曝光装置的制作方法

1.本发明涉及以激光器为光源的曝光装置，特别涉及使用反射型液晶调制装置的曝光装置。

背景技术：

2.作为曝光装置，公知有具备：包括扫描照明光的扫描器件的照明装置、使扫描光入射的作为全息记录介质的光学元件、由来自光学元件的光照明的空间光调制器、以及使由空间光调制器调制后的光在对象上成像的成像光学系统的曝光装置。在该专利文献1的装置中，作为空间光调制器，例如，提出了lcos的使用。
3.但是，在使用扫描器件进行的曝光中，需要扫描所需的时间，如果不密切扫描，就不能提高照明的均匀度，在确保曝光精度的同时提高吞吐量中存在极限。
4.作为另一曝光装置，公知有具备：照明光源、强度一致化光学系统、形成图案的数字微镜器件、以及投影由数字微镜器件形成的图案的投影透镜的曝光装置（专利文献2）。
[0005] 但是，数字微镜器件的微镜的倾斜角的面内偏差很大，此外器件之间的个体差很大，不容易确保面内照度的均匀性。此外，数字微镜器件不容易细化灰度的控制，在细化灰度的情况下，由于以时间分割来控制灰度的关系，存在显示时间变长的倾向，因此在曝光的吞吐量提高中存在极限。数字微镜器件需要斜入射照明，光学系统的组装不容易。
[0006] 现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2012-114358号公报专利文献2：日本特开2001-135562号公报。

技术实现要素：

[0007]
本发明是鉴于上述背景技术而完成的，其目的在于提供一种能够在确保吞吐量的同时提高曝光精度的曝光装置。
[0008]
为了实现上述目的，本发明的曝光装置具备：反射型液晶调制装置；光源装置，用均匀化后的紫外线波长区域的脉冲状的激光光同样地照明反射型液晶调制装置；投影光学系统，使由反射型液晶调制装置调制后的反射光进行成像；以及工作台，支承利用由投影光学系统成像后的图案进行曝光的对象。
[0009]
在上述曝光装置中，用脉冲状的激光光同样地照明反射型液晶调制装置，利用由反射型液晶调制装置调制后的反射光被投影光学系统成像后的图案对工作台上的对象进行曝光，因此，能够在使反射型液晶调制装置的照度调整变为高精度的同时，还维持曝光的吞吐量。再有，在一边移动工作台一边变更区域进行曝光的情况下，从确保高精度的工作台移动的观点出发，在移动速度中存在一定的极限，容易以与该速度极限对应的速度进行各画面的反射型液晶调制装置的图案改写。
[0010]
根据本发明的具体方面，在上述曝光装置中，一边通过工作台使对象移动，一边以
规定的周期性定时进行曝光，并且，在曝光的间歇，对反射型液晶调制装置进行图案的改写。在该情况下，能够一边连续移动工作台一边进行曝光，从而能够迅速进行高精度的曝光。
[0011]
根据本发明的另一方面，一边移动工作台，一边对对象的不同部分区域依次进行曝光，而对对象整体进行曝光。在该情况下，能够以比反射型液晶调制装置的像素密度高的空间分辨率来转印曝光图案。
[0012]
根据本发明的又一方面，光源装置包括脉冲激光器，以工作台视为实质上停止的脉冲宽度来产生曝光光。在该情况下，能够在使工作台的移动稳定的同时利用脉冲激光器进行短脉冲的曝光，从而能够提高曝光图案的精度。
[0013]
根据本发明的又一方面，以像素间距以下的规定偏移量进行重叠曝光。在该情况下，通过规定偏移量的设定和重叠图案的组合，能够提高分辨率。
[0014]
根据本发明的又一方面，具备：两个反射型液晶调制装置；以及分束器，根据偏振状态将来自光源装置的激光光分支并分配给两个反射型液晶调制装置，分束器合成由两个反射型液晶调制装置调制后的反射光。在该情况下，能够进行多重曝光，能够加快曝光的处理速度。
[0015]
根据本发明的又一方面，分束器是偏振分束器，使不同偏振状态的光入射到两个反射型液晶调制装置，合成由两个反射型液晶调制装置调制后的偏振状态不同的反射光。在该情况下，能够高效地利用来自光源装置的激光光。
