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基于NTA的IMAC填料及其制备方法和应用[发明专利]

专利名称：基于NTA的IMAC填料及其制备方法和应用专利类型：发明专利

发明人：吕小林，丁忠

申请号：CN201811609279.8

申请日：20181227

公开号：CN109663384A

公开日：

20190423

专利内容由知识产权出版社提供

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摘要：本发明涉及一种基于NTA的IMAC填料及其制备方法和应用。该制备方法包括如下步骤：提供一种基质；在所述基质的表面构建醛基，得到表面具有醛基的基质；将醛基转化为α‑氨基羧酸，得到表面具有α‑氨基羧酸的基质；在所述表面具有α‑氨基羧酸的基质的表面构建NTA基团，得到表面具有NTA基团的基质；以及将NTA基团与过渡金属离子螯合，得到基于NTA的IMAC填料。上述基于NTA的IMAC填料的制备方法，避免使用高成本原料，而且制备工艺清洁，纯化过程简单。

高在成申请人：苏州赛分科技有限公司麝鼩

地址：215123 江苏省苏州市工业园区星湖街218号生物纳米科技园C11楼4-5层

KAD网络

安全联轴器国籍：CN

代理机构：广州华进联合专利商标代理有限公司

黑暗中的幽魂代理人：唐清凯

本文发布于:2024-09-21 00:37:29，感谢您对本站的认可！

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