控制经聚合物稳定的液晶显示器中预倾角的方法

控制经聚合物稳定的液晶显示器中预倾角的方法

本发明涉及控制聚合物稳定配向(polymer sustained alignment)(PSA)型液晶 (LC)显示器中预倾角的方法、制造在两个基板处具有不同预倾角的PSA显示器的方法及通 过此方法制得的PSA显示器。

发明背景

一种液晶显示模式(其同时获得了广泛的注意和商业用途)是所谓的PS(“聚合物 稳定”)或PSA(“聚合物稳定配向”)模式，对于其偶尔也使用术语“聚合物稳定化”。在PSA显 示器中，所用LC介质含有LC混合物(下文也称为“主体混合物”)及少量(通常＜1重量％，例 如0.2重量％至0.4重量％)的包含一种或多种可聚合化合物、优选可聚合单体化合物、非常 优选地可聚合介晶或液晶化合物(也称为反应性介晶或“RM”)的可聚合组分。将LC介质填充 到显示器中之后，可聚合化合物通常通过UV光聚合，优选同时通过将电压施加到显示器的 电极上而原位聚合或者交联。聚合在LC介质表现出液晶相的温度下进行，通常是在室温下 进行。

因此，聚合或交联的RM与LC介质相分离且在基板的内表面上形成层，其中其诱导 LC分子相对于基板的预倾角。

PS(A)模式同时用于多种常规LC显示器类型中。因此，例如，PS-VA(垂直配向)，PS- OCB(“光学补偿弯曲”，PS-IPS(“面内切换”)，PS-FFS(“边缘场切换”)，PS-UB-FFS(“超高亮 度FFS”)和PS-TN(“扭曲向列”)显示器是已知的。RM的聚合在PS-VA和PS-OCB显示器的情形 中优选使用施加的电压来进行，并且在PS-IPS显示器的情形中使用或不使用，优选不使用 施加的电压来进行。在PS-OCB显示器的情形中，例如，弯曲结构可以经稳定化以使得失调电 压是不必要的或者可以降低。在PS-VA显示器的情形中，预倾对于响应时间具有积极的影 响。对于PS-VA显示器，可以使用标准MVA(“多域VA”)或PVA(“图案化VA”)像素和电极布置。 还可以仅使用一种没有凸起的结构化电极，其显著地简化了生产并且改进了对比度和透明 度。

此外，所谓的正性-VA模式(“正性VA”)已经证明是特别合适的。与常规的VA和PS- VA显示器一样，在正性-VA显示器中LC分子的初始取向是垂面的，即其在没有施加电压时的 起始状态下是基本上垂直于基板的。然而，与常规的VA和PS-VA显示器相比，正性-VA显示器 中使用的是具有正介电各向异性的LC介质。与IPS和PS-IPS显示器一样，正性-VA显示器中 的两个电极仅布置在两个基板中的一个上，并且优选表现为相互啮合的、梳形(交叉指型) 结构。在将电压施加在叉指电极(其产生基本上与LC介质的层平行的电场)时，LC分子切换 成基本上与基板平行的取向。在正性-VA显示器中，通过将之后在显示器中聚合的RM添加到 LC中来稳定聚合物，也经证明是有利的。由此可以实现切换时间的显著降低。

PS-VA显示器描述于例如K.Hanaoka等人，SID 04 Digest 2004,1203,233-236, EP1170626 A2、US6861107、US7169449、US2004/0191428A1、US2006/0066793A1及US2006/ 0103804A1中。PS-OCB显示器描述于例如T.-J-Chen等人，Jpn.J.Appl.Phys.45,2006,2702- 2704及S.H.Kim,L.-C-Chien,Jpn.J.Appl.Phys.43,2004,7643-7647中。PS-IPS显示器描述 于例如US 6177972及Appl.Phys.Lett.1999,75(21),3264中。PS-TN显示器描述于例如 Optics Express 2004,12(7),1221中。

PSA显示器可以作为有源矩阵(AM)或无源矩阵(PM)显示器来操作。在AM显示器的 情况下，单个像素通常通过集成的非线性有源元件例如晶体管(例如薄膜晶体管或“TFT”) 来进行寻址，而在PM显示器中，单个像素通常通过现有技术已知的多路传输方法来寻址。

PSA显示器优选在形成显示器盒的基板中一个或两个上包括配向层。配向层通常 施加在电极上(在存在这种电极的情况下)以使得其与LC介质接触并且诱导LC分子的初始 配向。配向层可以包含或由例如聚酰亚胺组成，其还可以通过光配向方法来摩擦或制备。配 向层通常是通过以下形成：例如通过涂布或印刷方法将配向层材料(如例如聚酰亚胺或其 前体，如例如聚酰亚胺前体)的溶液沉积于基板上、及通过暴露于热和/或光化辐射(例如UV 辐射)固化配向层材料或其前体。

特别是对于监视器以及特别是TV应用，仍然期望对响应时间以及LC显示器的对比 度和亮度(以及因此透射率)进行优化。PSA方法在这里可以提供显著的优势。特别是在PS- VA、PS-IPS、PS-FFS和PS-正性-VA显示器的情形中，与在测试盒中可测量的预倾相关的响应 时间的缩短可以在对其他参数没有明显不利影响的情况下实现。

曲面显示器已在TV市场中的使用中获得关注。曲面显示器可增强偏离中心就坐的 观看者的光学观看体验，这是因为可在观看者与显示器之间保持均匀距离。由此，可减小图 像畸变，在常规的非曲面显示器情形下，该图像扭曲是由显示器的侧边较其中心更远离观 看者的现象引起。

在曲面显示器中，顶部及底部基板的半径应彼此不同以维持恒定盒间隙。这示例 性且示意性图解说明于图1中。如图1(a)中所示，具有两个平面平行基板(11、12)的平板显 示器通常在整个显示器区域中具有恒定的盒间隙(由双箭头指示)。另一方面，如图1(b)中 所示，若在曲面显示器中曲面基板(11、12)具有相同的曲率半径，则盒间隙(由双箭头指示) 在边缘处将小于在面板的中心处。因此，在曲面显示器中需要使用两个如图1(c)中所示的 基板，其中底部基板(12)的曲率半径较顶部基板(11)的曲率半径长，即底部基板(12)的曲 度低于顶部基板(11)的曲度。

在PSA模式的曲面显示器中、尤其在PS-VA模式的曲面显示器中，产生如下问题：两 个基板的不同曲率将导致顶部基板与底部基板之间的预倾角扭曲。

这图解说明于图2中，该图示例性且示意性描绘了具有顶部基板(21)及底部基板 (22)及相对于顶部及底部基板(21、22)以特定预倾角取向的LC分子(23)的PSVA显示器。如 图2(a)中所示，在具有平面平行基板(21、22)的平板PS-VA显示器中，通过PS-VA方法生成的 LC分子(23)的预倾角α在顶部基板(21)及底部基板(22)处相同。另一方面，如图2(b)中所 示，在具有恒定盒间隙的曲面显示器中，顶部基板(21)及底部基板(22)处的LC分子(23)相 对于顶部及底部基板(21、22)上的切线(24、25)(由折线指示，下文也称为“基线”)以相同预 倾角α配向。然而，由于顶部基板(21)及底部基板(22)具有不同曲率半径的事实，顶部及底 部基板(21、22)上相对于显示器中心处的法线(26)(由折线指示)的基线(24、25)的斜率彼 此不同。因此，若如图2c中所示，将对顶部基板(21)及底部基板(22)二者施加平行基线(24、 25)，则顶部基板(21)处的预倾角α’及底部基板(22)处的预倾角α”将彼此不同，其中α’高于 α”，从而引起LC分子(23)的取向的扭曲。