[0016]
根据本发明的又一方面，两个反射型液晶调制装置具有大致相同的像素排列图案，被配置为在由偏振分束器合成的图像中产生规定偏移。在该情况下，通过规定偏移量的设定和在两个反射型液晶调制装置中形成的图案的组合，能够提高分辨率。
[0017]
根据本发明的又一方面，规定偏移为像素间距以下。在该情况下，通过规定偏移量的设定和在两个反射型液晶调制装置中形成的图案的组合，能够提高分辨率。
[0018]
根据本发明的又一方面，光源装置监视脉冲激光光源和来自脉冲激光光源的激光光的能量，并在达到规定阈值时切断激光光的输出。在一边移动工作台一边重复曝光的情况下，能够防止每次曝光时能级发生变动，作为重复曝光的图案整体，能够提高曝光精度。
[0019]
根据本发明的又一方面，反射型液晶调制装置通过反射光的灰度的控制，来调整应曝光于对象的图案的线宽。反射型液晶调制装置与数字反射镜器件相比，容易使灰度变细，也能够扩大图案的线宽的调整范围，能够进行高精细的曝光。
[0020]
根据本发明的又一方面，具有表面观察系统，所述表面观察系统监视图案相对于工作台上的对象的对准状态，表面观察系统能够重叠地观察反射型液晶调制装置上的图案和在工作台上的对象上设置的图案。
[0021]
根据本发明的又一方面，具有自动聚焦系统，所述自动聚焦系统监视相对于工作台上的对象的成像状态。
附图说明
[0022]
图1是说明实施方式的曝光装置的整体结构的框图；图2是说明反射型液晶调制装置的构造的概念性截面图；图3是取出表面观察系统后的光路的说明图；
图4是取出自动聚焦系统后的光路的说明图；图5是说明编入光源装置中的激光输出稳定化装置的构造的图；图6a和6b是说明激光输出稳定化装置的工作的图；图7是说明曝光的基本工作的图；图8a～8f是说明曝光的模式种类的图；图9是说明线宽调整方法的图。
具体实施方式
[0023]
以下，参照附图来说明本发明的一个实施方式的曝光装置及其工作。
[0024]
参照图1，实施方式的曝光装置100具备光源装置10、光调制部20、投影光学系统30、对象用工作台40、透镜用工作台50和控制装置90。曝光装置100具备表面观察系统60和自动聚焦系统70，作为附随曝光工作的部分。
[0025]
光源装置10是紫外线的照明光源，在此紫外线意指波长10～400nm，但实用上以波长300～400nm为对象。光源装置10具备脉冲激光器11、激光输出稳定化装置12、λ/2波长板13、均化器14、中继透镜15a、15b、以及激光控制器19。脉冲激光器11是q开关脉冲yag激光器，根据来自外部的触发信号而输出例如波长355nm的紫外线激光脉冲。激光输出稳定化装置12将在后面详细描述，成为用于控制从光源装置10输出的激光脉冲的能量值的部分。λ/2波长板13被配置用于调整从脉冲激光器11经由激光输出稳定化装置12输出的激光束的偏振方向。均化器14对激光束进行二维均匀化，中继透镜15a、15b成为用于将均匀化后的激光光束l11以适当的尺寸引导到光调制部20的部分。均化器14能够采用2级地使用复眼透镜的结构，但能够使用光隧道等构件。激光控制器19在控制装置90和工作台控制器49的控制下工作，向脉冲激光器11输出触发信号，以控制紫外线的激光脉冲的输出定时。
[0026]
光调制部20具备两个反射型液晶调制装置21、22、偏振分束器23、透镜24、25、和调制控制装置29。两个反射型液晶调制装置21、22具备相同构造。第一反射型液晶调制装置21也称为lcos（硅上液晶），包括改变偏振状态的矩阵排列的像素。第一反射型液晶调制装置21对被偏振分束器23反射的s偏振分量的激光光束的偏振状态进行空间调制。第二反射型液晶调制装置22也称为lcos，包括改变偏振状态的矩阵排列的像素。第二反射型液晶调制装置22对透射了偏振分束器23的p偏振分量的激光光束的偏振状态进行空间调制。在此，第一反射型液晶调制装置21和第二反射型液晶调制装置22具有大致相同的像素排列图案。