污水处理设备及其RPIR的制作方法

污水处理设备及其rpir
技术领域
1.本技术涉及污水处理技术领域，具体而言，本技术涉及一种污水处理设备及其rpir。

背景技术：

2.在污水处理生物脱氮技术中，常用的活性污泥法的a/o工艺(anoxic-oxic，缺氧好氧工艺)和a/a/o工艺(anaerobic-anoxic-oxic，厌氧—缺氧—好氧生物脱氮除磷工艺)在生物池后端都需要设置二次沉淀池，而二次沉淀池的占地面积较大，这就造成了整体工艺占地面积大的问题。
3.目前a/a/rpir污水处理工艺，即是采用在rpir池(rapid purification of sewage using sedimentation integrated rectangular airlift loop reactor，耦合沉淀矩形气升环流反应器)内设置环流澄清器，能够高效完成生化反应和泥水分离过程，直接省去上述两种工艺所需的二次沉淀池。
4.虽然a/a/rpir污水处理工艺相比于a/o工艺或a/a/o工艺占地面积减小，但是a/a/rpir污水处理工艺仍然存在占地面积较大的问题。

技术实现要素：

5.本技术针对现有方式的缺点，提出一种污水处理设备及其rpir，用以解决现有a/a/rpir污水处理工艺存在占地面积较大的技术问题。
6.第一个方面，本技术实施例提供了一种污水处理设备的rpir，包括：池体、多个曝气装置和多个填料装置；
7.所述池体包括好氧单元和缺氧单元，所述曝气装置位于所述好氧单元，所述填料装置位于所述缺氧单元，所述填料装置与所述池体的底部的垂直距离大于所述曝气装置与所述池体的底部的垂直距离，所述填料装置在所述池体的底部的正投影与所述曝气装置在所述池体的底部的正投影互不交叠。
8.可选地，相邻所述填料装置之间的区域位于所述曝气装置的正上方。
9.可选地，所述填料装置包括填料和悬挂固定件，所述悬挂固定件用于固定所述填料，所述悬挂固定件与所述池体连接。
10.可选地，还包括多个环流澄清器，所述环流澄清器与所述池体的底部的垂直距离大于所述填料装置与所述池体的底部的垂直距离。
11.可选地，所述环流澄清器在所述池体的底部的正投影覆盖所述填料装置在所述池体的底部的正投影。
12.可选地，还包括配水渠，所述配水渠设置在所述池体内顶部的第一侧边，所述配水渠用于与所述污水处理设备的缺氧池连通，所述配水渠在所述池体的底部的正投影覆盖所述填料装置在所述池体的底部的正投影。
13.可选地，还包括回流渠，所述回流渠设置在所述池体内顶部的第二侧边，所述第二
侧边与所述第一侧边相对设置；所述回流渠用于与所述缺氧池连通，所述回流渠在所述池体的底部的正投影覆盖所述填料装置在所述池体的底部的正投影。
14.可选地，所述曝气装置包括穿孔管曝气装置、微孔曝气装置或射流曝气装置中的至少一种。
15.可选地，相邻所述环流澄清器之间的区域属于所述好氧单元，所述环流澄清器的内部包括泥水分离区。
16.第二个方面，本技术实施例提供了一种污水处理设备，该污水处理设备包括厌氧池、缺氧池和第一个方面所述的rpir，所述厌氧池与所述缺氧池连接，所述缺氧池与所述rpir连接。
17.本技术实施例提供的技术方案带来的有益技术效果包括：
18.在rpir内设置填料装置，填料装置能够利于在rpir内形成缺氧单元，则能够在rpir内进行硝化-反硝化反应或者同步硝化-反硝化反应，能够利于减少缺氧池的占地面积，比如减少20％-40％，进而能够减小a/a/rpir污水处理工艺整体占地面积，以及能够降低能耗和节省碳源。
19.以及本技术的填料装置在池体的底部的正投影与曝气装置在池体的底部的正投影互不交叠，能够保证避免氧气进入到填料装置内，有利于保证填料装置为缺氧环境，能够保证硝化-反硝化反应或者同步硝化-反硝化反应的进行。
20.本技术附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。
附图说明
21.本技术上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
22.图1为本技术实施例提供的一种污水处理设备的俯视结构示意图；
23.图2为图1中aa处的剖面结构示意图。
24.附图标记说明：
25.1-污水处理设备；
26.11-rpir；
27.111-池体；1111-好氧单元；1112-缺氧单元；1113-第一侧边；1114-第二侧边；
28.112-曝气装置；
29.113-填料装置；1131-填料；1132-悬挂固定件；
30.114-环流澄清器；1141-泥水分离区；
31.115-配水渠；
32.116-回流渠；
33.12-缺氧池；
34.13-厌氧池。
具体实施方式
35.下面结合本技术中的附图描述本技术的实施例。应理解，下面结合附图所阐述的
实施方式，是用于解释本技术实施例的技术方案的示例性描述，对本技术实施例的技术方案不构成限制。
36.本技术领域技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本技术的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但不排除实现为本技术领域所支持其他特征、信息、数据、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组合等。这里使用的术语“和/或”指该术语所限定的项目中的至少一个，例如“a和/或b”可以实现为“a”，或者实现为“b”，或者实现为“a和b”。
