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一种半导体光刻板清洗机[实用新型专利]

专利名称：一种半导体光刻板清洗机专利类型：实用新型专利

发明人：徐莹

申请号：CN202020553462.7

申请日：20200415

公开号：CN212442193U

公开日：

20210202

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本实用新型公开了一种半导体光刻板清洗机，其结构包括侧放置块、支撑侧板、顶块、清洗块、输送板、机体、底座，本实用新型一种半导体光刻板清洗机，在使用设备的时候，输送板上的输送带会与其底端上的转动轮相配合，使转动轮进行转动，带动其上的凸轮进行转动与滑动连接板相配合，从而使滑动连接板带动刷动连接块上的清理刷进行左右的往复运动，与输送带相配合，对其进行刷动清理，将杂物刷落下来至收纳槽中，通过改进设备的结构，使设备在进行使用的时候，能够较好的对输送板上的输送带进行清理，避免输送带上粘附杂物，在将清理好的光刻板输送出来的时候对其造成污染。

申请人：自贡国晶科技有限公司

地址：643000 四川省自贡市沿滩区高新工业园区板仓路219号1号厂房B栋1-15陈列室

国籍：CN

代理机构：深圳峰诚志合知识产权代理有限公司

代理人：赵爱婷

本文发布于:2024-09-20 13:38:49，感谢您对本站的认可！

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