通过偏振分束器23的光分支，不同偏振状态的激光光束入射到第一反射型液晶调制装置21和第二反射型液晶调制装置22。透镜24、25具有使对反射型液晶调制装置21、22进行照明的激光光束的主光线成为平行光束的作用。透镜24、25在将反射型液晶调制装置21、22的图案面21p、22p投影到作为对象的工件wo的表面上的意义上，作为投影光学系统30的一部分发挥作用。作为由第一反射型液晶调制装置21调制后的p偏振分量的图案光l12通过偏振分束器23，由此被变换为反映了亮度图案的信息，并入射到物镜31。作为由第二反射型液晶调制装置22调制后的s偏振分量的图案光l12由偏振分束器23反射，由此被变换为反映了亮度图案的信息，并入射到物镜31。调制控制装置29在控制装置90的控制下工作，以像素为单位来控制应由反射型液晶调制装置21、22形成的图案或偏振角的旋转量。
[0027]
图2是说明第一反射型液晶调制装置21的构造的一例的截面图。第一反射型液晶
调制装置21具有在光透射基板21a和电路功能层21b之间夹持有液晶层21c的构造。在光透射基板21a的表面上形成有透明电极21t。电路功能层21b在si基板21e上包括电路层21g、遮光层21h、反射像素电极层21i。在覆盖光透射基板21a的透明电极21t的表面上形成有取向膜21j，在反射像素电极层21i的液晶层21c侧的表面上形成有取向膜21k和电介质多层膜21u。第一反射型液晶调制装置21以在紫外线波长区域下的使用为前提，光透射基板21a是合成石英制的，液晶层21c在紫外区域（特别是比波长300nm长的波长区域）中的吸收很少，取向膜21j、21k是sio2制的，反射像素电极层21i由电介质多层膜形成。第一反射型液晶调制装置21具有能耐受在紫外线区域中的长期使用的构造。虽然省略了图示，但第二反射型液晶调制装置22也具有与第一反射型液晶调制装置21同样的构造，能耐受在紫外线区域中的长期使用。第一反射型液晶调制装置21和第二反射型液晶调制装置22具有如下特征：与数字微镜器件相比，即使增加灰度，显示时间也几乎不变化。具体而言，由10位的信息能够实现约1000灰度，只要通过呈脉冲状地照射具有目标能量的激光光束l11，就能够实现作为目标的光强度。再有，在数字微镜器件的情况下，需要时间调制的灰度表现，存在灰度越增加，曝光所需的时间就越增加的问题。
[0028]
返回到图1，在投影光学系统30中，物镜31与光调制部20的透镜24、25协作，将由光调制部20调制后的图案光投影到被支承于对象用工作台40上的工件wo的表面上，具体而言投影到抗蚀剂膜上。物镜31能够应对紫外线而实现高分辨率。对于抗蚀剂膜，如果给予需要能量量的光，则不瞬时产生化学反应，而是逐渐进行感光。对投影光学系统30的投影倍率没有特别限制，例如能够进行1倍的投影，也能够进行1/16倍的投影。具体的物镜31是1/16倍的缩小投影型，例如使na为0.75左右。在进行1/16倍投影的情况下，将反射型液晶调制装置21、22的像素或像素尺寸设为8μm，工件wo的表面上的像素尺寸成为0.5μm。
[0029]
对象用工作台40能够支承工件wo并使其在xy方向上移动，能够绕x轴、y轴和z轴旋转。对象用工作台40由工作台控制器49控制工作，在控制装置90的控制下，能够使工件wo精密地移动到既定位置，能够使工件wo沿着规定的路径以期望的速度移动。工件wo例如是曝光用的掩模，但也可以是半导体晶片等。
[0030]
透镜工作台50能够使物镜31沿上下的z方向升降。透镜用工作台50由工作台控制器49控制工作，在控制装置90的控制下，使物镜31在z方向上微动，能够调整投影到工件wo上的图案的聚焦状态。
[0031]
表面观察系统60具备表面观察用光源61、偏振板62、二向半反射镜棱镜63、透镜64、偏振板65、λ/4板66和ccd相机67。表面观察系统60相对于光调制部20相对固定。