因此，需要控制或改变PSA显示器中、尤其曲面PSA显示器中LC分子相对于顶部基 板及底部基板的预倾角，使得可减小或防止LC分子的取向的不期望扭曲。

本发明是基于如下目的：提供制造PSA显示器的改良方式及方法及其中所用的改 良材料，如RM、LC主体混合物、添加剂及包含其的LC介质，其可促使解决上文提及的问题。

本发明的另一目的是提供制造PSA显示器的改良方式及方法及其中所用的改良材 料，其具有高比电阻值、高VHR值、高可靠性、低阈值电压、短响应时间、高双折射率，尤其在 较长波长下显示良好UV吸收，容许其中所含的RM快速且完全聚合，容许尽可能快地生成低 预倾角，使得甚至在较长时间后和/或在UV暴露后预倾斜的高稳定性，减少或防止显示器中 出现图像粘滞，减少或防止显示器中ODF不均匀性的出现，且减少或防止LC分子的取向的扭 曲。

以上目的已依照本发明通过如本申请中所描述并要求保护的方法及材料实现。

已令人惊讶地发现，上文提及的问题可通过提供制造PSA显示器的方法、及控制曲 面PSA显示器中顶部及底部基板处的预倾角的方法来解决，如下文公开并要求保护的。

为解决如上文所述的控制曲面显示器中的预倾角的上文提及的问题，顶部基板 (下文也称为“第一基板”)处的预倾角应低于底部基板(下文也称为“第二基板”)处的预倾 角。

在本发明的方法中，这是通过提供在每一基板上包含由配向层材料或其前体形成 的配向层的PSA显示器来实现。向形成配向层的材料中添加抑制LC介质的可聚合组分聚合 的聚合抑制剂、或引发LC介质的可聚合组分聚合的聚合引发剂。举例而言，若仅向在第一基 板上形成配向层的材料中添加抑制剂，则靠近第一基板抑制LC介质的可聚合组分的聚合， 且在第一基板处生成较低预倾角。另一方面，若仅向在第二基板上形成配向层的材料中添 加引发剂，则靠近第一基板抑制LC介质的可聚合组分的聚合，且在第二基板处生成较高预 倾角。也可组合两种方法。

本发明的方法也可用于无基板的曲率的平板显示器中，在该情形下，需要控制或 改变基板处的预倾角。

另外，如下文公开并要求保护的方法及材料产生如下PSA显示器：具有高比电阻 值、高VHR值、高可靠性、低阈值电压、短响应时间、高双折射率、尤其在长UV波长下的良好UV 吸收、RM快速且完全聚合、快且强的预倾角生成、尤其在由热、电压和/或UV光引起的应力下 长时间高预倾角稳定性、减少的图像粘滞、减少的ODF不均匀性及减少的LC分子的取向的扭 曲。

此外，本发明的方法及材料特别是在低UV能量和/或在300nm至380nm且尤其高于 340nm的范围内的较长UV波长下促进快速且完全的UV光聚合反应，这是显示器制造方法的 重大优势。

发明概述

本发明涉及制造聚合物稳定配向(PSA)模式的液晶(LC)显示器的方法，其包括

a)提供第一基板及第二基板，

b)将配向层材料或其前体沉积于第一基板及第二基板上，以在第一基板上形成第 一配向层并在第二基板上形成第二配向层，

c)优选通过光固化任选地固化配向层材料或其前体，

d)在第一基板与第二基板之间插入包含可聚合组分的LC介质，使得其与第一配向 层及第二配向层接触，

e)优选通过暴露于UV辐射使第一基板与第二基板之间的LC介质的可聚合组分聚 合，

该方法的特征在于

在步骤b)中，沉积于第一基板上的配向层材料或其前体含有抑制LC介质的可聚合 组分的聚合的聚合抑制剂，

或

在步骤b)中，沉积于第二基板上的配向层材料或其前体含有引发LC介质的可聚合 组分的聚合的聚合引发剂，

或

在步骤b)中，沉积于第一基板上的配向层材料或其前体含有抑制LC介质的可聚合 组分的聚合的聚合抑制剂，且沉积于第二基板上的配向层材料或其前体含有引发LC介质的 可聚合组分的聚合的聚合引发剂。

本发明进一步涉及独立于PSA显示器中的LC分子在两个基板中的一者处的预倾角 控制和/或改变两个基板中的另一者处的LC分子的预倾角的方法，该方法包括如上下文所 述步骤a)至e)。

LC介质优选包括包含一种或多种可聚合化合物、优选由其组成的可聚合组分A)及 包含一种或多种介晶或液晶化合物、优选由其组成的液晶组分B)。

本发明的LC介质的液晶组分B)在下文也称为“LC主体混合物”，且优选仅含有选自 不可聚合低分子量化合物的LC化合物，且任选地含有添加剂(如聚合引发剂、抑制剂等)。

本发明进一步涉及自如上下文所述方法获得的PSA型的LC显示器。

LC显示器优选是PS-VA、PS-OCB、PS-IPS、PS-FFS、PS-UB-FFS、PS-正性-VA或PS-TN 显示器。

本发明的PSA显示器包含两个优选呈透明层形式的电极，将其施加至该基板中的 一者或两者上。在一些显示器中(例如在PS-VA、PS-OCB或PS-TN显示器中)，将一个电极施加 至两个基板中的每一者上。在其他显示器中(例如在PS-正性-VA、PS-IPS或PS-FFS或PS-UB- FFS显示器中)，将两个电极施加至两个基板中的仅一者上。

在优选实施方式中，使可聚合组分在LC显示器中聚合，同时将电压施加至显示器 的电极。

LC介质的可聚合组分的可聚合化合物优选是通过光聚合、非常优选地通过UV光聚 合来聚合。

附图简述

图1示例性且示意性描绘了具有不曲面基板及恒定盒间隙(a)的LC显示器、具有含 有相同曲率半径及变化的盒间隙(b)的曲面基板的LC显示器及具有含有不同曲率半径及恒 定盒间隙(c)的曲面基板的LC显示器。

图2示例性且示意性描绘了具有不曲面基板(a)的PS-VA显示器中及具有含有不同 曲率半径及恒定盒间隙(b、c)的曲面基板的PS-VA显示器中的预倾角。

术语及定义

除非另有说明，否则可聚合化合物优选选自非手性化合物。

如本文所用的术语“电极结构”包括可为连续层的电极层、或图案化电极或像素电 极、或电极、图案化电极或像素电极的阵列。

如本文中使用的，术语“活性层”和“可切换层”表示在光电显示器中，例如在LC显 示器中，包含一种或多种具有结构和光学各向异性的分子(例如LC分子)的层，该分子在受 到外部刺激例如电场或磁场时改变它们的取向，这导致层对于偏振光或非偏振光的透射率 的改变。

如本文所用的术语“倾斜”及“倾角”应理解为意指LC介质的LC分子相对于LC显示 器(在此优选为PSA显示器)中的盒表面的倾斜配向。术语“预倾斜”及“预倾角”应理解为意 指非寻址显示器盒中LC分子的初始倾角，其是由PSA方法(包括LC介质的可聚合组分的聚 合)生成。

(预)倾角在此表示LC分子的分子纵轴(LC指向矢)与形成LC盒的基板平面之间的 平均角(＜90°)。在曲面显示器中，(预)倾角是相对于各个基板上的切线给出的。

低(预)倾角值(即与90°偏差较大)对应于大的(预)倾斜且指示强的(预)倾角生 成，而高(预)倾角值(即与90°偏差较小)对应于小的(预)倾斜且指示弱的倾角生成。用于测 量(预)倾角的适宜方法在实例中给出。除非另有所示，否则上下文所公开的(预)倾角值涉 及此测量方法。

如本文所用的术语“垂直配向”应理解为意指其分子长轴相对于基板基本上垂直 的LC分子的配向。

如本文中使用的，术语“反应性介晶”和“RM”应理解为表示包含介晶或液晶骨架、 和连接于其上的一个或多个适合用于聚合的官能团的化合物，并且所述官能团还被称作 “可聚合基团”或“P”。

