[19]
中华人民共和国国家知识产权局
[12]实用新型专利说明书
[11]授权公告号CN 2623697Y [45]授权公告日2004年7月7日
[21]ZL 专利号03249251.0[21]申请号03249251.0
[22]申请日2003.06.27[73]专利权人常建
地址610061四川省成都市锦江区三官堂街1号
[72]设计人常建 陈佳 常鸿 常江 陈志能 [74]专利代理机构成都科海专利事务有限责任公司代理人黄幼陵
[51]Int.CI 7C23C 14/28C23C 14/35
权利要求书 1 页 说明书 3 页 附图 3 页
[54]实用新型名称
[57]摘要
出水管。阴极靶的形状为矩形平面板，使磁场分量
在矩形平面靶表面形成一个矩形磁环跑道。由于阴
极靶的形状改变，靶固定框为与阴极靶相匹配的矩
形框，绝缘盒为与靶固定框相匹配的矩形盒，磁体
固定板为与绝缘盒相匹配的矩形板。此种矩形平面
多弧靶不仅刻蚀区域大，镀膜均匀区宽，镀膜工艺
只需引一次弧，关注一个弧源的放电情况，因而镀
膜机整机造价降低，操作更为方便。
03249251.0权 利 要 求 书第1/1页 1、一种矩形平面多弧靶，包括绝缘盒(2)、屏蔽板(1)、磁体固定板(8)、靶固定框(3)、磁体(4)、阴极靶(5)、进水管(10)、出水管(7)，屏蔽板与绝缘盒连接，磁体固定板位于绝缘盒底部，磁体放置在磁体固定板上，靶固定框位于绝缘盒内且其一端与磁体固定板相贴，阴极靶安放在靶固定框的另一端，阴极靶、靶固定框和磁体固定板通过连接件连接成一体，进水管、出水管安装在绝缘盒底部并与阴极靶、靶固定框和磁体固定板围成的腔体接通，其特征在于阴极靶(5)的形状为矩形平面板，靶固定框(3)为与阴极靶相匹配的矩形框，绝缘盒(2)为与靶固定框相匹配的矩形盒，磁体固定板(8)为与绝缘盒相匹配的矩形板。
2、根据权利要求1所述的矩形平面多弧靶，其特征在于阴极靶(5)的优选尺寸范围为：长500～2000mm，宽50～200mm。
3、根据权利要求1或2所述的矩形平面多弧靶，其特征在于进水管(10)、出水管(7)均为可兼作电极的金属管，组装时与绝缘盒接触部位套装了绝缘套(9)。
03249251.0说 明 书第1/3页
矩形平面多弧靶
一、技术领域
本实用新型涉及一种真空离子多弧镀膜机设备的关键部件——多弧靶。
二、背景技术
目前，国内外的真空离子多弧镀膜机设备，大多数采用直径50～100mm的圆形平面多弧靶，一台镀膜机需要配置几个甚至几十个这种靶，相应地还要配备几个甚至几十个引弧装置和电弧源，使用时，必须逐个点燃每一个靶，关注每个弧源的运行情况，因而导致真空离子多弧镀膜机设备的弧靶系统复杂，造价高，操作繁琐。另外，圆形平面多弧靶还存在控弧磁场位形不合理、靶材刻蚀不均匀、弧斑运动不稳定、经常跑弧和熄弧等缺陷，影响工业化生产过程中的镀膜质量。
三、发明内容
本实用新型针对现有技术存在的不足，提供一种矩形平面多弧靶，此种多弧靶一台镀膜机仅需配置一个，因而极大地简化了真空离子多弧镀膜机设备的弧靶系统结构。 本实用新型的技术方案是：根据冷阴极真空弧光放电机理和磁控理论，从改变磁路入手，将阴极靶的形状设计为矩形平面板，使磁场分量在矩形平面靶表面形成一个腰形磁环跑道，让弧斑在这个磁环跑道内运动。由于阴极靶的形状改变，安装阴极靶的靶固定框、与靶固定框组合的的绝缘盒和磁体固定板的形状均随之改变，靶固定框为与阴极