[0032]
图3中取出表面观察系统60来示出。表面观察用光源61例如由led等构成，射出实质上对形成于对象用工作台40上的工件wo表面上的抗蚀剂没有感光性的长波长的照明光（例如波长567nm的红光等可见光）l21。偏振板62截断s偏振，并且使p偏振选择性地入射到二向半反射镜棱镜63。二向半反射镜棱镜63选择性地反射照明光l21，并且使p偏振状态的照明光l21经由偏振分束器23和透镜24入射到第一反射型液晶调制装置21。来自第一反射型液晶调制装置21的反射光包括p分量和s分量。偏振分束器23对紫外区域的激光光束l11分支偏振，对长波长的照明光l21不分支偏振，来自第一反射型液晶调制装置21的反射光作为调制光，至少部分地通过偏振分束器23。来自第一反射型液晶调制装置21的反射光进一步部分地通过二向半反射镜棱镜63，通过λ/4板66，在右旋圆偏振和左旋圆偏振混
合的状态下入射到物镜31，对对象用工作台40上的工件wo进行照明。来自工件wo的像光l22通过λ/4板66成为p偏振和s偏振混合的状态，被二向半反射镜棱镜63部分地反射，通过透镜64等，经过偏振板65入射到ccd相机67。以上，关于照明光l21，也通过透镜24和物镜31将由第一反射型液晶调制装置21形成的图案或图像投影到工件wo的表面，通过物镜31和透镜64将工件wo的表面图像形成到ccd相机67的图像传感器上。偏振板65防止来自表面观察用光源61的p偏振状态的照明光l21直接入射到ccd相机67。通过利用表面观察系统60，能够重叠地观察由第一反射型液晶调制装置21形成的图案和在工件wo的基板上形成的基底图案，通过由控制装置90一边分析该观察结果一边使工作台控制器49工作，能够使对象用工作台40相对于光调制部20和投影光学系统30适当地移动，能够在工件wo上的适当的位置处形成第一反射型液晶调制装置21所形成的图案或曝光图像。
[0033]
表面观察系统60不仅能够观察第一反射型液晶调制装置21的图案，而且能够观察第二反射型液晶调制装置22的图案。
[0034]
返回到图1，自动聚焦系统70具备af用光源71、偏振板72、条纹图案掩模73、偏振分束器74、半反射镜棱镜75、76、第一图像传感器77a、第二图像传感器77b和af控制电路79。自动聚焦系统70共用构成表面观察系统60的透镜64、二向半反射镜棱镜63。
[0035]
图4中取出自动聚焦系统70来示出。af用光源71例如由led等构成，射出实质上对形成在工件wo表面上的抗蚀剂没有感光性的长波长的照明光（例如波长567nm的红光等可见光）l31。在本实施方式中，使照明光l31的波长与表面观察系统60的照明光l21的波长一致。偏振板72截断s偏振，使p偏振选择性地入射到条纹图案掩模73、偏振分束器74。条纹图案掩模73用于在对焦时向工件wo表面投影条纹图案。偏振分束器74使通过了条纹图案掩模73的照明光l31原样透射，并且半反射镜棱镜75反射p偏振状态的照明光l31，使其经由透镜64、二向半反射镜棱镜63入射到λ/4板66。通过了λ/4板66的圆偏振状态的照明光l31入射到物镜31，对对象用工作台40上的工件wo进行照明。来自工件wo的圆偏振状态的像光l32通过λ/4板66，成为s偏振，被二向半反射镜棱镜63部分地反射，通过透镜64等，被半反射镜棱镜75折弯光路，入射到偏振分束器74。被偏振分束器74反射为不返回af用光源71的像光l32被半反射镜棱镜76分支，入射到第一图像传感器77a和第二图像传感器77b。以上，关于照明光l31，通过透镜64和物镜31将条纹图案掩模73的条纹图案投影到工件wo的表面，通过物镜31和透镜64将工件wo上的条纹图案投影到图像传感器77a、77b上。图像传感器77a、77b由af控制电路79控制工作，af控制电路79能够根据由图像传感器77a、77b检测到的图像的对比度来判定物镜31是处于对焦状态、前焦状态还是后焦状态，能够将这样的聚焦状态或失焦状态输出到控制装置90。再有，第一图像传感器77a配置在相对于对焦状态向前侧偏移的状态下，第二图像传感器77b配置在相对于对焦状态向后侧偏移的状态下。因此，利用透镜用工作台50使物镜31沿上下的z方向移动，并使物镜31的升降停止在由第一图像传感器77a检测到的图案的对比度和由第二图像传感器77b检测到的图案的对比度一致的位置处，由此，能够实现对焦状态。
