全抛釉产品配方调节的研究与探讨

全抛釉产品配方调节的研究与探讨
作者:刘德宁 罗宏 龙海仁 周燕
来源:《佛山陶瓷》2021年第02期
爬山猴
        摘 要:全抛釉陶瓷砖是采用完全抛光工艺的一种釉面砖产品。由于它的纹理丰富、清
晰,发鲜艳,可以很好的模拟石材的表面肌理图案,受到广大消费者的青睐,成为了市场上主流的建筑装饰材料。在全抛釉陶瓷砖的生产过程中,釉料配方是产品质量影响的主要因素之一。作者通过多年的全抛釉产品生产经验的积累,总结了全抛釉配方调整的一些心得体会,希望可以在全抛釉产品生产缺陷的改善上提供参考借鉴。时间膨胀
CME
        关键词:全抛釉;配方调整;缺陷改善
甲壳素
        1 前 言
        全抛釉陶瓷砖生产工艺主要采用的是双淋釉中彩工艺,即前面淋底釉,中间进行图案装饰,最后淋透明釉,烧制成型后再进行抛光处理。双淋釉工艺如果釉料温度控制不恰当,极易产生釉面针孔、痱子、凹釉等缺陷。由于装饰图案上淋了一层厚厚的透明釉,透明釉的配方对图案的发以及细节的展现起到了较为关键的作用。全抛釉产品采用了完全抛光处理,将透明釉中的微小气泡抛开后,对产品的耐酸碱及防污都会产生一定的影响。甚至釉料配方体系不合理会加剧产品的辊棒印、变形等缺陷。所以合理的釉料配方对生产全抛釉系列产品十分关键。
        2抛釉配方体系的分析
        抛釉钠锶体系防污更好,更适合快烧窑炉。以前窑炉产量不高时,抛釉体系大多是钾钡体系,釉料在窑炉高温区有足够时间熔融排气。钾钡体系抛釉的优势是发好(主要是红),劣势是防污和耐酸略差。防污差主要是由于抛釉熔融性能不好,耐酸差则是因为抛釉硅含量偏低导致。钾钡体系抛釉,高温粘度大,流动性不好,高温时表面张力大,不利于排气,防污略差。钾钡体系抛釉,配方中对硅含量比较敏感,提高硅含量来提高耐酸的话,毛孔会增多,从而防污会变差。钠锶体系抛釉更适应快烧,钠锶体系抛釉相比于钾钡体系抛釉,熔融性能更好,高温粘度相对较小,表面张力小,利于排气。钠锶体系抛釉可以把抛釉的铝、硅含量同时提高,耐酸更好,釉面缺陷少。表1为江西某陶瓷厂抛釉配方化学成分调整前后对比,钠锶体系防污效果更好,表面缺陷更少。
电影马本斋>引纸绳

本文发布于:2024-09-22 11:23:49,感谢您对本站的认可!

本文链接:https://www.17tex.com/xueshu/123366.html

版权声明:本站内容均来自互联网,仅供演示用,请勿用于商业和其他非法用途。如果侵犯了您的权益请与我们联系,我们将在24小时内删除。

标签:配方   体系   产品   釉料   防污   缺陷
留言与评论(共有 0 条评论)
   
验证码:
Copyright ©2019-2024 Comsenz Inc.Powered by © 易纺专利技术学习网 豫ICP备2022007602号 豫公网安备41160202000603 站长QQ:729038198 关于我们 投诉建议