除非另有说明，本文中使用的术语“可聚合化合物”应理解为可聚合的单体化合 物。

如本文中使用的，术语“低分子量化合物”应理解为表示单体的和/或不是通过聚 合反应制备的化合物，其与“聚合型化合物”或“聚合物”相对。

如本文中使用的，术语“不可聚合化合物”应理解为表示不包含在通常施加给RM聚 合的条件下适合用于聚合的官能团的化合物。

如本文所用的术语“前体”应理解为意指可反应以形成另一化合物或材料的化合 物或材料。因此，配向层材料的前体是可反应以形成配向层材料的化合物或材料。若配向层 材料是例如聚酰亚胺，则前体是例如可聚合或交联以形成聚酰亚胺的单体或低聚物。

如本文中使用的，术语“介晶基团”是本领域技术人员已知的并且在文献中进行了 描述，且其表示由于其吸引和排斥相互作用的各向异性而实质上有助于产生低分子量或聚 合型物质中的液晶(LC)相的基团。包含介晶基团的化合物(介晶化合物)本身并不是必须具 有LC相。介晶化合物能够仅在与其他化合物混合后和/或在聚合后表现出LC相行为。典型的 介晶基团例如为刚性棒状或盘状单元。在Pure Appl.Chem.2001,73(5),888和 C.Tschierske,G.Pelzl,S.Diele,Angew.Chem.2004,116,6340-6368中给出了与介晶或LC 化合物相关使用的术语和定义。

如本文中使用的，术语“间隔基团”(下文中还被称作“Sp”)是现有技术中本领域技 术人员已知的并且在文献中进行了描述，参见例如Pure Appl.Chem.2001,73(5),888和 C.Tschierske,G.Pelzl,S.Diele,Angew.Chem.2004,116,6340-6368。如本文中使用的，术 语“间隔基团”或“间隔基”表示柔性基团，例如其为亚烷基基团，其将可聚合介晶化合物中 的介晶基团与可聚合基团连接。

在上下文中，

表示反式-1,4-亚环己基环，和

表示1,4-亚苯基环。

在上下文中的“有机基团”表示碳基或烃基基团。

“碳基团”表示包含至少一个碳原子的单或多价有机基团，其中该基团不包含其他 原子(例如-C≡C-)或者任选包含一种或多种其他原子，例如N、O、S、B、P、Si、Se、As、Te或Ge (例如羰基等)。术语“烃基基团”表示额外包含一个或多个H原子和任选的一个或多个杂原 子，例如N、O、S、B、P、Si、Se、As、Te或Ge的碳基团。

“卤素”表示F、Cl、Br或I。

“-CO-”、“-C(＝O)-”和“-C(O)-”表示羰基基团，即

“O^●”表示氧自由基。

碳基或烃基基团可以是饱和或不饱和基团。不饱和基团例如为芳基、烯基或炔基 基团。具有多于3个C原子的碳基或烃基基团可以是直链、支链和/或环状的并且还可以包含 螺连接或稠环。

术语“烷基”、“芳基”、“杂芳基”等还包括多价基团，例如亚烷基、亚芳基、亚杂芳基 等。

术语“芳基”表示芳香族碳基团或由其衍生的基团。术语“杂芳基”表示如上定义的 包含一个或多个杂原子(优选选自N、O、S、Se、Te、Si和Ge)的“芳基”。

优选的碳基和烃基基团任选是取代的，直链、支链或环状的具有1至40、优选1至 20、非常优选1至12个C原子的烷基，烯基，炔基，烷氧基，烷基羰基，烷氧基羰基，烷基羰氧基 和烷氧基羰氧基，任选取代的具有5至30个、优选6至25个C原子的芳基或芳氧基，或任选取 代的具有5至30个、优选6至25个C原子的烷基芳基，芳烷基，烷基芳氧基，芳基烷基氧基，芳 基羰基，芳氧基羰基，芳基羰氧基和芳氧基羰氧基，其中一个或多个C原子还可以被杂原子 (优选选自N、O、S、Se、Te、Si和Ge)替代。

进一步优选的碳基和烃基基团是C₁-C₂₀烷基、C₂-C₂₀烯基、C₂-C₂₀炔基、C₃-C₂₀烯丙 基、C₄-C₂₀烷基二烯基、C₄-C₂₀多烯基、C₆-C₂₀环烷基、C₄-C₁₅环烯基、C₆-C₃₀芳基、C₆-C₃₀烷基芳 基、C₆-C₃₀芳烷基、C₆-C₃₀烷基芳氧基、C₆-C₃₀芳基烷氧基、C₂-C₃₀杂芳基、C₂-C₃₀杂芳氧基。

特别优选的是C₁-C₁₂烷基，C₂-C₁₂烯基，C₂-C₁₂炔基，C₆-C₂₅芳基和C₂-C₂₅杂芳基。

进一步优选的碳基和烃基基团是具有1至20、优选1至12个C原子的直链、支链或环 状烷基，其是未取代的或者被F、Cl、Br、I或CN单或多取代，并且其中一个或多个不相邻的 CH₂基团可以各自彼此独立地被-C(R^x)＝C(R^x)-、-C≡C-、-N(R^x)-、-O-、-S-、-CO-、-CO-O-、- O-CO-、-O-CO-O-以O和/或S原子彼此不直接相连的方式替代。

R^x优选表示H、F、Cl、CN，具有1至25个C原子的直链、支链或环状烷基链，其中此外， 一个或多个不相邻的C原子可以被-O-、-S-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-替代，并且其中 一个或多个H原子可以被F或Cl替代，或者表示任选取代的具有6至30个C原子的芳基或芳氧 基基团，或者任选取代的具有2至30个C原子的杂芳基或杂芳氧基基团。

优选的烷基基团例如为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁 基、2-甲基丁基、正戊基、仲戊基、环戊基、正己基、环己基、2-乙基己基、正庚基、环庚基、正 辛基、环辛基、正壬基、正癸基、正十一烷基、正十二烷基、十二烷基、三氟甲基、全氟正丁基、 2,2,2-三氟乙基、全氟辛基、全氟己基等。

优选的烯基基团为例如乙烯基、丙烯基、丁烯基、戊烯基、环戊烯基、己烯基、环己 烯基、庚烯基、环庚烯基、辛烯基、环辛烯基等。

优选的炔基基团为例如乙炔基、丙炔基、丁炔基、戊炔基、己炔基、辛炔基等。

优选的烷氧基基团为例如甲氧基、乙氧基、2-甲氧基乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、 正丁氧基、异丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、2-甲基丁氧基、正戊氧基、正己氧基、正庚氧基、 正辛氧基、正壬氧基、正癸氧基、正十一烷氧基、正十二烷氧基等。

优选的氨基基团为例如二甲基氨基、甲基氨基、甲基苯基氨基、苯基氨基等。

芳基和杂芳基基团可为单环的或多环的，即它们可以含有一个环(例如苯基)或两 个或更多个环，其也可以是稠合的(例如萘基)或共价键合的(例如联苯基)，或包含稠合和 连接环的组合。杂芳基含有一个或多个杂原子，优选选自O、N、S和Se。

特别优选的是具有6-25个C原子的单-、双-或三环芳基以及具有5-25个环原子的 单-、双-或三环杂芳基，其任选含有稠合环并且为任选取代的。进一步优选的是5-、6-或7- 元芳基和杂芳基，其中此外，一个或多个CH基团可被N、S或O以O原子和/或S原子不彼此直接 相连的方式替代。

优选的芳基基团例如为苯基、联苯基、三联苯基、[1,1':3',1”]-三联苯-2'-基、萘基、蒽基、联萘基、菲基、9,10-二氢-菲基、芘、二氢芘、二萘嵌苯、并四苯、并五苯、苯并芘、芴、茚、茚并芴、螺双芴(spirobifluorene)等。