[0036]
为了避免干扰，在自动聚焦系统70工作时，停止表面观察系统60的表面观察用光源61的工作，在表面观察系统60工作时，停止自动聚焦系统70的af用光源71的工作。再有，在后述的曝光中，关闭表面观察系统60的光源61以停止表面观察功能，另一方面，点亮自动聚焦系统70的光源71以使自动聚焦功能实时工作。
[0037] 图5是说明编入图1所示的光源装置10中的激光输出稳定化装置12的构造的一例的图。激光输出稳定化装置12具备分束器12a、第一光电二极管12b、光延迟电路12c、光开关12d、分束器12e和第二光电二极管12f，作为光学系统。激光输出稳定化装置12具备积分器12h、比较器12i和开关驱动器12j，作为电路系统。在激光输出稳定化装置12中，第一光电二极管12b能够以超高速检测脉冲激光器11的输出能量变化。光延迟电路12m具备反射镜12p、12q、棱镜反射镜12r，能够补偿电路系统中的处理的延迟。光延迟电路12c还能够使棱镜反射镜12r沿dj方向移动，从而能够延长朝向光开关12d的光路长度并且延长或缩短光路长度。光开关12d具有普克尔斯盒（pockels cell）12s和偏振分束器12t，能够切断通过被开关驱动器12j驱动而切换偏振方向而射出的激光光束l11。第二光电二极管12b是用于判定从激光输出稳定化装置12输出的激光光束l11的能量是否变为目标值的传感器。以上，普克尔斯盒12s在波长300nm左右的紫外线下也工作。此外，工作的上升时间为0.5ns左右以下，能够进行以高速的开关处理。
[0038]
图6a是说明激光输出稳定化装置12的工作的图，示出了由第一光电二极管12b检测到的输入激光波形w1和与积分器12h的输出对应的积分波形w2。输入激光波形w1每次的发光未必稳定，如果多次发光，则发光强度有偏差的倾向。比较器12i判断积分波形w2的能量值是否达到规定阈值th，在积分波形w2达到了规定阈值th的情况下，开关驱动器12j将普克尔斯盒12s从关闭切换成开启，切断激光光束l11。图6b示出了从激光输出稳定化装置12输出的激光光束l11的波形，激光光束l11的输出激光波形w3在积分波形w2的能量值达到了规定阈值th的阶段中几乎回到零。结果，能够将从光源装置10输出的激光光束l11的能量精密地保持在目标值而使其稳定化。
[0039]
参照图7，说明了曝光装置100的曝光工作。在作为工件wo的光掩模上设定有曝光区域ar，该曝光区域ar组合了排列成矩阵状的多个部分区域re。此时，虽然设定了6
×
4的部分区域re，但是部分区域re的设定能够根据工件wo的尺寸、曝光精度来适当变更。在图示的示例中，例如第一反射型液晶调制装置21的像素具有0.5μm
×
0.5μm的尺寸，部分区域re在横向上具有1920个像素，在纵向上具有1200个像素，具有0.6mm
×
0.96mm的尺寸。利用对象用工作台40，如轨迹tr所示使工件wo以等间隔往返移动。此时，以间歇型进行扫描型的曝光。在具体的实施例中，部分区域re的y方向的横向宽度为0.96mm，轨迹tr的间隔也为0.96mm。进而，在利用对象用工作台40使工件wo进行扫描移动并与这样的扫描移动同步地进行镜头曝光的情况下，以附图左侧所示的脉冲图案pp进行发光和曝光。作为脉冲宽度的曝光时间te能够为纳秒级，曝光间隔ti例如为50ms。在曝光间隔ti的期间，对第一反射型液晶调制装置21的图案、第二反射型液晶调制装置22的图案进行改写。在实施例的情况下，由于以曝光间隔ti=50ms使部分区域re的纵向宽度0.6mm移动，因此对象用工作台40的移动速度为12mm/s。在以这样的对象用工作台40的移动速度为前提的情况下，纳秒级的曝光时间te是极短时间，等效于工件wo实质上静止，即，能够以对象用工作台40视为实质上停止的时间宽度来产生曝光光，在工件wo上在曝光中不会产生图像偏离。而且，能够在工件wo的相对移动的期间进行第一反射型液晶调制装置21的改写或切换，能够利用光束的脉冲曝光来补偿第一反射型液晶调制装置21的切换的低速性。
