AlN-MOCVD生长中气相寄生反应路径

doi : 10. 3969/j. issn. 1671 -7775.2020.05.012A1F-M0CVD 生长气相寄生反应路径
开放科学(资源服务)标识码(OSIE ):
仲婷婷,左然
(江苏大学能源与动力工程学院,江苏镇江212013)
摘要:利用量子化学的密度泛函理论,研究用于制备紫外光电器件的A1F 薄膜在M0CVD 生长中 的气相寄生反应,计算与气相纳米粒子相关的3种主要多聚物+ DMAINHJ  2, + MMA1FH  ] 2, + MMAFH ]3与NH 的反应路径.通过对比不同温度下反应前后的吉布斯自由能差'G 以及过渡态 的活化自由能'G *,判断反应发生的方向和概率.结果表明:+ DMANH 2]2存在2条竞争路径,当 T <749 K 时,反应走+ DMANH 2 ] 2与NH 3的双分子反应路径,产物为+ At " NH 2) 3 ] 2 ;当T o  749 K  时,反应趋向于活化自由能更低的、脱去CH 4生成+ mmainh ] 2的分子内反应路径.[mmainh ] 2, + MMAINH ]3与NH 3极易发生双分子反应,脱去CH 4,生成更稳定的气相产物+ A1NHNH 2 ]2和 + A1NHNH 2 ] 3 - At " NH 2) 3 ] 2,+ A1NHNH 2 ] 2,+ A1NHNH 2 ] 3很可能是 A1N-MOCVD  气相寄生反应的末 端粒子,也是A1N 生长表面反应和纳米粒子的重要前体.
关键词:AIN ; MOCVD ;密度泛函理论"DFT );低聚物;寄生反应中图分类号:TN304 文献标志码:
A  文章编号:1671 -7775(2020)05 -0569 -06引文格式:仲婷婷,左然.A1N-MOCVD 生长中气相寄生反应路径% J ].江苏大学学报(自然科学版),2020,41(5):569 -574.
Gas-phase  parasitic  reaction  pathways  in  A1N-MOCVD  growth
6,ONG  T&gAng , 6U0 ;/n
(School  of  Energy  and  Power  EngineeTne , Jiangsu  Univemity , Zhenjiang , Jiangsu  212013 , China )
AbstraC : The  dpsity  functional  theog  ( DFT ) of  quantum  chemistg  was  used  to  study  the  gas-phase  paeasiiiceeaciinsin  AeN-MOCVD  ge&wih  oeUV  &pieeeie&nicdeeices.Theeeaciin  paihways&oiheee  oligomers  of  [ DMAINH  ] 2 , [ MMAINH  & 2 and  [ MMAINH  & 3 with  NH 3 were  investigated , which  were  mlated  with  gaseous  nano-paiicle  generation. By  compaing  the  Gibbs  free  ppgy  diOemnco  of  'G  and  transition  state  biTer  of  'G* , the  direction  and  pmbabiUty  of  the  related  reactions  were  detemnined. The  results  show  that  there  are  two  competition  pathways  for  [ DMAINH 2 & 2- When  T  is  less  than  749 K , the  reaction  path  is  dominated  by  bimolecular  reaction  with  [ Al  ( NH 2 ) 3 & 2 as  the  product. When  T  is more  than  749 K , F  is  dominated  by  intramolecular  reaction  with  [ MMAINH  & 2 as  the  product , sin
ce  the  mactions  always  take  the  path  with  lower  ppgy  biTer. The  other  two  oligomers  of  [ MMAINH  & 2 and
[MMAINH  & 3 both  tend  to  the  bimolecular  reaction  with  NH 3 to  fomi  the  more  stable  gas  products  of
陈小蒙[AINHNH 2 & 2 and  [ AINHNH 2 & 3 with  CH 4 elimination. The  [ Al  ( N\ ) 3 & 2 , [ AINHNH  & 2 and
[AINHNH 2 & 3 are  probably  the  end  gas  precursors  for  suTace  reactions  and  for  nanopaiicle  generation  in  AeN-MOCVDpToce s .
Key  woris : AIN ; MOCVD  ; density  functional  theog  ( DFT ) ; oligomers ; parasitic  reaction 收稿日期:2019 -05 -05
基金项目: 国家自然科学基金资助项目(61474058)
作者简介:仲婷婷(1993—),女,江苏南通人,硕士研究生(a h 747@163-cm ),主要从事A1N 薄膜生长路径研究-
小黑眼iview
左 然(1955—),男,湖南长沙人,教授(muoIuji-du.c ),主要从事III 族氮化物半导体生长的传热传质和化学反应模拟研究
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