优选的杂芳基基团例如为5-元环，例如吡咯、吡唑、咪唑、1,2,3-三唑、1,2,4-三 唑、四唑、呋喃、噻吩、硒吩、噁唑、异噁唑、1,2-噻唑、1,3-噻唑、1,2,3-噁二唑、1,2,4-噁二 唑、1,2,5-噁二唑、1,3,4-噁二唑、1,2,3-噻二唑、1,2,4-噻二唑、1,2,5-噻二唑、1,3,4-噻 二唑，6-元环，例如吡啶、哒嗪、嘧啶、吡嗪、1,3,5-三嗪、1,2,4-三嗪、1,2,3-三嗪、1,2,4,5- 四嗪、1,2,3,4-四嗪、1,2,3,5-四嗪或稠合基团，例如吲哚、异吲哚、吲嗪、吲唑、苯并咪唑、 苯并三唑、嘌呤、萘并咪唑、菲并咪唑、吡啶并咪唑、吡嗪并咪唑、喹喔啉并咪唑、苯并噁唑、 萘并噁唑、蒽并噁唑、菲并噁唑、异噁唑、苯并噻唑、苯并呋喃、异苯并呋喃、二苯并呋喃、喹 啉、异喹啉、蝶啶、苯并-5,6-喹啉、苯并-6,7-喹啉、苯并-7,8-喹啉、苯并异喹啉、吖啶、吩噻 嗪、吩噁嗪、苯并哒嗪、苯并嘧啶、喹喔啉、吩嗪、萘啶、氮杂咔唑、苯并咔啉、菲啶、菲咯啉、噻 吩并[2,3b]噻吩、噻吩并[3,2b]噻吩、二噻吩并噻吩、异苯并噻吩、二苯并噻吩、苯并噻二唑 噻吩，或者这些基团的组合。

上下文中提及的芳基和杂芳基基团还可以被烷基、烷氧基、硫代烷基、氟、氟代烷 基或其他芳基或杂芳基基团取代。

(非芳族)脂环基团和杂环基既包含饱和的环，即仅含有单键的环，还包含部分不 饱和的环，即也可以包含多重键的那些。杂环含有一个或多个杂原子，优选选自Si、O、N、S和 Se。

(非芳族)脂环基团和杂环基团可为单环的，即仅含一个环(例如环己烷)，或者是 多环的，即含有多个环(例如十氢化萘或者双环辛烷)。特别优选饱和的基团。此外优选具有 5-25个环原子的单-、双-或三环状基团，其任选含有稠合环且为任选取代的。进一步优选的 是5-、6-、7-或8-元碳环基团，其中此外，一个或多个C原子可被Si替代和/或一个或多个CH 基团可被N替代和/或一个或多个不相邻的CH₂基团可被-O-和/或-S-替代。

优选的脂环基团和杂环基团例如为5-元基团，例如环戊烷、四氢呋喃、四氢噻吩、 吡咯烷；6-元基团，例如环己烷、硅杂环己烷(silinane)、环己烯、四氢吡喃、四氢噻喃、1,3- 二噁烷、1,3-二噻烷、；7-元基团，例如环庚烷；和稠合基团，例如四氢化萘、十氢化萘、 茚满、双环[1.1.1]戊烷-1,3-二基、双环[2.2.2]辛烷-1,4-二基、螺[3.3]庚烷-2,6-二基、 八氢-4,7-桥亚甲基茚满-2,5-二基。

优选的取代基为例如溶解性促进基团，例如烷基或烷氧基；吸电子基团，例如氟、 硝基或腈；或者是用于提高聚合物玻璃化转变温度(Tg)的取代基，特别是大体积基团，例如 叔丁基或任选取代的芳基。

优选的取代基，在下文中还称作“L”，为例如F、Cl、Br、I、-CN、-NO₂、-NCO、-NCS、- OCN、-SCN、-C(＝O)N(R^x)₂、-C(＝O)Y¹、-C(＝O)R^x、-N(R^x)₂，各自具有1至25个C原子的直链或 支链烷基、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基羰氧基或烷氧基羰氧基，其中一个或多个H 原子任选被F或Cl替代，任选取代的具有1至20个Si原子的硅烷基，或者任选取代的具有6至 25个、优选6至15个C原子的芳基，

其中R^x表示H、F、Cl、CN，或者具有1至25个C原子的直链、支链或环状烷基，其中一 个或多个不相邻的CH₂-基团任选被-O-、-S-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-以O-和/或S- 原子不直接彼此相连的方式替代，并且其中一个或多个H原子各自任选被F、Cl、P-或P-Sp- 替代，并且

Y¹表示卤素。

“取代的硅烷基或芳基”优选表示其被卤素、-CN、R⁰、-OR⁰、-CO-R⁰、-CO-O-R⁰、-O- CO-R⁰或-O-CO-O-R⁰取代，其中R⁰表示H或具有1至20个C原子的烷基。

特别优选的取代基L例如是F、Cl、CN、NO₂、CH₃、C₂H₅、OCH₃、OC₂H₅、COCH₃、COC₂H₅、 COOCH₃、COOC₂H₅、CF₃、OCF₃、OCHF₂、OC₂F₅，此外还有苯基。

优选为

其中L具有以上指出的含义之一。

可聚合基团P是适合用于聚合反应(例如自由基或离子链式聚合，加成聚合或缩合 聚合)的基团，或者适用于聚合物相似转变(polymer-analogous)反应(例如在聚合物主链 上的加成或缩合)的基团。特别优选用于链式聚合的基团，特别是包含C＝C双键或-C≡C-三 键的那些，和适用于开环聚合的基团，例如氧杂环丁烷基或环氧基。

优选的基团P选自以下基团：CH₂＝CW¹-CO-O-、CH₂＝CW¹-CO-、CH₂＝CW²-(O)_k3-、CW¹＝CH-CO-(O)_k3-、CW¹＝CH-CO-NH-、CH₂＝CW¹-CO-NH-、CH₃-CH＝CH-O-、(CH₂＝CH)₂CH-OCO-、(CH₂＝CH-CH₂)₂CH-OCO-、(CH₂＝CH)₂CH-O-、(CH₂＝CH-CH₂)₂N-、(CH₂＝CH-CH₂)₂N-CO-、HO-CW²W³-、HS-CW²W³-、HW²N-、HO-CW²W³-NH-、CH₂＝CW¹-CO-NH-、CH₂＝CH-(COO)_k1-Phe-(O)_k2-、CH₂＝CH-(CO)_k1-Phe-(O)_k2-、Phe-CH＝CH-、HOOC-、OCN-和W⁴W⁵W⁶Si-，其中W¹表示H、F、Cl、CN、CF₃、苯基或具有1至5个C原子的烷基，特别是H、F、Cl或CH₃，W²和W³各自彼此独立地表示H或具有1至5个C原子的烷基，特别是H、甲基、乙基或正丙基，W⁴、W⁵和W⁶各自彼此独立地表示Cl，具有1至5个C原子的氧杂烷基或氧杂羰基烷基，W⁷和W⁸各自彼此独立地表示H、Cl或具有1至5个C原子的烷基，Phe表示1,4-亚苯基，其任选被一个或多个如上限定的不同于P-Sp-的基团L取代，k₁、k₂和k₃各自彼此独立地表示0或1，k₃优选表示1，并且k₄表示1至10的整数。

