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一种减少化学清洗工艺中球形颗粒缺陷的方法[发明专利]

专利名称：一种减少化学清洗工艺中球形颗粒缺陷的方法专利类型：发明专利

发明人：刘效岩，吴仪，冯晓敏

申请号：CN201610006458.7

申请日：20160104

公开号：CN105632895A

公开日：

20160601

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本发明公开了一种减少化学清洗工艺中球形颗粒缺陷的方法，应用于采用65纳米铜互连后道清洗及化学处理设备对硅片进行化学清洗，通过在新化学药液更新进入药液罐后的首次化学清洗工艺之前，先对工艺自循环管路和非工艺自循环管路分别通入经加热及过滤的新化学药液进行一定时间的循环处理，使管路中产生的球状颗粒随着新化学药液的充分循环而逐渐减少，之后，再进行化学清洗工艺，即可有效降低工艺后球状颗粒的增加值。

申请人：北京七星华创电子股份有限公司

地址：100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号

国籍：CN

代理机构：上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)

本文发布于:2024-09-20 11:50:46，感谢您对本站的认可！

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