37.为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本技术实施方式作进一步地详细描述。
38.本技术的研发思路包括：在污水处理生物脱氮技术中，主流工艺仍然是活性污泥法的a/o工艺(anoxic-oxic，缺氧好氧工艺)或a/a/o工艺(anaerobic-anoxic-oxic，厌氧—缺氧—好氧生物脱氮除磷工艺)，但这两种工艺在生物池后端都需要设置二次沉淀池进行泥水分离后才能完成整个生化过程，而二次沉淀池的占地面积几乎相当于前面的生物池单元占地面积40％左右，这就造成了整体工艺占地面积巨大，与目前许多新建污水处理厂无地可建的局面产生冲突。目前，市面上出现了一种无独立二次沉淀池的a/a/rpir工艺，工程应用亦颇为成熟，其本质是活性污泥法，在rpir内利用环流澄清器高效完成生化反应和泥水分离过程，直接省去上述所需的二次沉淀池。虽然a/a/rpir污水处理工艺相比于a/o工艺或a/a/o工艺占地面积减小，但是a/a/rpir污水处理工艺也存在占地面积较大的问题。
39.下面以具体地实施例对本技术的技术方案以及本技术的技术方案如何解决上述技术问题进行详细说明。需要指出的是，下述实施方式之间可以相互参考、借鉴或结合，对于不同实施方式中相同的术语、相似的特征以及相似的实施步骤等，不再重复描述。
40.本技术实施例提供了一种污水处理设备1的rpir11，该rpir11的结构示意图如图1和图2所示，包括：池体111、多个曝气装置112和多个填料装置113。
41.池体111包括好氧单元1111和缺氧单元1112，曝气装置112位于好氧单元1111，填料装置113位于缺氧单元1112，填料装置113与池体111的底部的垂直距离大于曝气装置112与池体111的底部的垂直距离，填料装置113在池体111的底部的正投影与曝气装置112在池体111的底部的正投影互不交叠。
42.本实施例中，在rpir11内设置填料装置113，填料装置113能够利于在rpir11内形成缺氧单元1112，则能够在rpir11内进行硝化-反硝化反应或者同步硝化-反硝化反应，能够利于减少缺氧池12的占地面积，比如减少20％-40％，进而能够减小a/a/rpir污水处理工艺整体占地面积，以及能够降低能耗和节省碳源。
43.本技术的填料装置113在池体111的底部的正投影与曝气装置112在池体111的底部的正投影互不交叠，能够保证避免氧气进入到填料装置113内，有利于保证填料装置113为缺氧环境，能够保证硝化-反硝化反应或者同步硝化-反硝化反应的进行。曝气装置112为好氧单元1111和缺氧单元1112提供气升动力。
44.可选地，相邻填料装置113之间的区域位于曝气装置112的正上方。
45.本实施例中，在相邻填料装置113之间的区域的正下方设置曝气装置112，能够利于保证曝气装置112提供充足的氧气，以及提供环流动力。
46.可选地，填料装置113包括填料1131和悬挂固定件1132，悬挂固定件1132用于固定填料1131，悬挂固定件1132与池体111连接。
47.本实施例中，悬挂固定件1132与池体111连接，悬挂固定件1132用于固定填料1131，能够保证填料装置113的稳定性，能够避免在rpir11内水流流动下而晃动。
48.需要说明的是，填料1131可以采用弹性或组合填料，具体为低压聚乙烯或聚丙烯。根据实际的需求，可以调整填料1131的高度、疏密程度或者数量，能够利于增加或减少缺氧单元1112的大小。
49.可选地，rpir11还包括多个环流澄清器114，环流澄清器114与池体111的底部的垂直距离大于填料装置113与池体111的底部的垂直距离。
50.本实施例中，填料装置113设置在环流澄清器114的正下方，曝气装置112设置在相邻填料装置113之间的区域的正下方，能够保证曝气装置112为环流澄清器114提供环流动力，以及有利于保证填料装置113所在的位置为缺氧单元1112。
51.可选地，环流澄清器114在池体111的底部的正投影覆盖填料装置113在池体111的底部的正投影。
52.本实施例中，环流澄清器114在池体111的底部的正投影覆盖填料装置113在池体111的底部的正投影，能够进一步避免曝气装置112向填料装置113曝气，而且能够保证曝气装置112为环流澄清器114提供足够的环流动力，使得rpir11内能够充分环流，利于提高除氮效率。
53.可选地，rpir11还包括配水渠115，配水渠115设置在池体111内顶部的第一侧边1113，配水渠115用于与污水处理设备1的缺氧池12连通，配水渠115在池体111的底部的正投影覆盖填料装置113在池体111的底部的正投影。
54.本实施例中，配水渠115在池体111的底部的正投影覆盖填料装置113在池体111的底部的正投影，即填料装置113设置在配水渠115的正下方，能够利于保证填料装置113的缺氧环境，避免受曝气装置112的影响。
55.可选地，rpir11还包括回流渠116，回流渠116设置在池体111内顶部的第二侧边1114，第二侧边1114与第一侧边1113相对设置；回流渠116用于与缺氧池12连通，回流渠116在池体111的底部的正投影覆盖填料装置113在池体111的底部的正投影。