[0040]
参照图8a～8f来说明曝光模式。图8a和8b是说明“1
×”
模式下的工作的图。在该情况下，仅使反射型液晶调制装置21、22中的一者工作，像素px排列成矩阵状而形成图案区域
pa，在投影侧形成有与像素px对应的光束点bs0。在光束点bs0的中央，考虑容易看到而示出了光束中心bc。在“1
×”
模式下，能够以与通过物镜31缩小投影反射型液晶调制装置21的像素px等而得到的分辨率大致相等的分辨率进行曝光。图8c和8d是说明“2
×”
模式下的工作的图。在该情况下，使第一反射型液晶调制装置21和第二反射型液晶调制装置22工作，但第一反射型液晶调制装置21的图案区域pa11和第二反射型液晶调制装置22的图案区域pa21在-y方向上错开半个像素来配置。进而，通过使第一反射型液晶调制装置21和第二反射型液晶调制装置22的曝光在x方向上错开半个像素来进行双重曝光，从而也由图案区域pa12、pa22进行曝光。观察由这些图案区域pa11、pa21、pa12、pa22形成的光束点bs和光束中心bc的排列可知，以纵横缩小为1/2的格子图案mp进行曝光。通过以上“2
×”
模式下的曝光，能够使转印图案的边缘光滑，提高精细度。图8e和8f是说明“4
×”
模式下的工作的图。在该情况下，第一反射型液晶调制装置21的图案区域pa11和第二反射型液晶调制装置22的图案区域pa21被配置成在-y方向上错开1/4像素且在-x方向上错开半个像素。进而，通过使第一反射型液晶调制装置21和第二反射型液晶调制装置22的曝光在x方向上错开1/4像素且在-y方向上错开半个像素进行双重曝光，从而也由图案区域pa12、pa22进行曝光。观察由这些图案区域pa11、pa21、pa12、pa22形成的光束点bs和光束中心bc的排列可知，进行了与纵横缩小为1/4的格子图案mp近似的曝光。再有，图8a～8f所示的曝光模式只是示例，当然能够进行改变了配置的双重以上的各种曝光。
[0041]
图9示出了投影到工件wo上的图案光l12中的以像素为单位曝光光的光束轮廓，是说明灰度级下的曝光的图。在图中，横轴示出工件wo上的位置，纵轴示出投影到工件wo上的光强度。如果利用以上说明的光源装置10，则能够产生稳定化的能量值的激光光束l11，并且作为反射型液晶调制装置21、22的特征，具有能够对1000灰度的图案进行脉冲曝光的特征。因此，可知，将抗蚀剂的感光阈值设为rt，通过调整了灰度的各种光束bf1～bf3，抗蚀剂的线宽能够在lw1～lw3的范围内调整。这样的灰度级的曝光例如能够在图8a～8f所示的各种曝光模式下利用。
[0042]
根据以上说明可知，根据上述实施方式的曝光装置100，用脉冲状的激光光束l11同样地照明反射型液晶调制装置21、22，利用由反射型液晶调制装置21、22调制后的反射光即图案光l12被投影光学系统30成像后的图案，来曝光对象用工作台40上的对象即工件wo，因此，能够在使反射型液晶调制装置21、22的照度调整变为高精度的同时，还维持曝光的吞吐量。再有，在一边移动对象用工作台40的工件支承部一边变更区域进行曝光的情况下，从使对象用工作台40的工件支承部高精度地移动的观点出发，在移动速度中存在一定的极限，容易以与该速度极限对应的速度进行各画面的反射型液晶调制装置21、22的图案改写。
[0043]
