AMAT PRODUCER UV CHAMBER预防性保养操作说明书
1目的： (2)
2适用范围： (2)
3相关术语：无 (2)
雨鸟喷头
事件4作业安全卫生与环保须知事项： (2)
6维护操作具体步骤： (4)
7AMAT PRODUCER UV CHAMBER 预防性保养CHECK SHEET (18)
1目的：
Producer UV chamber维护保养操作方法，根据本手册进行设备的预防性维护保养，使之能够满足良好的、稳定的工艺要求。 2适用范围：
2.1.适用机台：AMAT Producer海外卖松花蛋被查
2.2.机台结构与外观：
3相关术语：无
4作业安全卫生与环保须知事项：
4.1.作业环保注意事项：
4.1.1.工艺废气排放：NA
4.1.2.工艺废水排放：NA
4.1.3.工艺噪音排放：NA
4.2.1.物理性危害：NA
4.2.2.机械危害：
4.2.2.1.高温
4.2.2.2.移动的部件
4.2.2.3.重物体的搬运
4.2.3.噪音危害：NA
4.2.4.化学性危害：
4.2.4.1.N2：不燃气体；密闭空间释放会造成窒息。 4.2.4.2.He：不燃气体；大量吸入时会导致窒息。
4.2.4.3.乙二醇：吸入蒸气和雾滴会对鼻、咽喉造成刺激，浓度高于56ppm，会因喉
咙的刺激，无法忍受太久；急救措施将患者移到新鲜空气处，如果必要的话，
实施口对口人工呼吸或机械通风，并立即就医。皮肤接触液体会造成刺激； 急救措施迅速用大量的清水冲洗15分钟以上，脱掉污染的衣物、鞋子以及皮南京邮电大学张代远
饰品(如表带、皮带)，并立即就医。眼睛接触液体会造成刺激，眼皮发炎，
但不会造成永久性损害。急救措施：立即撑开眼皮，以大量的清水冲洗受污
染的眼睛至少15分钟以上。
4.2.4.4.O3: 不燃气体具有强烈的刺激性，，它主要是刺激和损害深部呼吸道，并损
害中枢神经系统，对眼睛也有轻度损害作用。
4.3.作业职业健康注意事项：
接触化学品请佩带防护眼镜和防酸手套，如有必要还需穿戴防护服。机台正常PM时需要穿戴乳胶手套，不需要穿戴SCBA，但在处理到机台残留粉尘或使用到酒精的时候需要穿戴防毒面具和护目安全眼镜。 4.4.操作人员应注意的安全事项：
4.4.1.
4.4.2.
护目镜可多次使用。
4.5.污染预防措施
4.5.1.处理无尘布
一般无尘布，无害废弃物，放置普通垃圾桶内。沾有DI water的无尘布，无害
废弃物，放置普通垃圾桶内。沾有酒精的无尘布，酒精具有易燃性，放置红垃
圾桶内。
4.6.安全事故处理程序
因设备而发生任何安全事故时，按EMO；发生紧急事故请联络ERC(电话：6403，5110)。
因其他原因发生事故时，可以请相关人员帮忙。
4.7.其他注意事项：无
5维护频度的指定：
6维护操作具体步骤：
6.1.维护前准备事项
6.1.1.更换parts：1/4’ Ni gasket。臭氧（O3）的相关管路只能用SST的gasket
3320-01163 GSKT VCR 1/4 SST CONTOURED RTNR.
6.1.2.维护材料及工具：无尘布；DI water；内六角；公制扳手；Clear lid；Cable tie；
Leveling tool；Heater leveling tool；PM推车；安全围栏；废水回收车。相关的工
具（内六角，扳手，螺丝批等）注意前后段必须分开使用.
6.1.3.PPE：乳胶手套。
6.2.维护过程注意事项
6.2.1.打开chamber lid时候，需要等Chamber的温度低于80℃后才能打开Chamber，
以免人员烫伤以及process kit损坏。
6.2.2.设备使用50%去DI water、50%乙二醇的混合物作为冷却液，操作时请注意安全。
6.2.3.打开或关闭chamber时要注意cable、水管和气管等可能被损坏的部件。
6.2.4.拆开O-ring密封面时要当心O-ring位置，避免O-ring掉了；和O-ring密封的金
属面不能划伤，划伤严重会密封不好。
6.2.5.PCW、heater exchanger等循环液体的断开顺序为：请断开supply，再断开return；
而导通时，请依照相反的顺序。水管内的液体排清后，需要用手套和cable tie将
端口扎住，避免残留液体流出。
6.2.6.无尘布沾DI water的量为无尘布湿润，不要沾太多或者太少。所有parts装回之
前都需要用吹去表面particle和水汽。
6.2.
7.所有拆下的process kit都需要摆放在干净的无尘布上，减少磨损和沾污。擦拭
process kit时，如果是有很多细孔的parts，例如block plate、face plate、mix insert
等，注意不要用无尘布擦拭，只能用吹扫。
6.2.8.放在振荡槽内振荡的process kit在振荡结束后要及时用N2吹干，不能让kit
表面的水自然风干，在kit表面形成水渍，如果发现表面的水已风干的，则先用
水将kit表面完全润湿后再用吹干。最后放入烘箱烘烤。注意振荡槽的前
后段分开使用，严禁混用。
6.2.9.在烘箱烘烤的kit，如果烘烤结束后将kit及时取出，如果2小时内不使用的则先
将kit放入N2柜，不要将kit在烘箱内烘烤时间超过4小时。
6.2.10.拆除或者安装螺丝时都要按照对称（对角或者星形）的顺序。所有拆下的螺丝都
要放在相应的螺丝盒内，严禁乱放、螺丝。
6.2.11.使用安全围栏将维护所需区域围好，时刻保持维护现场的环境整齐。使用过的无
尘布丢在相应的垃圾桶内；擦拭Process kits或腔体后的无尘布需丢进红垃圾桶
内。
6.3.Twin UV chamber wet clean
可操作性
此说明书仅以chamber A为例，其余chamber操作相同。
6.3.1.设备MES系统状态更改
6.3.1.1.通知制造部相关人员，告知需要维护的设备编号及借机时间，制造部相关人
员同意借机后请制造部切换需维护设备状态。
6.3.1.2.在ECMS系统上将需要维护的chamber状态改为PM。
6.3.2.Chamber wet clean前准备
6.3.2.1.用户登录：如设备操作处于未登陆状态，请在登录界面中输入用户名（User
name）和密码（Password），如图1。
图1
唐建华简历6.3.2.2.记录wafer count：在操作界面中点击GoTo→Maintenance→Preventive→
Chamber A，如图2。进入Preventive maintenance界面。将所显示的Side 1，
Side 2中Wfr# after wet clean数据记录在相应表格内，如图3。
6.3.2.3.Wafer count清零：Preventive maintenance界面中，点击Side 1，Side 2 Wfr# after
wet clean数据后面的Reset按钮，如图3。
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