一种边框叠层材料及其在制备带密封边框核心组件膜电极上的应用[

专利名称:一种边框叠层材料及其在制备密封边框核心组件膜电极上的应用
专利类型:发明专利
发明人:潘牧,艾勇诚,宛朝辉,李虎,胡阿勇,陈磊,田明星
申请号:CN201010125455.8
申请日:20100311
公开号:CN101800298A
公开日:
20100811
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:一种边框叠层材料及其在制备带密封边框核心组件膜电极上的应用。该边框叠层材料为支撑膜、第一粘附层、边框膜、第二粘附层和保护膜依次相叠结构。用于制备带密封边框核心组件膜电极时,在阳极密封边框及阴极密封边框的制备完成之前对边框叠层按照一定的规则进行冲裁,且在制备过程中始终有支撑膜的存在以加强边框叠层的厚度及强度,使得边框叠层具有较好的加工可行性和尺寸稳定性,制备的密封边框具有较高的对位精度,制备过程更易于控制。密封边框制备完成之后剥去支撑膜。催化剂层在密封边框制备之前或之后涂覆到聚合物离子交换膜的活性区域,制备成带密封边框的核心组件,再分别与阳极气体扩散层和阴极气体扩散层覆合制备得到膜电极。
申请人:武汉理工新能源有限公司
地址:430223 湖北省武汉市东湖开发区江夏大道武汉理工大学科技园
国籍:CN
代理机构:湖北武汉永嘉专利代理有限公司
代理人:张安国

本文发布于:2024-09-20 14:52:37,感谢您对本站的认可!

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标签:边框   制备   密封   叠层   专利   核心   电极
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