本发明并不限于上述的实施方式，在不脱离其主旨的范围中能够以各种形式实施。例如，在光调制部20中，能够组合3个以上反射型液晶调制装置来合成曝光图案。相反，能够构成为在光调制部20中，不需要使用两个反射型液晶调制装置21、22，仅用单一的反射型液晶调制装置21进行曝光。但是，在仅用反射型液晶调制装置21进行曝光的情况下，优选通过将光源装置10中产生的脉冲激光器11全部变换为s偏振来提高光的利用效率。即使在仅用单一的反射型液晶调制装置21进行曝光的情况下，通过重复图7所示的轨迹tr中的曝光，也与图8b等所示的情况同样，能够以像素间距以下的规定偏移量进行重叠曝光或重叠曝光。
[0044]
作为表面观察系统60、自动聚焦系统70而例示的构造仅是示例，能够通过各种方法进行将对象用工作台40、投影光学系统30相对于光调制部20适当地配置的对准。
[0045]
也能够将光调制部20和投影光学系统30排列组合多个，做成对大面积进行曝光的装置。

技术特征：

1.一种曝光装置，其中，具备：反射型液晶调制装置；光源装置，用均匀化后的紫外线波长区域的脉冲状的激光光同样地照明所述反射型液晶调制装置；投影光学系统，使由所述反射型液晶调制装置调制后的反射光进行成像；以及工作台，支承利用由所述投影光学系统成像后的图案进行曝光的对象。2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，一边通过所述工作台使对象移动，一边以规定的周期性定时进行曝光，并且，在曝光的间歇，对所述反射型液晶调制装置进行图案的改写。3.根据权利要求2所述的曝光装置，其中，一边移动所述工作台，一边对对象的不同部分区域依次进行曝光，而对对象整体进行曝光。4.根据权利要求2和3中任一项所述的曝光装置，其中，所述光源装置包括脉冲激光器，以所述工作台视为实质上停止的脉冲宽度来产生曝光光。5.根据权利要求1至4中任一项所述的曝光装置，其中，以像素间距以下的规定偏移量进行重叠曝光。6. 根据权利要求1至4中任一项所述的曝光装置，其中，具备：两个反射型液晶调制装置；以及分束器，根据偏振状态将来自所述光源装置的激光光分支并分配给所述两个反射型液晶调制装置，所述分束器合成由所述两个反射型液晶调制装置调制后的反射光。7.根据权利要求6所述的曝光装置，其中，所述分束器是偏振分束器，使不同偏振状态的光入射到所述两个反射型液晶调制装置，合成由所述两个反射型液晶调制装置调制后的偏振状态不同的反射光。8.根据权利要求6和7中任一项所述的曝光装置，其中，所述两个反射型液晶调制装置具有大致相同的像素排列图案，被配置为在由所述偏振分束器合成的图像中产生规定偏移。9.根据权利要求8所述的曝光装置，其中，所述规定偏移为像素间距以下。10.根据权利要求1至9中任一项所述的曝光装置，其中，所述光源装置监视脉冲激光光源和来自所述脉冲激光光源的激光光的能量，并在达到规定阈值时切断激光光的输出。11.根据权利要求10所述的曝光装置，其中，所述反射型液晶调制装置通过反射光的灰度的控制，来调整应曝光于对象的图案的线宽。12.根据权利要求1至11中任一项所述的曝光装置，其中，具有表面观察系统，所述表面观察系统监视图案相对于所述工作台上的对象的对准状态，所述表面观察系统能够重叠地观察所述反射型液晶调制装置上的图案和在所述工作台上的对象上设置的图案。13.根据权利要求1至12中任一项所述的曝光装置，其中，具有自动聚焦系统，所述自动聚焦系统监视相对于所述工作台上的对象的成像状态。

技术总结

提供一种能够在确保吞吐量的同时提高曝光精度的曝光装置。曝光装置（100）具备：反射型液晶调制装置（21、22）；光源装置（10），用均匀化后的紫外线波长区域的脉冲状的激光光同样地照明反射型液晶调制装置（21、22）；投影光学系统（30），使由反射型液晶调制装置（21、22）调制后的反射光进行成像；以及工作台（40），支承利用由投影光学系统（30）成像后的图案进行曝光的对象。的对象。的对象。