非常优选的基团P选自以下基团：CH₂＝CW¹-CO-O-、CH₂＝CW¹-CO-、

CH₂＝CW²-O-、CH₂＝CW²-，CW¹＝CH-CO-(O)_k3-、CW¹＝CH-CO-NH-、CH₂＝CW¹-CO-NH-、(CH₂＝CH)₂CH-OCO-、(CH₂＝CH-CH₂)₂CH-OCO-、(CH₂＝CH)₂CH-O-、(CH₂＝CH-CH₂)₂N-、(CH₂＝CH-CH₂)₂N-CO-、CH₂＝CW¹-CO-NH-、CH₂＝CH-(COO)_k1-Phe-(O)_k2-、CH₂＝CH-(CO)_k1-Phe-(O)_k2-、Phe-CH＝CH-和W⁴W⁵W⁶Si-，其中W¹表示H、F、Cl、CN、CF₃、苯基或具有1至5个C原子的烷基，特别是H、F、Cl或CH₃，W²和W³各自彼此独立地表示H或具有1至5个C原子的烷基，特别是H、甲基、乙基或正丙基，W⁴、W⁵和W⁶各自彼此独立地表示Cl，具有1至5个C原子的氧杂烷基或氧杂羰基烷基，W⁷和W⁸各自彼此独立地表示H、Cl或具有1至5个C原子的烷基，Phe表示1,4-亚苯基，k₁、k₂和k₃各自彼此独立地表示0或1，k₃优选表示1，并且k₄表示1至10的整数。

非常特别优选的基团P选自CH₂＝CW¹-CO-O-，特别是CH₂＝CH-CO-O-、CH₂＝C(CH₃)-CO-O-和CH₂＝CF-CO-O-，此外还有CH₂＝CH-O-、(CH₂＝CH)₂CH-O-CO-、(CH₂＝CH)₂CH-O-、

进一步优选的可聚合基团P选自乙烯氧基、丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基、氟代丙 烯酸酯基、氯代丙烯酸酯基、氧杂环丁烷基和环氧基，最优选选自丙烯酸酯基和甲基丙烯酸 酯基。

不同于单键的优选间隔基团Sp经选择具有式Sp"-X"，以使各个基团P-Sp-符合式 P-Sp"-X"-，其中

Sp"表示具有1至20、优选1至12个C原子的亚烷基，其任选地经F、Cl、Br、I或CN单取 代或多取代，且其中，另外，一个或多个不相邻的CH₂基团可各自彼此独立地经-O-、-S-、- NH-、-N(R⁰)-、-Si(R⁰R⁰⁰)-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-、-S-CO-、-CO-S-、-N(R⁰⁰)-CO- O-、-O-CO-N(R⁰)-、-N(R⁰)-CO-N(R⁰⁰)-、-CH＝CH-或-C≡C-以O和/或S原子彼此不直接连接 的方式替代，

X"表示-O-、-S-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-、-CO-N(R⁰)-、-N(R⁰)-CO-、-N (R⁰)-CO-N(R⁰⁰)-、-OCH₂-、-CH₂O-、-SCH₂-、-CH₂S-、-CF₂O-、-OCF₂-、-CF₂S-、-SCF₂-、- CF₂CH₂-、-CH₂CF₂-、-CF₂CF₂-、-CH＝N-、-N＝CH-、-N＝N-、-CH＝CR⁰-、-CY²＝CY³-、-C≡C-、-CH ＝CH-CO-O-、-O-CO-CH＝CH-或单键，

R⁰及R⁰⁰各自彼此独立地表示H或具有1至20个C原子的烷基，且

Y²及Y³各自彼此独立地表示H、F、Cl或CN。

X”优选是-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-O-COO-、-CO-NR⁰-、-NR⁰-CO-、-NR⁰-CO- NR⁰⁰-或单键。

典型的间隔基团Sp及-Sp”-X”-是例如-(CH₂)_p1-、-(CH₂)_p1-O-、-(CH₂)_p1-O-CO-、- (CH₂)_p1-CO-O-、-(CH₂)_p1-O-CO-O-、-(CH₂CH₂O)_q1-CH₂CH₂-、-CH₂CH₂-S-CH₂CH₂-、-CH₂CH₂-NH- CH₂CH₂-或-(SiR⁰R⁰⁰-O)_p1-，其中p1是1至12的整数，q1是1至3的整数，且R⁰及R⁰⁰具有上文所 指示含义。

非常优选的基团Sp及-Sp”-X”-是-(CH₂)_p1-、-(CH₂)_p1-O-、-(CH₂)_p1-O-CO-、- (CH₂)_p1-CO-O-、-(CH₂)_p1-O-CO-O-，其中p1具有上文所指示的含义，且其中这些基团连接至 可聚合基团P，使得两个O原子彼此不直接相邻。

特别优选的基团Sp"在每种情形中是直链的亚乙基、亚丙基、亚丁基、亚戊基、亚己 基、亚庚基、亚辛基、亚壬基、亚癸基、亚十一烷基、亚十二烷基、亚十八烷基、亚乙基氧基亚 乙基、亚甲基氧基亚丁基、亚乙基硫代亚乙基、亚乙基-N-甲基亚氨基-亚乙基、1-甲基亚烷 基、亚乙烯基、亚丙烯基和亚丁烯基。

在本发明的另一优选实施方式中，式I及其子式的可聚合化合物含有经一个或多 个可聚合基团P取代的间隔基团Sp，以使基团Sp-P对应于Sp(P)_s，其中s≥2(支链可聚合基 团)。

根据此优选实施方式的式I的优选的可聚合化合物是其中s是2的那些，即含有基 团Sp(P)₂的化合物。

式I及其子式的可聚合化合物中的优选基团Sp(P)₂选自下式：

-X-alkyl-CHPP Sp1

-X-alkyl-CH((CH₂)_aaP)((CH₂)_bbP) Sp2

-X-N((CH₂)_aaP)((CH₂)_bbP) Sp3

-X-alkyl-CHP-CH₂-CH₂P Sp4

-X-alkyl-C(CH₂P)(CH₂P)-C_aaH_2aa+1 Sp5

-X-alkyl-CHP-CH₂P Sp6

-X-alkyl-CPP-C_aaH_2aa+1 Sp7

-X-alkyl-CHPCHP-C_aaH_2aa+1 Sp8

其中P是如式I中所定义，

alkyl表示单键或具有1至12个C原子的直链或支链亚烷基，其未经取代或经F、Cl 或CN单取代或多取代，和其中一个或多个不相邻的CH₂基团可各自彼此独立地经-C(R⁰)＝C (R⁰)-、-C≡C-、-N(R⁰)-、-O-、-S-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-以O和/或S原子彼此不直 接连接的方式替代，其中R⁰具有上文所指示的含义，

aa及bb各自彼此独立地表示0、1、2、3、4、5或6，

X具有针对X”指示的含义之一，且优选是O、CO、SO₂、O-CO-、CO-O或单键。

优选间隔的基团Sp(P)₂选自式Sp1、Sp2及Sp3。

非常优选的间隔基团Sp(P)₂选自以下子式：

-CHPP Sp1a

-O-CHPP Sp1b

-CH₂-CHPP Sp1c

-OCH₂-CHPP Sp1d

-CH(CH₂-P)(CH₂-P) Sp2a

-OCH(CH₂-P)(CH₂-P) Sp2b

-CH₂-CH(CH₂-P)(CH₂-P) Sp2c

-OCH₂-CH(CH₂-P)(CH₂-P) Sp2d

-CO-NH((CH₂)₂P)((CH₂)₂P) Sp3a

其中P是如式I中所定义。

具体实施方式

包含如上下文所述步骤a)至e)的本发明的方法提供用以控制PSA显示器中的预倾 角的简单方式，该PSA显示器在每一基板上含有自配向层材料或其前体形成的配向层。

这是通过以下实现的：

a)对于两个基板中的一者，使用含有抑制LC介质的可聚合组分的聚合的聚合抑制 剂的配向层材料或其前体，或

b)对于两个基板中的另一者，使用含有引发LC介质的可聚合组分的聚合的聚合引 发剂的配向层材料或其前体，或

组合a)与b)两者。

举例而言，若仅向在第一基板上形成配向层的材料中添加抑制剂，则靠近第一基 板抑制LC介质的可聚合组分的聚合，且在第一基板处生成较低预倾角。另一方面，若仅向在 第二基板上形成配向层的材料中添加引发剂，则靠近第一基板抑制LC介质的可聚合组分的 聚合，且在第二基板处生成较高预倾角。

