1 范围
本标准规定了硅单晶腐蚀片的牌号及分类、要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单（或合同）内容。 本标准适用于直拉法、悬浮区熔法（包括区熔中子嬗变和气相掺杂）制备的硅单晶研磨片经化学腐蚀液去除表面损伤层后制备的酸腐蚀片和碱腐蚀片（以下简称腐蚀片）。产品主要用于制作晶体管、整流管、特大功率晶闸管、光电器件等半导体元器件或进一步加工成硅抛光片。 下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件，仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。
GB/T 1550 非本征半导体材料导电类型测试方法
GB/T 1555 半导体单晶晶向测定方法
GB/T 2828.1 计数抽样检验程序 第1部分 按接收质量限（AQL）检索的逐批检验抽样计划
GB/T 6616 半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻率测试方法 非接触涡流法
GB/T 6618 硅片厚度和总厚度变化测试方法
GB/T 6620 硅片翘曲度非接触式测试方法
GB/T 11073 硅片径向电阻率变化的测量方法
GB/T 12962 硅单晶
GB/T 12965 硅单晶切割片和研磨片
GB/T 13387 硅及其它电子材料晶片参考面长度测量方法
GB/T 13388 硅片参考面结晶学取向X射线测试方法
GB/T 14140 硅片直径测量方法
GB/T 14264 半导体材料术语
GB/T 14844 半导体材料牌号表示方法
GB/T 20503 铝及铝合金阳极氧化 阳极氧化膜镜面反射率和镜面光泽度的测定 20°、45°、60°、85°角度方向
GB/T 26067 硅片切口尺寸测试方法
GB/T 29505 硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法
GB/T 30453 硅材料原生缺陷图谱
YS/T 26 硅片边缘轮廓检验方法
YS/T 28 硅片包装
3 术语和定义
GB/T 14264 和GB/T 30453界定的以及下列术语和定义适用于本文件。
3.1
表面光泽度 surface glossiness
在规定的光源和接收器张角的条件下，样品在镜面反射方向的反射光光通量与标准陶瓷板样品在该镜面反射方向的反射光通量之比。光泽度值通常以数值表示，单位是Gs（光泽单位）。
3.2
表面反射率 surface reflectivity
在规定的光源和接收器张角的条件下，样品在镜面反射方向的反射光光通量与入射光光通量之比，其数值通常以百分数表示。
3.3
表面腐蚀晶胞 surface etched unit cell
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硅单晶片的不同晶面腐蚀速率不同，腐蚀过程中晶胞的三维形貌发生变化后在硅单晶片表面形成的图形。通过显微镜能够观察硅单晶片表面腐蚀晶胞的形貌并测量腐蚀晶胞的长、宽等参数。
表面腐蚀晶胞的形貌强烈依赖于硅单晶片的晶向和掺杂剂浓度、化学腐蚀液性质、腐蚀工艺条件等。酸腐蚀和碱腐蚀的硅单晶片表面腐蚀晶胞具有完全不同的形貌，详见附录A。
4 牌号及分类
4.1 牌号
腐蚀片的牌号表示方法参照GB/T 14844的规定。
4.2 分类
腐蚀片按腐蚀液的种类分为酸腐蚀片、碱腐蚀片两种。
腐蚀片按导电类型分为N型、P型两种。
腐蚀片按硅单晶的生长方法分为直拉（CZ）法和悬浮区熔（FZ）法两大类。
腐蚀片按直径一般分为Φ50.8mm、Φ76.2mm、Φ100mm、Φ125mm、Φ150mm和Φ200mm六种。非标准直径由供需双方协商。
5 要求
工业机器人装配5.1 材料
腐蚀片生产用硅单晶的导电类型、掺杂剂、电阻率及其径向变化、氧含量、碳含量、少数载流子寿命及晶体完整性应符合GB/T 12962的规定。
5.2 电学性能
腐蚀片的导电类型、电阻率及其径向变化应符合GB/T 12962的规定。
5.3 几何参数
腐蚀片的几何参数应符合表1的规定。表1中未列出的几何参数，可由供需双方协商。
表1 几何参数
项目 | 要求 |
直径，mm | 50.8 | 76.2 | 100 | 125 | 150 | 200 |
直径允许偏差，mm | ±0.4 | ±0.5 | ±0.5 | ±0.3 | ±0.3 | ±0.2 |
中心点厚度，μm | ≥180 | ≥180 | ≥200 | ≥250 | ≥300 | ≥500 |
厚度允许偏差，μm | ±10 | ±10 | ±10 | ±10 | ±10 | ±10 |
总厚度变化a，μm | ≤5 | ≤7 | ≤7 | ≤7 | ≤7 | ≤6 |
jerk翘曲度，μm | ≤25 | ≤30 | ≤40 | ≤40 | ≤50 | ≤50 |
a 反射率要求比较高的酸腐蚀片的总厚度变化应不大于10μm，或由供需双方协商确定。 |
| | | | | | |
5.4 晶向及晶向偏离度
腐蚀片的表面晶向为{100}、{111}。
腐蚀片的表面晶向的偏离度应符合GB/T 12965当量的规定。
5.5 基准标记
直径小于等于150mm的腐蚀片主、副参考面的长度和取向应符合GB/T 12965的规定。
直径为200mm的腐蚀片分有切口的腐蚀片和有参考面的腐蚀片两种，均无副参考面，有参考面的用主参考面直径表征基准标记。切口大小和主参考面的大小、取向应符合GB/T 12965的规定。
腐蚀片是否制作参考面，由供需双方协商确定并在合同中注明。
5.6 表面质量
腐蚀片崩边的径向深度和周边边长应不大于0.3mm，每片腐蚀片上崩边总数应不超过3个。每批产品中崩边腐蚀片数应不超过总片数的3%。
腐蚀片不允许有裂纹、缺口。
腐蚀片表面应无刀痕、无划伤。
腐蚀片经清洗干燥后，表面应洁净、无亮点、无沾污。
电阻率不大于0.020Ω·cm的腐蚀片，表面允许有杂质条纹。
表面取向为{100}的酸腐蚀片，表面允许有轻微泽不均，或由供需双方协商确定。
腐蚀片的表面粗糙度、表面光泽度、表面反射率的要求由供需双方协商确定。
碱腐蚀片的表面腐蚀晶胞最大边长由供需双方协商确定。
寻中国最美七仙女5.7 边缘轮廓
经边缘倒角后的腐蚀片圆周上所有点（有切口时，切口内的点除外）应处于使用YS/T 26测量模板的清晰区域内，且腐蚀片边缘轮廓的任何部位不允许有锐利点或凸起物，特殊要求可由供需双方协商确定。
5.8 其他
需方如对腐蚀片的技术指标有其他要求，应由供需双方协商并在合同中注明。
6 试验方法
6.1 腐蚀片导电类型的检验按GB/T 1550的规定进行。
6.2 腐蚀片电阻率的检验按GB/T 6616的规定进行。
6.3 腐蚀片径向电阻率变化的检验按GB/T 11073的规定进行。
6.4 腐蚀片直径及允许偏差测量按GB/T 14140的规定进行。
6.5 腐蚀片中心点厚度、厚度允许偏差和总厚度变化的测量按GB/T 6618的规定进行。
6.6 腐蚀片翘曲度的测量按GB/T 6620的规定进行。
新技术6.7 腐蚀片晶向及晶向偏离度检验按GB/T 1555的规定进行。
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