Nikon 光刻机 2.装置的手动操作

2. 装置的手動操作
        進行装置的維護(清掃及注油)等時、有時需要使用手動操作NSR的各部分。
        此章主要説明手動操作Wafer stage及Reticle stage的方法。
        為了実行手動操作、需要使用DIAGNOSE指令内的BACKUP。
        此BACKUP還包含以下所示的手動操作以外的功能。
            ① 手動操作Stage
                  ・Wafer stage
                  ・Reticle stage
            ② 確認軟件的状態
                  ・讀入Unit状態
                  ・顕示Unit軟件的版本
                  ・顕示MCSⅡ的版本
            ③ 装置各部分的単独動作
                  ・確認自動対焦平行平板玻璃的動作
                  ・各種快門的Open/Close動作
                  ・Stage等的界限範囲駆動
                  ・曝光快門的単独動作(測定実際曝光時間)
                  ・Wafer的OF信号的確認動作
                  ・確認Stage各部的復原及真空的動作
2.1 Stage的手動操作
        説明Wafer stage及Reticle stage的手動操作的方法。
2.1.1 手動操作的実行順序
        ① 選択DIAGNOSE指令
        ② 選択BACKUP。
        ③ 選択MANUAL OPERATION。
        ④ 進行Wafer stage的手動操作
              ・此画面所顕示的時点、
                Wafer stage的手動操
                作己処于使用可能的状
                態。可以通過操縦杆移
                動Wafer stage。
              ・而且、還可以将Wafer
                stage或Reticle stage
                移動指定位置
                (詳細内容請参照2.1.2 ~ 2.1.3)
          想要結束手動操作時、按下PF2鍵、按④ ~ ①的順序回到指令菜単。
2.1.2 位置指定方法
        実行MANUAL OPERATION時、可以按以下順序将Wafer stage高速移動到指定位置(位置指定)。
        ① 移動光標
            将光標移動到2.Wafer Stage
            Position項目上。
        ② 指定位置
            由表2-1所示的(1) ~ (21)中、
            指定想要移動Wafer stage的
            位置。
            (各位置的詳細内容請参照表
            2-1)
        ③ 按下PF1鍵
            通過按下PF1鍵、Wafer
            stage移動到②指定的位置。
            由位置指定Wafer stage高速移動後、可以通過操縦杆進行手動操作。
    表2-1
氟化镁
選択項目
Wafer stage的移動位置
(1) FRONT-RIGHT=LP
铸造设备与工艺将Wafer stage移動到右前面
(2) FRONT-LEFT
将Wafer stage移動到左前面
(3) BACK-RIGHT
将Wafer stage移動到右後面
(4) BACK-LEFT
将Wafer stage移動到左後面
(5) STAGE-CENTER
将Wafer stage移動到中央
(6) MIRROR-POSI
将Fiducial mark鏡面移動到Reticle顕微鏡的下面
(参照2.1.3)
(7) LAMP-MONITOR
照射量的測量位置(LC用)
(8) ILLM-CHECK-POS
照度均一性的測定位置
(9) RA-X
将Fiducial mark移動到Reticle顕微鏡X的下面
(10) RA-Y
将Fiducial mark移動到Reticle顕微鏡Y的下面
(11) RA-T
将Fiducial mark移動到Reticle顕微鏡θ的下面
(12) LSA-X
将Fiducial mark移動到LSA光束X的下面
(13) LSA-Y
将Fiducial mark移動到LSA光束Y的下面
(14) WGA-Y
将Fiducial mark移動到Wafer顕微鏡Y的下面
(15) WGA-T
将Fiducial mark移動到Reticle顕微鏡θ的下面
(18) FIA-X
罗马规约将Fiducial mark移動到FIA顕微鏡X的下面
(19) FIA-Y
将Fiducial mark移動到FIA顕微鏡Y的下面
vissim
(20) LIA-X
将Fiducial mark移動到LIA光束X的下面
(21) LIA-Y
将Fiducial mark移動到LIA光束Y的下面
        * (16), (17)為空欄
2.1.3 Reticle系統的観察方法
        Reticle顕微鏡装有快門等、通常的情況下不能観察。
超市        通過Reticle顕微鏡、想要観察Fiducial mark或Reticle alignment mark時、需要打開Reticle
        快門等。
        ① 指定打開Reticle快門
            将光標移動到1. Reticle
            shutter & Aperture & RA
            sensor項目上。
        ② 確認快門打開
            確認括号内的顕示是否由
            OFF変成ON。
              OFF : Reticle快門関閉
              ON  : Reticle快門打開
        ③ 将観察系統切換到Reticle上
            操作操作台上的按鈕、使顕示
            器顕示出Reticle顕微鏡的画
定滑轮和动滑轮            面。
                ・按下ITV按鈕。
                ・按下RETICLE按鈕。
                ・顕示器切換成Reticle
                  顕微鏡的顕示画面。
            若再一次実行① ~ ③的操作(顕示由ON変成OFF)、則可以関閉Reticle快門。
2.1.4 操作台的使用方法
        (1) 操縦杆
              是駆動Wafer stage或Reticle stage的操縦杆。
              可以駆動X / Y /θ三個方向。
              可以使用右側的操縦杆駆動X/Y方向、左側的操縦杆駆動θ方向(回轉方向)。

本文发布于:2024-09-20 16:26:04,感谢您对本站的认可!

本文链接:https://www.17tex.com/xueshu/34441.html

版权声明:本站内容均来自互联网,仅供演示用,请勿用于商业和其他非法用途。如果侵犯了您的权益请与我们联系,我们将在24小时内删除。

标签:操作   位置   移動   指定   手動   使用   確認   動作
留言与评论(共有 0 条评论)
   
验证码:
Copyright ©2019-2024 Comsenz Inc.Powered by © 易纺专利技术学习网 豫ICP备2022007602号 豫公网安备41160202000603 站长QQ:729038198 关于我们 投诉建议