靶相匹配的矩形框，绝缘盒为与靶固定框相匹配的矩形盒，磁体固定板为与绝缘盒相匹配的矩形板。阴极靶的优选尺寸范围为：长500～2000mm，宽50～200mm。阴极靶的具体尺寸，根据镀膜机的镀膜室直径和高度决定。
本实用新型提供的矩形平面多弧靶，包括绝缘盒、屏蔽板、磁体固定板、靶固定框、磁体、阴极靶、进水管、出水管；屏蔽板与绝缘盒连接，磁体固定板位于绝缘盒底部，磁体放置在磁体固定板上，靶固定框位于绝缘盒内且其一端与磁体固定板相贴，阴极靶安放在靶固定框的另一端，阴极靶、靶固定框和磁体固定板通过连接件连接成一体，进水管、出水管安装在绝缘盒底部并与阴极靶、靶固定框和磁体固定板围成的腔体接通，以通过进水管与出水管形成的循环水直接冷却靶体。
本实用新型具有以下有益效果：
1、一台镀膜机仅需配置一个矩形平面多弧靶，一个引弧装置，一套弧电源，操作者只需引一次弧，关注一个弧源的放电情况，因而镀膜机整机造价降低，操作更为方便，故障减少。
2、弧斑在腰形磁环跑道内运动，靶面位移长，因而刻蚀区域大，镀膜均匀区宽，镀膜工艺重复性好。
3、矩形平面多弧靶安装在镀膜机的镀膜室壁，可以充分利用镀膜室空间。
四、附图说明
图1是本实用新型所提供的矩形平面多弧靶的一种结构图；
图2是图1的侧视图；
图3是本实用新型所提供的矩形平面多弧靶在真空离子多弧镀膜机的镀膜室的安装示意图。
图中，1—屏蔽板、2—绝缘盒、3—靶固定框、4—磁体、5—阴极靶、6—密封圈、7—出水管、8—磁体固定板、9—绝缘套、10—进水管、11—镀膜室、12—引弧装置、13—弧电源。
五、具体实施方式
下面结合附图通过实施例对本实用新型所提供的矩形平面多弧靶的结构作进一步说明。
本实施例中的矩形平面多弧靶的结构如图1、图2所示，包括绝缘盒2、屏蔽板1、磁体固定板8、靶固定框3、磁体4、阴极靶5、进水管10、出水管7。屏蔽板1与绝缘盒2连接；磁体固定板8位于绝缘盒底部，磁体4为永磁体，放置在磁体固定板上；靶固定框位3于绝缘盒内且其一端与磁体固定板8相贴，阴极靶5安放在靶固定框的另一端，阴极靶5、靶固定框3和磁体固定板8通过连接件螺钉连接成一体，阴极靶5与靶固定框3的接触面、磁体固定板8与靶固定框3的接触面均设置有密封圈6；阴极靶5为钛靶或锆靶，其形状为矩形平面板，由于真空离子多弧镀膜机的镀膜室直径φ1000mm、高1200mm，故阴极靶5的尺寸为：长1000m m、宽100m m，靶固定框3为与阴极靶相匹配的矩形框，绝缘盒2为与靶固定框相匹配的
矩形盒，磁体固定板8为与绝缘盒相匹配的矩形板；进水管10、出水管7均为金属管，兼作电极，安装在绝缘盒2底部并与阴极靶、靶固定框和磁体固定板围成的腔体接通，组装时与绝缘盒接触部位套装了绝缘套9。
矩形平面多弧靶在真空离子多弧镀膜机的镀膜室11的安装位置和安装方式如图3所示，弧电源13的正极接镀膜室11并接地，其负极接阴极靶5，靶电流为90～255A，工作电压为16～24V。使用时，将镀膜室11抽到一定的真空度后启动引弧装置12，则可引燃电弧，电弧一旦被引燃，低压大电流电源将维持阴阳极间弧光放电过程。电弧弧斑在正交电场和磁场(磁体4提供)中沿着磁场跑道作有规律运动，形成一条弧环。
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