污水处理厂根据实际达标排放的要求，进行选择不同的处理工艺。从实际情况来看，很多中型污水处厂大多采用氧化沟工艺。对污水处理达标排放的标准有一级B标、一级A标。其排放参数如下 一级A标
COD | NH3-N | SS | 总磷 | 总氮 | BOD |
50 | 5(8) | 10 | 0.5 | 15中国雏鹰网 | 10 |
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一级B标
COD | NH3-N | SS | 总磷 | 总氮 | BOD |
60 | 8(15) | 20 | 1.0 | 20 | 20 |
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以上参数都是生活污水处理厂常规达标排放的主要参数之一，由此，根据这些参数选择相对应的工艺模式，这里集中说明氧化沟处理的工艺的一些重要部分
第一节 工艺流程说明
污水处理工艺：推荐采用改良型Orbal 氧化沟工艺污泥处理工艺：推荐采用污泥机械浓缩脱水工艺。流程说明：
（1）预处理（包括粗格栅池、提升泵房、细格栅池及旋流沉砂池） 污水通过进水管导入粗格栅池，进入污水泵站，经提升后进入细格栅池，然后流入旋流沉砂池。 粗格栅池内安装机械粗格栅，污水中的较大的杂物，如树枝、塑料袋等在此处得以去除，且能够起到保护下阶段设备的作用。机械格栅的工作根据粗格栅前后的液位差由PLC自动控制清污动作，同时设置定时自动控制和手动控制。 进水泵站内安装潜水泵，将污水提升至细格栅池，潜水泵的工作依据泵站内的水位而设定的程序实现自动控制。 细格栅池内细格栅，污水中较细的杂物在此得以去除，细格栅的工作根据细格栅前后的液位差由PLC自动控制清污动作，同时设置定时自动控制和手动控制。 污水沿切线方向进入旋流沉砂池，旋流沉砂池通过机械搅拌产生水力涡流，使泥砂、陶粒和有机物分离以达到除砂的目的，气提抽砂 与砂水分离机联动工作，将污水中砂粒分离出来。 预处理阶段产生的杂物，陶粒、砂粒等，可以定期运至垃圾填埋场另行处理。
（2）生物处理（包括改良型氧化沟及紫外消毒池）
自旋流沉砂池出来的污水经计量后进入改良型氧化沟，在改良型氧化沟进水端与来自污泥泵的回流污泥在较小的空间内水力混合，然后经过过水孔，进入到改良型氧化沟的预反应区，经过厌氧处理去除一定的CODcr和BOD5，最主要是污染物较高的原水与预反应区内的微生物混和后，对预反应区内的微生物起到一定的生物选择作用，抑制了丝状菌的生长繁殖，防止污泥膨胀；污水经过预反应区后，进入主反应区，主反应区内采用微孔曝气器进行曝气，在此过程中进行脱氮除磷；改良型氧化沟的出水进入紫外消毒池，进行紫外线消毒，消毒后一部分作为生产用水进行滤带反冲洗，其余可就近排入中河较为合适。今后可根据城市发展情况考虑其他回用用途，节约水资源。
（5）污泥处理
为了保持改良型氧化沟中污泥浓度不变, 过多的污泥必须要排走。剩余污泥由污泥泵转送到
脱水机房。 在脱水机房，首先由螺杆泵将剩余污泥经与絮凝剂混合，再把它们送入带预脱水的带式脱水机脱水。干滤饼的干固含量可望达到20%以上。脱水后污泥的最终外运处置。
工艺流程框图如图：
第二节 氧化沟工艺自动化控制系统说明
自动化控制系统的简易说明：氧化沟工艺的电气自动化控制系统根据原设计要求建立一定的系统其主要的控制网络大致如下：
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对于污水处理厂自动控制原理图一般采用集中分散方式控制各点位，主要体现特征为：点位较多，系统开关量控制。由此针对这样的特点一般组成系统网络有以下特点