本发明的方法尤其适于曲面显示器，但也可用于非曲面显示器，即具有平面平行 基板的显示器。

本发明的方法也可应用于具有多个曲率、例如具有“波形”的显示器，其中顶部基 板及底部基板中的每一者均包含具有较高曲度的区及具有较低曲度的区。在此情形下，每 一基板上的配向层应经图案化，使得在具有较高曲度(较短半径)的任一基板处的区中，预 倾角减小，且在具有较低曲度(较长半径)的任一基板处的区中，预倾角增大。

在步骤a)中，提供形成LC显示器盒的第一及第二基板。本发明的PSA显示器的结构 对应于PSA显示器的常见几何结构，如在开篇处所引用的现有技术中所描述。无突出的几何 结构是优选的，特别是其中另外滤器侧上的电极未经结构化且仅在TFT侧上的电极具有 狭槽的那些。用于PS-VA显示器的尤其适宜且优选的电极结构描述于例如US 2006/0066793 A1中。

本发明的优选PSA类型LC显示器包含：

-包含第一电极及布置于该电极上的第一配向层的第一(或“顶部”)基板，

-包含第二电极及布置于该电极上的第二配向层的第二(或“底部”)基板，

其中第一及第二电极中的一者是限定像素区域的像素电极，像素电极连接至布置 于每一像素区域中的切换元件且任选地包括微狭缝图案，且

其中第一及第二电极中的另一者是常见的电极层，其可布置于基板面向另一基板 的整个部分，

-LC层，其布置于第一与第二基板之间且包括包含如上下文所述的可聚合组分A) 及液晶组分B)的LC介质，其中可聚合组分A)优选经聚合。

优选使用玻璃或石英基板。至少一个基板应对于光辐射可透射用于固化配向层材 料或其材料且用于聚合LC介质的可聚合组分。

也可使用塑料基板，例如包含诸如聚对苯二甲酸乙二酯(PET)或聚萘二甲酸乙二 酯(PEN)、聚乙烯醇(PVA)、聚碳酸酯(PC)或三乙酰基纤维素(TAC)的聚酯或有其制得。

电极结构可由本领域技术人员根据各个显示器类型基于从公知常识或文献已知 的方法及材料来设计。

举例而言，对于PS-VA显示器而言，LC分子的多域取向可通过提供具有狭缝和/或 凸起或突出的电极来诱导以产生两个、四个或更多个不同倾斜配向方向。

在步骤b)中，配向层材料或其前体优选由溶液沉积于基板中的每一者上。

第一及第二配向层控制LC层的LC分子的配向方向。举例而言，在PS-VA显示器中， 配向层经选择，使得其向LC分子赋予垂面或(垂直)配向(即垂直于表面)或倾斜配向。这样 的配向层可例如包含聚酰亚胺，其也可经摩擦或可通过光配向方法来制备。

配向层材料优选包含聚酰亚胺，非常优选地由其组成。聚酰亚胺经选择，使得其诱 导LC介质的LC分子的垂直配向。

适宜的垂直聚酰亚胺配向层材料是市售的材料，如例如AL60702(来自JSR)。

聚酰亚胺也可在沉积后经固化，如下文步骤c)中所述。

在本发明的优选实施方式中，第一及第二配向层是由配向层前体材料制得。举例 而言，若配向包含聚酰亚胺，则其优选是由聚酰亚胺前体制得，其随后经固化以形成聚酰亚 胺层。这样的材料是市售的。

非常优选的是溶液可处理配向层材料。这些优选自溶液在溶剂(优选有机溶剂)中 经处理。适宜的溶剂是例如N-甲基吡咯烷酮、丁基溶纤剂或γ-丁内酯。

配向层材料或其前体含有分别抑制或引发LC介质的可聚合组分的光聚合的聚合 抑制剂或光引发剂。

适宜的抑制剂及引发剂可由本领域技术人员根据LC介质中所用的可聚合组分及 根据期望聚合方法容易地选择。

适宜的抑制剂是例如来自系列(Ciba AG)(如例如或1010)的市售稳定剂。其他适宜且优选的抑制剂是选自下表D的那些。

基于配向层材料的总量(不包括溶剂)，抑制剂的浓度优选是1ppm至10,000ppm，非 常优选地10ppm至500ppm。

适于自由基聚合的引发剂是例如或系列(Ciba AG)的市售光引发剂，如例如Irgacure或

基于配向层材料的总量(不包括溶剂)，引发剂的浓度优选是1ppm至10,000ppm，非 常优选地10ppm至500ppm。

由此，可独立地且单独地通过在每一配向层中使用引发剂和/或抑制剂如下控制 两个基板中的每一者处的LC分子的预倾角：

1)顶部基板的配向层材料含有抑制剂，且底部基板的配向层不含抑制剂。

2)底部基板的配向层含有引发剂，且顶部基板的配向层材料不含引发剂。

3)顶部基板的配向层材料含有抑制剂，且底部基板的配向层含有引发剂。

在现有技术中，已知向LC介质中添加聚合引发剂以增强可聚合组分的聚合。在现 有技术中，还已知向LC介质中添加抑制剂或稳定剂以例如防止储存期间或其他显示器制造 步骤期间可聚合组分的不期望自发聚合。然而，由于引发剂和/或抑制剂均匀分布遍及LC介 质，可聚合组分的聚合通常以相同方式靠近基板中的任一者进行。

与此相比，在本发明的方法中，无需向LC介质中添加抑制剂或引发剂。相反，尤其 向基板的仅一者上的配向层材料添加抑制剂或引发剂，或向一个配向层中添加引发剂且向 另一配向层中添加抑制剂。因此，可聚合组分的聚合是以不同方式靠近两个基板中的每一 者进行。

配向层材料或其前体可通过例如涂布或印刷方法施加至基板上。

优选的沉积技术包括但不限于浸涂、旋涂、喷墨印刷、喷嘴印刷、凸版印刷、丝网印 刷、凹版印刷、刮刀涂布、辊印刷、反向辊印刷、胶版微影印刷、干式胶版微影印刷、柔版印 刷、卷筒纸印刷(web printing)、喷涂、幕涂、刷涂、狭缝模具式涂布或移印。对于挠性LC显 示器的制作而言，与挠性基板相容的区域印刷方法是优选的，例如狭缝模具式涂布、喷涂 等。

在使用溶剂沉积配向层材料的情形下，优选在沉积后干燥除去或蒸发除去该溶 剂。溶剂蒸发可通过例如施加热和/或减少的压力来支持。

在任选的步骤c)中，配向层材料或其前体材料经固化以在基板的每一者上形成配 向层。

优选的固化方法是热固化及光固化，非常优选地光固化。光固化是例如通过暴露 于UV辐射来实施。适宜的固化条件可由本领域技术人员根据所用前体材料基于他的常识且 如文献中所述经选择。在市售的材料的情形下，适宜的处理和/或固化条件通常与材料的销 售或取样一起提供。

在步骤d)中，在第一基板与第二基板之间插入包含可光聚合组分的LC介质，使得 其与基板中的每一者上提供的配向层接触。LC介质可通过本领域技术人员已知且描述于文 献中的方法插入两个基板之间。

