制作ZnO于堆叠太阳能硅薄膜以提高发电效率

著录项
  • CN201210064227.3
  • 20120313
  • CN103311319A
  • 20130918
  • 吉富新能源科技(上海)有限公司
  • 戴嘉男;刘幼海;刘吉人
  • H01L31/0216
  • H01L31/0216

  • 上海市青浦区北青公路8228号3区8号4幢
  • 中国,CN,上海(31)
摘要
本发明主要目的是制作ZnO于堆叠太阳能硅薄膜以提高发电效率。是把导电玻璃在PECVD制作非晶硅薄膜,随后进行本发明ZnO膜层制作,是利用Sputter将ZnO靶材进行溅镀,把ZnO镀在非晶硅薄膜上,最后放回到PECVD制作微晶硅薄膜及背电极,即完成此制程。本发明ZnO膜层制作在非晶硅与微晶硅薄膜中,制作出具高穿透性、高反射性、低折射率及高表面粗糙的ZnO薄膜,主要是当光从TCO玻璃入射后,先到达非晶硅薄膜,再到ZnO膜层时,光会透过ZnO穿透往微晶硅薄膜进入外,也可在ZnO作折射与反射,让更多的光在非晶硅薄膜吸收,以提高非晶硅薄膜的Jsc,此外当光从背电极作反射时,光也会在微晶硅与ZnO作折射,藉此当试片在经过光衰后,有稳定的效率,且有较低的衰退,以达到高发电效率。
权利要求

1. 本发明主要目的是制作ZnO于堆叠太阳能硅薄膜以提高发电效率,其主要是把TCO玻璃先在PECVD腔体内制作非晶硅薄膜,随后则进行本发明ZnO膜层的制作,其是利用Sputter将ZnO靶材进行溅镀,把ZnO镀膜在非晶硅薄膜上,最后再放回到PECVD腔体内制作微晶硅薄膜,以及背电极,即完成此制程。

3. 根据权利要求1所述的制作ZnO于堆叠太阳能硅薄膜以提高发电效率,其PECVD内的蝶阀可控制制程压力,当气体压力控制高压时,其蝶阀可将开度缩小,让气体可以充满腔体内达到高压以便能够进行制程。

4. 根据权利要求1所述的制作ZnO于堆叠太阳能硅薄膜以提高发电效率,Showerhead分成三层设计,第一层与第二层为笔直状,但为交错设计,而第三层为漏斗状,可以将气体均匀扩散到TCO玻璃表面上,并由RF power 开启电浆进行制程。

5. 根据权利要求1所述的制作ZnO于堆叠太阳能硅薄膜以提高发电效率,其Sputter是靠着Cryo pump将腔体抽至底压,其Cryo pump可将压力抽至10E‑6torr以下,使其膜层表面乾净,且在溅镀时,其DC sputter将ZnO溅镀出来均匀的镀在非晶硅膜上。

6. 根据权利要求1所述的制作ZnO于堆叠太阳能硅薄膜以提高发电效率,在PECVD均匀的完成非晶硅P.I.N薄膜时,利用本发明的ZnO镀膜可以提升光的折射性及穿透性,此外在ZnO完成后再镀上微晶硅P.I.N薄膜,更可以让光电流得到佳的吸收,此两种方式可以减少光衰退,且可以保持高的太阳能硅薄膜电池效率。

2.本发明ZnO膜层制作在非晶硅与微晶硅薄膜中,制作出具有高穿透性、且有反射性、低折射率及高表面粗糙的ZnO薄膜,其主要目的是当光从TCO玻璃入射后,先到达非晶硅薄膜,然后再到达ZnO膜层时,除了光会透过ZnO穿透往微晶硅薄膜进入外,其光也可以在ZnO作折射与反射,藉此让更多的光能够在非晶硅薄膜作吸收,以能够提高非晶硅薄膜的Jsc,此外当光从背电极作反射时,其光也会在微晶硅与ZnO作折射,藉此方法可以当此试片在经过Light soaking之后,已有稳定的效率,且光能够停留在非晶硅与微晶硅较长时间,如此可以达到太阳能电池有较低的衰退,以便达到稳定及高的发电效率。

说明书
技术领域

本方法是将薄膜太阳能中的技术核心堆叠太阳能电池中,加入一层Zno在非晶硅薄膜与微晶硅薄膜之间,主要的用意是要让光藉由Zno反射层达到折射的效果,可以让光从前电极入射后,在非晶硅薄膜与微晶硅薄膜之间产生折射,更光有更多路径选择,且从背电极反射时也可以有同样效果,藉此来提升堆叠太阳能薄膜电池的Jsc,以便能够提高效率。