56.本实施例中，回流渠116在池体111的底部的正投影覆盖填料装置113在池体111的底部的正投影，即在回流渠116的正下方设置填料装置113，能够利于经过好氧硝化反应的硝化液在填料装置113所在的缺氧单元1112进行反硝化反应，能够进一步减少缺氧池12的池体容量。本技术的回流渠116与配水渠115相对设置，能够利于污水在rpir11内充分反应。
57.可选地，曝气装置112包括穿孔管曝气装置112、微孔曝气装置112或射流曝气装置112中的至少一种。
58.可选地，相邻环流澄清器114之间的区域属于好氧单元1111，环流澄清器114的内部包括泥水分离区1141。
59.本实施例中，环流澄清器114将rpir11内的污泥进行再次沉淀，对污水中的硝化液进行循环处理，因此通过利用环流澄清器114的泥水分离区1141进行污泥再次沉淀，省去二次沉淀池，能够利于减小整体工艺的占地面积。
60.基于同一发明构思，本技术实施例提供了一种污水处理设备1，该污水处理设备1
的结构示意图如图1所示，该污水处理设备1包括：厌氧池13、缺氧池12和上述实施例提供的rpir11，厌氧池13与缺氧池12连接，缺氧池12与rpir11连接。
61.本实施例中，rpir11内包括设置在底部的曝气装置112，曝气装置112所产生的溶气水在释放之后的上升过程为好氧单元1111提供氧气，以及为rpir11的反应提供环流动力，经过好氧硝化反应的硝化液经过填料装置13处的缺氧单元1112进行反硝化反应，以及通过rpir11的回流渠116进入到缺氧池12内进行反硝化反应脱氮，由此本技术可以在rpir11内进行硝化-反硝化反应或者同步硝化-反硝化反应实现部分总氮的去除，能够利于减少缺氧池12的池体容量，即能够利于减少缺氧池12的占地面积。
62.需要说明的是，在厌氧池13和/或缺氧池12中可以设置填料装置113。
63.本技术的污水处理设备1包括rpir11，则污水处理设备1的有益效果也包括rpir11的有益效果，在此不再赘述。
64.应用本技术实施例，至少能够实现如下有益效果：
65.1.本技术实施例提供的在rpir内设置填料装置，填料装置能够利于在rpir内形成缺氧单元，则能够在rpir内进行硝化-反硝化反应或者同步硝化-反硝化反应，能够利于减少缺氧池的占地面积，比如减少20％-40％，进而能够减小a/a/rpir污水处理工艺整体占地面积，以及能够降低能耗和节省碳源。
66.2.本技术实施例提供的填料装置在池体的底部的正投影与曝气装置在池体的底部的正投影互不交叠，能够保证避免氧气进入到填料装置内，有利于保证填料装置为缺氧环境，能够保证硝化-反硝化反应或者同步硝化-反硝化反应的进行。
67.3.本技术实施例提供的在相邻填料装置之间的区域的正下方设置曝气装置，能够利于保证曝气装置提供充足的氧气，以及提供环流动力。
68.4.本技术实施例提供的悬挂固定件与池体连接，悬挂固定件用于固定填料，能够保证填料装置的稳定性，能够避免在rpir内水流流动下而晃动。
69.5.本技术实施例提供的填料装置设置在环流澄清器的正下方，曝气装置设置在相邻填料装置之间的区域的正下方，能够保证曝气装置为环流澄清器提供环流动力，以及有利于保证填料装置所在的位置为缺氧单元。
70.本技术领域技术人员可以理解，本技术中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案可以被交替、更改、组合或删除。进一步地，具有本技术中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的其他步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。进一步地，现有技术中的具有与本技术中公开的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。
71.在本技术的描述中，词语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方向或位置关系，为基于附图所示的示例性的方向或位置关系，是为了便于描述或简化描述本技术的实施例，而不是指示或暗示所指的装置或部件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
72.术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
73.在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
74.在本说明书的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
75.应该理解的是，虽然附图的流程图中的各个步骤按照箭头的指示依次显示，但是这些步骤的实施顺序并不受限于箭头所指示的顺序。除非本文中有明确的说明，否则在本技术实施例的一些实施场景中，各流程中的步骤可以按照需求以其他的顺序执行。而且，各流程图中的部分或全部步骤基于实际的实施场景，可以包括多个子步骤或者多个阶段。这些子步骤或者阶段中的部分或全部可以在同一时刻被执行，也可以在不同的时刻被执行在执行时刻不同的场景下，这些子步骤或者阶段的执行顺序可以根据需求灵活配置，本技术实施例对此不限制。
76.以上所述仅是本技术的部分实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本技术的方案技术构思的前提下，采用基于本技术技术思想的其他类似实施手段，同样属于本技术实施例的保护范畴。

