20 13:42:32，感谢您对本站的认可！

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