业界对于薄膜太阳能电池中已有许多的研究,其中在薄膜太阳能中技术较为纯熟且最省成本的则是硅薄膜技术,此最常显现的则是非晶与微晶硅薄膜两种,硅薄膜最主要是透过PECVD技术来进行制程,其最主要的就是吸收光谱的不同,在非晶硅中可以吸收可见光(300~850nm波长),而微晶硅则是吸收红外光(500nm~1100nm波长),因此可以吸收的光谱更宽广也能达到更高效率,但是缺点则是光在从前电极入射到非晶硅与微晶硅后,则是直接再从背电极作反射,以达到发电效果,但是其直接作反射会让光在内部停留时间较短,故在长时间下,其效率则会衰退较为严重,因此本发明则是在非晶硅与微晶硅当中利用sputter技术,制作了ZnO膜层,藉由ZnO的穿透性、折射率低及表面粗糙度,让光可以在非晶与微晶之间持续作光反射,让光可以停留较长时间,如此当光经过light soaking 后仍有稳定及高的发电效率。

本发明主要目的是制作ZnO于堆叠太阳能硅薄膜以提高发电效率。其主要是把TCO玻璃先在PECVD腔体内制作非晶硅薄膜,随后则进行本发明ZnO膜层的制作,其是利用Sputter将ZnO靶材进行溅镀,把ZnO镀膜在非晶硅薄膜上,最后再放回到PECVD腔体内制作微晶硅薄膜,以及背电极,即完成此制程。本发明ZnO膜层制作在非晶硅与微晶硅薄膜中,制作出具有高穿透性、且有反射性、低折射率及高表面粗糙的ZnO薄膜,其主要目的是当光从TCO玻璃入射后,先到达非晶硅薄膜,然后再到达ZnO膜层时,除了光会透过ZnO穿透往微晶硅薄膜进入外,其光也可以在ZnO作折射与反射,藉此让更多的光能够在非晶硅薄膜作吸收,以能够提高非晶硅薄膜的Jsc,此外当光从背电极作反射时,其光也会在微晶硅与ZnO作折射,藉此方法可以当此试片在经过Light soaking之后,已有稳定的效率,且光能够停留在非晶硅与微晶硅较长时间,如此可以达到太阳能电池有较低的衰退,以便达到稳定及高的发电效率。

下面是结合附图和实施例对本发明进一步说明:图1是本发明之PECVD制程腔体示意图;图2是本发明之Sputter制程腔体示意图;图3是本发明之非晶硅/ZnO/微晶硅制程膜层顺序示意图。

主要元件符号说明:1 …传动滚轮2 …TCO玻璃3…定位Sensor4 …抽气Pump5 …蝶阀6…Slit valve7…Showerhead8…气流孔9…RF power supply10…DC supply11…Cry Pump12…ZnO靶材。

    兹将本发明配合附图,详细说明如下所示:请参阅图1,为本发明制作ZnO于堆叠太阳能硅薄膜以提高发电效率的PECVD设备示意图,由图中知,当TCO玻璃2由滚轮1传到PECVD后,先进行sensor 3校正定位,随后Pump 4开始抽真空至底压,并进行加热器加热,让玻璃达到均温,接着开始镀膜P型、I型及N型非晶与微晶薄膜,其气体是从气流孔8随入showerhead 7并扩散到腔体内,并且由蝶阀5来控制整体制程压力,当PECVD腔体气体扩散均匀后,再开启RF power supply 9来进行电浆制程,完成之后蝶阀会全开将残留气体由腔体内部抽光,保持腔体底压,如此来完成非晶的P.I.N型半导体薄膜与微晶的P.I.N型半导体薄膜。

   请参阅图2,此为本发明制制作ZnO于堆叠太阳能硅薄膜以提高发电效率的Sputter设备示意图,已镀膜过非晶的玻璃2在Slit valve 6开启后,由滚轮1传至Sputter内,并由Cryo Pump 11抽真空至底压,随后通入气体5 O2或Ar,并调整制程压力,随后开启DC Sputter 10,开启时ZnO靶材12开始进行溅镀,而由于AZO靶材比玻璃尺寸小,故其玻璃镀膜是采用滚轮1慢速行进,让玻璃可以均匀的进行AZO镀膜,当完成镀膜后即完成本发明ZnO膜层的镀膜。

   请参阅图3,此为本发明制制作ZnO于堆叠太阳能硅薄膜以提高发电效率的镀膜示意图,图中可知,当TCO玻璃放入PECVD腔体内后,会控制气体种类、流量比例以及制程压力、制程功率来完成非晶P.I.N型半导体薄膜,随后就是本发明,利用Sputter以溅镀的方式镀膜ZnO作为折射以及穿透的膜层用,随后再用PECVD控制气体种类、流量比例、制程压力及制程功率完成微晶P.I.N型半导体薄膜,最后镀上metal layer作背电极用,即完成device,再以后续制程完成膜组,藉此ZnO的折射及穿透性来降低非晶微晶太阳能的光衰减,藉此提高整体太阳能模组效率。

以上说明,对本发明而言只是说明性的,非限制性的,本领域普通技术人员理解,在不脱离权利要求所限定的精神和范围的情况下,可作出许多修正、变化或等效,但都将落入本发明的保护范围之内。

本文发布于:2024-09-25 03:21:03,感谢您对本站的认可!

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