六甲基⼆硅氮烷和六甲基⼆硅胺烷有什么区别吗？
六甲基⼆硅胺烷
六甲基⼆硅胺烷含量(%)：≥99.0 六甲基⼆硅氧烷含量(%)：≤0.7
三甲基硅醇含量%：≤ 0.3 闪点：27℃
沸点：126℃⾊度：≤10
注：特级品含量≥99.5%
⽤ 途：特种有机合成。阿⽶卡星、盘尼西林、头孢霉素、氟尿嘧啶及各种青霉素衍⽣物等合成过程中的甲硅烷基化。硅藻⼟、⽩炭⿊、钛等 摩托罗拉mt887粉末的表⾯处理。半导体⼯业中光致刻蚀剂的粘结助剂。 分⼦式：(CH3)3SiNHSi(CH3)3
分⼦量：161.39
性 状：⽆⾊透明液体、⽆毒、略带胺味。
技术指标：
密度(25℃)g/cm3：0.770—0.780 折光率()：1.408±0.002
包涵体蛋白
包 装：镀锌铁桶或衬塑铁桶，净重：160kg。
注意事项：
1、贮存时，不准接触明⽕，应保持通风、⼲燥，防⽌阳光照射，贮存温度 -50℃～45℃。
2、运输时，应避免碰撞，防⾬淋、⽇晒。按危险品贮存和运输。
3、该产品易于⽔解，遇酸性物质易发⽣剧烈反应，应保存在密闭容器中。 贮存期：1年
六甲基⼆硅氮烷
⽤ 途：特种有机合成。阿⽶卡星、盘尼西林、头孢霉素、氟尿嘧啶及各种青霉素衍⽣物等合成过程中的甲硅烷基化。硅藻⼟、⽩炭⿊、钛等
唐山冶金矿山机械厂
sealed lead acid battery
粉末的表⾯处理。半导体⼯业中光致刻蚀剂的粘结助剂。
分⼦式：(CH3)3SiNHSi(CH3)3
分⼦量：161.39
企业形象推广性 状：⽆⾊透明液体、⽆毒、略带胺味。
技术指标：
密度(25℃)g/cm3：0.770—0.780 折光率()：1.408±0.002
六甲基⼆硅氮烷含量(%)：≥99.0 六甲基⼆硅氧烷含量(%)：≤0.7
三甲基硅醇含量%：≤ 0.3 闪点：27℃
沸点：126℃⾊度：≤10
注：特级品含量≥99.5%
包 装：镀锌铁桶或衬塑铁桶，净重：160kg。
注意事项：
死狂
1、贮存时，不准接触明⽕，应保持通风、⼲燥，防⽌阳光照射，贮存温度
-50℃～45℃。
2、运输时，应避免碰撞，防⾬淋、⽇晒。按危险品贮存和运输。
3、该产品易于⽔解，遇酸性物质易发⽣剧烈反应，应保存在密闭容器中。
贮存期：1年 六甲基⼆硅氮（胺）烷
分⼦式：(CH3)3SiNHSi(CH3)3
分⼦量：161.39
性 状：⽆⾊透明液体、⽆毒、略带胺味。 技术指标：
密度(25℃)g/cm3：0.770—0.780 折光率()：1.408±0.002
注意事项：
1、贮存时，不准接触明⽕，应保持通风、⼲燥，防⽌阳光照射，贮存温度
-50℃～45℃。
2、运输时，应避免碰撞，防⾬淋、⽇晒。按危险品贮存和运输。
3、该产品易于⽔解，遇酸性物质易发⽣剧烈反应，应保存在密闭容器中。
六甲基⼆硅氮烷含量(%)：≥99.0 六甲基⼆硅氧烷含量(%)：≤0.7
三甲基硅醇含量%：≤ 0.3 闪点：27℃
沸点：126℃⾊度：≤10
注：特级品含量≥99.5%
⽤ 途：特种有机合成。阿⽶卡星、盘尼西林、头孢霉素、氟尿嘧啶及各种青霉素衍⽣物等合成过程中的甲硅烷基化。硅藻⼟、⽩炭⿊、钛等
粉末的表⾯处理。半导体⼯业中光致刻蚀剂的粘结助剂。包 装：镀锌铁桶或衬塑铁桶，净重：160kg。
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