两个基板随后装配、例如胶粘或以其他方式固定在一起以形成显示器盒。

LC介质优选通过滴下式注入法(ODF)插入两个基板之间。

优选的ODF法包括以下步骤：

d1)将包含可聚合组分，优选包含如上下文所述的组分A)及B)的LC介质的小滴的 阵列分配于如上下文所述的第一及第二基板中的一者上，

d2)优选在真空条件下在由LC介质的分配小滴覆盖的基板顶部上提供第一及第二 基板中的另一者，从而引起LC介质的小滴在两个基板之间扩散并形成连续层。

优选地，第一及第二基板通过提供于第一基板和/或第二基板上、或第一基板与第 二基板之间，优选地LC材料的小滴与各个基板的边缘之间区中的密封材料固定或胶粘在一 起。

优选地，密封材料通过例如暴露于热和/或光辐射经固化。在密封材料通过暴露于 光辐射固化的情形下，光辐射优选经选择，使得其不引起LC介质的可聚合组分A)的聚合， 和/或通过例如光掩模保护LC介质不受用于固化密封材料的光辐射的影响。

PSA显示器可包含其他元件，如滤器、黑矩阵、钝化层、光学延迟层、对各个像素 进行寻址的晶体管元件等，其所有均为本领域技术人员所熟知且可不利用创造性技能来采 用。

在步骤中e)，LC介质中所含的可聚合组分的可聚合化合物是任选地在将电压施加 至电极时通过在LC显示器的基板间的LC介质中原位聚合来聚合或交联(若一种化合物含有 两个或更多个可聚合基团)。

在聚合时，可聚合组分的可聚合化合物形成聚合物或交联聚合物，其生成LC介质 中的LC分子的预倾角。不希望受具体理论限制，据信由可聚合化合物形成的交联聚合物的 至少一部分将从LC介质相分离或沉淀并在基板或电极或其上所提供的配向层上形成聚合 物层。显微测量数据(如SEM及AFM)已证实所形成聚合物的至少一部分累积在LC/基板界面 处。

可聚合组分的可聚合化合物的聚合可在一个步骤中实施。也可在两个步骤中实施 聚合，第一聚合步骤优选施加电压用于生成预倾角，且第二聚合步骤优选不施加电压用于 聚合在第一步骤中不反应或不完全反应的化合物(“末端固化”)。

适宜且优选的聚合方法是例如热或光聚合、优选地光聚合、特别是UV诱导的光聚 合，该UV诱导的光聚合可通过将可聚合化合物暴露于UV辐射来实现。

优选地，LC介质的可聚合组分是通过暴露于UV辐射而光聚合。

优选地，在LC介质的可聚合组分的聚合期间向电极施加电压。

如上文所提及，在本发明的方法中，无需向LC介质中添加引发剂。然而，仍可向LC介质中添加一种或多种聚合引发剂。聚合的适宜条件及引发剂的适宜类型及量为本领域技术人员已知且描述于文献中。适于自由基聚合的是例如市售的光引发剂Irgacure或(Ciba AG)。

若向LC介质中添加聚合引发剂，则基于LC介质的可聚合组分中的可聚合化合物的 总量(不包括溶剂)，其比例优选是0.001重量％至5重量％、特别优选0.001重量％至3重 量％。

优选地，LC介质的可聚合组分中所用的可聚合化合物经选择，使得其适于在无引 发剂情况下聚合。这伴随大量优点，如例如较低材料成本及LC介质由可能残余量的引发剂 或其降解产物引起的较少污染。

优选地，当在本发明的方法的步骤d)中插入基板之间时，LC介质不含聚合引发剂。 随后有效引发LC介质中的聚合的唯一引发剂来自配向层。

除添加至配向层的抑制剂外，LC介质也可还包含一种或多种抑制剂或稳定剂以防止例如在储存或运输期间LC介质的可聚合组分的不期望的自发聚合。抑制剂、稳定剂的适宜类型及量为本领域技术人员已知且描述于文献中。尤其适宜的是例如来自系列(Ciba AG)(例如1076)的市售稳定剂。若向LC介质中添加抑制剂或稳定剂，则基于LC介质的可聚合组分中的可聚合化合物的总量(不包括溶剂)，其比例优选是10-500,000ppm、特别优选50-50,000ppm。

优选地，在本发明的方法的步骤d)中插入基板之间时，LC介质不含抑制剂。随后有 效抑制LC介质中的聚合的唯一抑制剂来自配向层。

优选的是在较长UV波长下显示高吸收，从而能够使用较长UV波长用于聚合(这对 于显示器制造方法有利)的本发明的LC介质。

如可聚合组分中所用的可聚合化合物显示良好的UV吸收，且因此尤其适于制备 PSA显示器的方法，该方法包括以下特征中的一个或多个：

-在2步骤方法中将可聚合介质暴露于显示器中的UV光，该方法包括第一UV暴露步 骤(“UV-1步骤”)以生成倾角及第二UV暴露步骤(“UV-2步骤”)以完成聚合，

-将可聚合介质暴露于在显示器中由节能UV灯(也称为“绿UV灯”)生成的UV光。 这些灯的特征在于在其从300nm至380nm的吸收光谱中的相对低强度(常规的UV1灯的1/100 至1/10)，且优选在UV2步骤中使用，但任选地在该方法必需避免高强度时也在UV1步骤中使 用。

-将可聚合介质暴露于显示器中由具有位移至较长波长(优选地340nm或更大)的 辐射光谱的UV灯生成的UV光，以在PS-VA方法中避免短UV光暴露。

使用较低强度及UV位移至较长波长二者均保护有机层免于可由UV光造成的损害。

本发明的优选实施方式涉及用于制备如上下文所述的PSA显示器的方法，该方法 包括以下特征中的一个或多个：

-在2步骤方法中将可聚合LC介质暴露于UV光，该方法包括第一UV暴露步骤(“UV-1 步骤”)以生成倾角及第二UV暴露步骤(“UV-2步骤”)以完成聚合，

-将可聚合LC介质暴露于由UV灯生成的UV光，该UV灯在300nm至380nm的波长范围 内具有0.5mW/cm²至10mW/cm²的强度，优选地在UV2步骤中且任选地也在UV1步骤中使用，

-将可聚合LC介质暴露于具有340nm或更大、且优选地400nm或更小的波长的UV光。

可例如通过使用期望的UV灯或通过使用带通滤波器和/或截止滤波器来实施此优 选方法，该带通滤波器和/或截止滤波器基本上透射具有各个期望波长的UV光且基本上阻 挡具有各个不期望波长的光。举例而言，当期望用波长λ为300nm至400nm的UV光辐照时，可 使用基本上透射300nm＜λ＜400nm的波长的宽带通滤波器来实施UV暴露。当期望用波长λ超 过340nm的UV光辐照时，可使用基本上透射波长λ＞340nm的截止滤波器来实施UV暴露。

“基本上透射”意指该滤波器传递大部分、优选地至少50％的期望波长的入射光的 强度。“基本上阻挡”意指该滤波器不传递大部分、优选地至少50％的不期望波长的入射光 的强度。“期望(不期望)波长”在例如带通滤波器的情形下意指在λ的给定范围内(外)的波 长，且在截止滤波器的情形下意指高于(低于)λ的给定值的波长。

此优选方法使能够通过使用较长UV波长制造显示器，由此减少或甚至避免短UV光 组分的危险及损害效应。

UV辐射能量优选地为6J至100J，这取决于生产方法条件。

LC介质中的整个可聚合组分的比例优选是＞0％至≤5％，非常优选地＞0％至≤ 1％，最优选0.05％至0.5％。

优选的是非手性可聚合化合物及其中可聚合组分的化合物排他性地选自由非手 性化合物组成的组的LC介质。

在本发明的优选实施方式中，LC介质的可聚合组分包含一种或多种选自式I的可 聚合化合物，非常优选地由其组成

R^a-B¹-(Z^b-B²)_m-R^b I

其中各个基团在每次出现时相同或不同且各自彼此独立地具有以下含义：

R^a及R^b为P、P-Sp-、H、F、Cl、Br、I、-CN、-NO₂、-NCO、-NCS、-OCN、-SCN、SF₅或具有1至 25个C原子的直链或支链烷基，其中，另外，一个或多个不相邻的CH₂基团可各自彼此独立地 经-C(R⁰)＝C(R⁰⁰)-、-C≡C-、-N(R⁰⁰)-、-O-、-S-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-以O和/或S 原子彼此不直接连接的方式替代，且其中，另外，一个或多个H原子可经F、Cl、Br、I、CN、P或 P-Sp-替代，其中，若B¹和/或B²含有饱和C原子，则R^a和/或R^b也可表示螺环连接至此饱和C原 子的基团，

