(12)发明专利说明书 | ||
(10)申请公布号 CN 114236981 A (43)申请公布日 2022.03.25 | ||
权利要求说明书 说明书 幅图 |
本发明属于金属蚀刻技术领域,特别涉及一种用于TFT‑LCD行业CF制程的负胶显影液,由以下质量百分含量的组分组成:5‑25wt%无机碱、2‑10wt%表面活性剂、2‑10wt%水溶助长剂和余量的去离子水,所述表面活性剂为烷基硫酸盐与烷基糖苷组合物LF‑802与乙氧基季铵盐组合物LF‑810的1:1~1:2质量比的混合物。本发明负胶显影剂具有分散稳定性高、显影后图案清晰、无毛边、无光刻胶残留、无底切、末期光刻胶无反粘等特点。 | |
法律状态公告日 | 法律状态信息 | 法律状态 |
2022-03-25 | 公开 | 发明专利申请公布 |
2022-04-12 | 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/32专利申请号:2021113989746申请日:20211124 | 实质审查的生效 |
本文发布于:2024-09-20 13:30:49,感谢您对本站的认可!
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