常用的光学薄膜制备实验设备早睡早起身体会有哪些变化
邯郸市委书记【摘要】真空镀膜法制备的薄膜质量好，生产率高，适应的范围广，已经成为光学薄膜制备的最重要的方法了，其中使用最普遍的两种方法是热蒸发沉积和溅射沉积[1],常用制膜设备包括真空镀膜设备、分光光度计和石英晶体振荡膜厚监控仪。 【关键词】光学薄膜;实验设备
1、真空镀膜设备
我最美丽的时候一般真空镀膜实验可在箱式真空镀膜机上进行的，其主要由真空镀膜室和真空抽气系统组成: (1)真空镀膜室包括电子、电阻加热蒸发器、坩埚、挡板、离子源、基片架、真空测量管、热电偶、比较片和石英晶振片等构成。所有的这些装置都置于不锈钢制成的钟罩内。
(2)真空抽气系统主要由分子泵、机械泵、预阀、高阀、低阀、放气阀，截至阀等组成。
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蒸发室采用不锈钢制造，其外壁不锈钢水路可通冷、热水，对真空室壁进行冷却或加热；蒸发室底板上布置蒸发源和各种接头。电子安装于蒸发室底板上，其安装高度和距蒸发室中e-r图
心距离可根据工艺要求进行调整，蒸发室上方安装有测量低真空的热偶管，测量高真空的电离管以及晶体振动仪膜厚控制系统的晶体探头，控电柜用来控制真空系统、离子轰击、烘烤、电阻蒸发、电子束流及偏转操作、光学膜厚测量。
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2、分光光度计
一般紫外可见分光光度计主要包括光源、分光系统、检测系统等几个部分。测量时，首先让光从样品架的空格中通过，测得其光强为I1，然后把样品插入光路中，让光从样品上通过，测得其光强为I2，将有膜片时所采集的数据除以没有放置膜片时的数据，就得到薄膜(连同基片)的透射比曲线了。
光学薄膜的透射光谱特性是用光强透射率关于波长的分布曲线来表征的[2]。使用分光镜时，应注意使测试样品的有膜一侧朝向光源，不可放反，并留意薄膜的分布情况，使要测的区域有代表性。
3、石英晶体振荡膜厚监控仪
一般实验采用石英晶体振荡膜厚监控仪实时监控薄膜几何厚度和沉积速率。薄膜的厚度是
薄膜最重要的参数之一，因为它影响着薄膜的各种性质及其用途。实际应用的薄膜厚度很小，通常在几个纳米到几个μm之间。薄膜沉积速率的控制也是制膜过程中的一个重要的参数，它直接影响着薄膜的结构和特性，只要是能在制膜过程中有连续反应膜厚变化能力的测试方法，再计及时间间隔，都可用作沉积速率的测定和监控。石英晶体振荡法利用了石英晶体振动的固有频率随着它在上面沉积的膜厚而变化，并在一定范围内二者有线性关系的原理来监视薄膜厚度，是一种目前最常用的膜厚与沉积速率监控的方法。
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