1.管理层网路主要是采用工业以太网方式进行大量的数据传输，为了保证现场PLC站点能及时有效的传输数据和控制信息大多采用双模光纤传输数据。这样保证了数据的及时性和准确性。
2.针对基础网路主要指PLC控制部分网路，一般在氧化沟工艺系统中无大型的风机装置，由此直接采用做为PLC子站的其他通信协议较少，大多都和CPU保持统一的通信协议方式，主要现场通信方式有DP/MPI（德国西门子）、RS232C/RS485(广义网络协议)、CC-LINK(日本三菱)、MODBUS(美国)对于这些通信网路的协议方式需要根据厂区内设计的理念来定制相应的通信方式选择不同的方式。该层也是基础网络原始数据的采集。由此稳定性和准确性要求较高。
3.各I/O子站的主要作用是采集现场主要设备的开关信号和模拟量信号。是对现场设备动作
命令的直接输出区域，也是控制系统最末端的设备，是一个系统和终端设备输入输出的区域。
总之，目前利用于氧化沟工艺的自动控制系统网络大致如上，对于氧化沟工艺所需要的自动化系统的配置主要大致分为4部分：其一、预处理系统；其二、曝气系统；其三、脱泥系统；其四、加药系统。这几个系统都是相互干系，大多采用时空命令将这些系统区分开。
第三节 电气系统
对于一个氧化沟工艺处理的电气设备供电系统而言，针对工厂供电的性质和所需配电系统的级别，一般有两种分类方法：第一类，按照电力学方式分类；另一类，根据设备所对工艺用途分类。
按电力学分类
1.高压部分：主要是针对国家电网10KV电力供配电而言，是一个工厂电力系统的主要部分
2.低压部分：主要是用于对厂区内所有设备配电设备，是对个设备分配电源基础设备,电源电压一般在AC380V/AC220V氟苯尼考琥珀酸钠
3.控制电源部分：主要是针对国家规范安全电压以内的电源部分，主要用于现场控制系统供电和仪表电源，电压等级一般低于36V，大多采用直流电源
按工艺用途分类
预计负债1.预处理MCC柜：针对预处理单元专门设置独立的母线电源。大多采用GCS抽屉式开关柜匹配各个设备电源装置。
2.曝气系统MCC柜：主要是针对主工艺设备的供电设备母线电源。部分存在变频系统和较大电流设备的装置系统。
3.沉淀单元和其他辅助设备：这一部分主要针对现场阀门、消毒设备以及沉淀区域的供电设备装置系统。
这些配电设备大部分集中于低压配电室内，均由变压器低压侧供电的后继设备。
在MCC柜内的各单元元器件组成的控制回路，都包含有设备的控制动作原理和各类保护。这是电维修人员的主要工作区域之一。
第四节仪器仪表设备
氧化沟工艺的仪器仪表设备和A2O工艺仪器仪表区别并不是十分大，对这两种处理工艺的在线仪器仪表设备大致分一下几类
1.在线监测流量计、液位计：主要是针对现场工艺设备处理过程中对实际的产生的量的采集，工作电源一般都在AC220V，信号电源一般都采用两线制4-20mA做为信号接入点，将现场采集的实时数据及时传输回中空系统。
2.在线分析仪器仪表：主要是针对现场水质情况的分析提供实时数据，其中在线DO监测、在线ORP监测、在线PH计监测，这些仪器仪表相对较复杂，针对各厂商的仪表的工作方式均有不同，由此在维护和选型的过程中一定要掌握各仪表的相应参数。
3.环境监测仪器仪表：主要针对COD、NH3-N等分析类仪表，这些仪器仪表在污水处理厂类说是相对较为重要的设备之一。由此，在仪表维护和使用过程中一定要有专业的人员从事此项工作。
4.化验室内仪器仪表：针对化验室内仪器仪表设备一般都是做为水质定期监测提供依据，大多仪表都是便携式仪表，移动性较强。
总之，对于氧化沟工艺在现代领域的污水处理工艺中来说，是技术十分成熟和水质较为稳定的一种，针对生活污水处理厂来说，性价比十分的高，对其他工艺的兼容性也较强。由此，氧化沟工艺主要适用于大中型污水处理厂的首选工艺。
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