薄膜电阻率理论

服务质量模型金属薄膜电阻率表面粗糙度、残余应力的关系
1,邓龙江1,徐可为2Jian Lu3
(1. 电子科技大学 电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川中国足健会 成都 610054)
(2. 西安交通大学,陕西 西安 710049)
金属电阻形成的根源是自由电子发生碰撞,从而失去了从外电场获得的定向速度。这种碰撞可能发生于电子-晶格、电子-杂质、电子-晶界、电子-石门一中校长苏光表面。在块体材料中,电子-表面碰撞的次数在总的碰撞次数中所占比率极小,可以忽略,因而块体材料的电阻率与物体尺寸无关。但对薄膜而言,当其表面特征尺寸可与该温度下电子自由程相当时,电子-薄膜的表面碰撞为非镜面反射(即反射方向与入射方向无关,亦即漫反射),电阻率就会随表面状态改变。
车辆排队长度在薄膜材料中,由于厚度很小,所以在电子表面碰撞过程中的电子损失速度不可忽略。由此对薄膜材料的电阻率造成影响。
通常情况下电阻率随粗糙度的增大而增大。
法奇斯(Fuchs).桑德海默尔(Sondheimer)理论:F-S
式(1)是在假设薄膜电子完全发生漫反射时的电阻率。实际情况下反射率与基底粗糙度有
战栗者关,粗糙度越大,发生漫反射比例越高,当表面粗糙度为0或者镜面时,将发生完全镜面反射,此时根据式(1)可得到薄膜电阻与块状电阻率相等的关系。设镜面反射所占比例为P,则此时薄膜电阻率表达式为:
  研究粗糙度对薄膜电阻率的影响:
大运高速电阻率随残余应力的增大而增大。与晶体取向可能有关。残余应力增加,薄膜晶体扭曲越严重,晶体对电子造成的散射越显著。
   

本文发布于:2024-09-24 06:19:26,感谢您对本站的认可!

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