调节基板温度来改进关键尺寸(CD)的均匀性[发明专利]

专利名称:调节基板温度来改进关键尺寸(CD)的均匀性
专利类型:发明专利
台湾问题发明人:基思·威廉·加夫,哈米特·辛格,基思·科门丹特,瓦希德·瓦赫迪
申请号:CN201510733658.8
集美大桥
申请日:20101213
公开号:CN105428295A
公开日:
20160323
专利内容由知识产权出版社提供淮南三中
wdc2010
摘要:一种具有带有多个独立可控加热器区域的基板支承组件的等离子体蚀刻系统。该等离子体蚀刻系统被配置用来控制预定位置的蚀刻温度,以便可以补偿关键器件参数蚀刻前和蚀刻后的不均匀性。离子刻蚀
申请人:朗姆研究公司
地址:美国加利福尼亚州
国籍:US
代理机构:上海胜康律师事务所
wikipedia代理人:李献忠

本文发布于:2024-09-25 07:24:59,感谢您对本站的认可!

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