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一种研磨硅片用清洗设备[实用新型专利]

专利名称：一种研磨硅片用清洗设备专利类型：实用新型专利

发明人：胡林宝

申请号：CN201721637191.8

申请日：20171130

公开号：CN207746882U

公开日：

20180821

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本实用新型公开了一种研磨硅片用清洗设备，包括减震垫、第一增压泵、挡水板和第二增压泵，通过设置减震垫用于对硅片在研磨过程中产生的震动进行吸收，避免震动过大影响硅片研磨的效果，同时进一步增加了第一推板和第二推板与硅片之间的摩擦力，从而提高了硅片固定的效果，利用第一增压泵使储水箱内的水通过第一导水管后从清洗喷头喷出对研磨过程中的硅片进行清洗，避免研磨过程中产生的胶水等附着在硅片上，保证了硅片研磨的效果，通过设置挡水板用于防止落在底座顶部的废水流向四处对环境造成污染，利用第二增压泵使废水收集槽内过滤后的水通过第二导水管进入储水箱内，实现了水资源的循环利用，降低了清洗的成本。

申请人：浙江游星电子科技有限公司

地址：324300 浙江省衢州市开化县华埠镇双桥路19号

国籍：CN

代理机构：北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：汤东凤

本文发布于:2024-09-20 10:54:03，感谢您对本站的认可！

本文链接：https://www.17tex.com/tex/4/87124.html

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