降冰片烯型聚合物,其组合物和使用这样的组合物的光刻方法[发明专利]

新版限塑令出台专利名称:降冰片烯型聚合物,其组合物和使用这样的组合物的光刻方法
专利类型:发明专利
发明人:P·坎达纳拉什切,藤田一义,S·史密斯,L·F·罗迪斯
申请号:CN201180024123.3
申请日:20110405
公开号:CN102892746A
公开日:
20130123
专利内容由知识产权出版社提供
saibo摘要:根据本发明的实施方案提供了用于浸入式光刻方法的非自可成像降冰片烯型聚合物,制备这样的聚合物的方法,使用这样的聚合物的组合物和利用这样的组合物的浸入式光刻方法。更具体地,本发明的实施方案涉及用于在浸入式光刻方法中形成覆盖光刻胶层的顶部涂层的降冰片烯型聚合物及其方法。
申请人:普罗米鲁斯有限责任公司,住友电木株式会社
地址:美国俄亥俄
长谷川泉国籍:US
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代理机构:中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
软件仿真代理人:汪宇伟

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标签:专利   方法   浸入   光刻   冰片
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