技术特征：

1.一种污水处理设备的rpir，其特征在于，包括：池体、多个曝气装置和多个填料装置；所述池体在竖向空间上包括好氧单元和缺氧单元，所述曝气装置位于所述好氧单元，所述填料装置位于所述缺氧单元，所述填料装置与所述池体的底部的垂直距离大于所述曝气装置与所述池体的底部的垂直距离，所述填料装置在所述池体的底部的正投影与所述曝气装置在所述池体的底部的正投影互不交叠。2.根据权利要求1所述的rpir，其特征在于，相邻所述填料装置之间的区域位于所述曝气装置的正上方。3.根据权利要求2所述的rpir，其特征在于，所述填料装置包括填料和悬挂固定件，所述悬挂固定件用于固定所述填料，所述悬挂固定件与所述池体连接。4.根据权利要求1至3任一所述的rpir，其特征在于，还包括多个环流澄清器，所述环流澄清器与所述池体的底部的垂直距离大于所述填料装置与所述池体的底部的垂直距离。5.根据权利要求4所述的rpir，其特征在于，所述环流澄清器在所述池体的底部的正投影覆盖所述填料装置在所述池体的底部的正投影。6.根据权利要求4所述的rpir，其特征在于，还包括配水渠，所述配水渠设置在所述池体内顶部的第一侧边，所述配水渠用于与所述污水处理设备的缺氧池连通，所述配水渠在所述池体的底部的正投影覆盖所述填料装置在所述池体的底部的正投影。7.根据权利要求6所述的rpir，其特征在于，还包括回流渠，所述回流渠设置在所述池体内顶部的第二侧边，所述第二侧边与所述第一侧边相对设置；所述回流渠用于与所述缺氧池连通，所述回流渠在所述池体的底部的正投影覆盖所述填料装置在所述池体的底部的正投影。8.根据权利要求1所述的rpir，其特征在于，所述曝气装置包括穿孔管曝气装置、微孔曝气装置或射流曝气装置中的至少一种。9.根据权利要求4所述的rpir，其特征在于，相邻所述环流澄清器之间的区域属于所述好氧单元，所述环流澄清器的内部包括泥水分离区。10.一种污水处理设备，其特征在于，包括厌氧池、缺氧池和权利要求1-9任一所述的rpir，所述厌氧池与所述缺氧池连接，所述缺氧池与所述rpir连接。

技术总结

本申请实施例提供了一种污水处理设备及其RPIR。该RPIR包括：池体、多个曝气装置和多个填料装置；RPIR池体在竖向空间上包括好氧单元和缺氧单元，曝气装置位于好氧单元，填料装置位于缺氧单元，填料装置与池体的底部的垂直距离大于曝气装置与所述池体的底部的垂直距离，填料装置在池体的底部的正投影与曝气装置在池体的底部的正投影互不交叠。本申请实施例在RPIR内设置填料装置，填料装置能够利于在RPIR内形成缺氧单元，则能够在RPIR内进行硝化-反硝化反应或者同步硝化-反硝化反应，能够利于减少缺氧池的占地面积，比如减少20％-40％，进而能够减小污水处理工艺整体占地面积，以及能够降低能耗和节省碳源。够降低能耗和节省碳源。够降低能耗和节省碳源。