其中基团R^a及R^b中的至少一者表示或含有基团P或P-Sp-，

P是可聚合基团，

Sp是间隔基团或单键，

B¹及B²是优选具有4至25个环原子的芳香族、杂芳香族、脂环族或杂环基，其也可含 有稠合环，且其未经取代或经L单取代或多取代，

Z^b是-O-、-S-、-CO-、-CO-O-、-OCO-、-O-CO-O-、-OCH₂-、-CH₂O-、-SCH₂-、-CH₂S-、- CF₂O-、-OCF₂-、-CF₂S-、-SCF₂-、-(CH₂)_n1-、-CF₂CH₂-、-CH₂CF₂-、-(CF₂)_n1-、-CH＝CH-、-CF＝ CF-、-C≡C-、-CH＝CH-COO-、-OCO-CH＝CH-、CR⁰R⁰⁰或单键，

R⁰及R⁰⁰各自彼此独立地表示H或具有1至12个C原子的烷基，

m表示0、1、2、3或4，

n1表示1、2、3或4，

L是P、P-Sp-、OH、CH₂OH、F、Cl、Br、I、-CN、-NO₂、--NCO、-NCS、-OCN、-SCN、-C(＝O)N (R^x)₂、-C(＝O)Y¹、-C(＝O)R^x、-N(R^x)₂、任选地经取代的硅烷基、具有6至20个C原子的任选地 经取代的芳基、或具有1至25个C原子的直链或支链烷基、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷 基羰基氧基或烷氧基羰基氧基，其中，另外，一个或多个H原子可经F、Cl、P或P-Sp-替代，

P及Sp具有上文所指示含义，

Y¹表示卤素，

R^x表示P、P-Sp-、H、卤素、具有1至25个C原子的直链、支链或环状烷基，其中，另外， 一个或多个不相邻的CH₂基团可由-O-、-S-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-以O和/或S原子 彼此不直接连接的方式替代，且其中，另外，一个或多个H原子可由F、Cl、P或P-Sp-替代，具 有6至40个C原子的任选地经取代的芳基或芳基氧基或具有2至40个C原子的任选地经取代 的杂芳基或杂芳基氧基。

优选的式I的化合物是其中B¹及B²各自彼此独立地表示1,4-亚苯基、1,3-亚苯基、 萘-1,4-二基、萘-2,6-二基、菲-2,7-二基、9,10-二氢-菲-2,7-二基、蒽-2,7-二基、芴-2,7- 二基、香豆素、黄酮(其中，另外，这些基团中的一个或多个CH基团可经N替代)、环己烷-1,4- 二基(其中，另外，一个或多个不相邻的CH₂基团可经O和/或S替代)、1,4-亚环己烯基、二环 [1.1.1]戊烷-1,3-二基、二环[2.2.2]辛烷-1,4-二基、螺[3.3]庚烷-2,6-二基、-1,4- 二基、十氢萘-2,6-二基、1,2,3,4-四氢萘-2,6-二基、茚满-2,5-二基或八氢-4,7-桥亚甲基 茚满-2,5-二基的那些，其中所有这些基团均可未经取代或经如上文所定义的L单取代或多 取代。

式I的非常优选的化合物是其中B¹及B²各自彼此独立地表示1,4-亚苯基、1,3-亚苯 基、萘-1,4-二基或萘-2,6-二基的那些。

式I的非常优选的化合物选自下式

其中各个基团在每次出现时相同或不同地且各自彼此独立地具有以下含义：

P¹、P²、P³是乙烯基氧基、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、氟丙烯酸酯、氯丙烯酸酯、氧杂 环丁烷或环氧基，

Sp¹、Sp²、Sp³是如针对Sp所定义的单键或间隔基团，其中，另外，基团P¹-Sp¹-、P¹- Sp²-及P³-Sp³-中的一者或多者可表示R^aa，限制条件是所存在的基团P¹-Sp¹-、P²-Sp²及P³- Sp³-中的至少一者不同于R^aa，

R^aa是H、F、Cl、CN或具有1至25个C原子的直链或支链烷基，其中，另外，一个或多个 不相邻的CH₂可各自彼此独立地经(R⁰)＝C(R⁰⁰)-、-C≡C-、-N(R⁰)-、-O-、-S-、-CO-、-CO-O-、- O-CO-、-O-CO-O-以O和/或S原子彼此不直接连接的方式替代，且其中，另外，一个或多个H原 子可经F、Cl、CN或P¹-Sp¹-替代，特别优选具有1至12个C原子的直链或支链、任选地单氟化或 多氟化的烷基、烷氧基、烯基、炔基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基羰基氧基或烷氧基羰基氧 基(其中烯基及炔基具有至少2个C原子且支链基团具有至少3个C原子)，

R⁰、R⁰⁰是H或具有1至12个C原子的烷基，

R^y及R^z是H、F、CH₃或CF₃，

X¹、X²、X³是-CO-O-、-O-CO-或单键，

Z¹是-O-、-CO-、-C(R^yR^z)-或-CF₂CF₂-，

Z²、Z³是-CO-O-、-O-CO-、-CH₂O-、-OCH₂-、-CF₂O-、-OCF₂-或-(CH₂)_n-，其中n是2、3或 4，

L是F、Cl、CN或具有1至12个C原子的直链或支链、任选地单氟化或多氟化的烷基、 烷氧基、烯基、炔基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基羰基氧基或烷氧基羰基氧基，

L’、L”是H、F或Cl，

r是0、1、2、3或4，

s是0、1、2或3，

t是0、1或2，

x是0或1。

特别优选的是式M2、M13、M17、M22、M23、M24及M30的化合物。

进一步优选的是三反应性化合物M15至M30，特别是M17、M18、M19、M22、M23、M24、 M25、M26、M30及M31。

在式M1至M31化合物中，基团

其中L在每次出现时相同或不同地具有上文或下文给出的含义之一，且优选是F、 Cl、CN、NO₂、CH₃、C₂H₅、C(CH₃)₃、CH(CH₃)₂、CH₂CH(CH₃)C₂H₅、OCH₃、OC₂H₅、COCH₃、COC₂H₅、COOCH₃、 COOC₂H₅、CF₃、OCF₃、OCHF₂、OC₂F₅或P-Sp-，非常优选是F、Cl、CN、CH₃、C₂H₅、OCH₃、COCH₃、OCF₃或 P-Sp-，更优选地是F、Cl、CH₃、OCH₃、COCH₃或OCF₃，尤其是F或CH₃。

式M1至M31的优选化合物是其中P¹、P²及P³表示丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、氧杂环丁 烷或环氧基、非常优选地丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯基团的那些。

式M1至M31的进一步优选的化合物是其中Sp¹、Sp²及Sp³是单键的那些。

式M1至M31的进一步优选的化合物是其中Sp¹、Sp²及Sp³中的一者是单键且Sp¹、Sp² 及Sp³中的另一者不同于单键的那些。

式M1至M31的进一步优选的化合物是其中不同于单键的那些Sp¹、Sp²及Sp³表示- (CH₂)_s1-X”-的那些，其中s1是1至6、优选2、3、4或5的整数，且X”是与苯环的连接且是-O-、- O-CO-、-CO-O、-O-CO-O-或单键。

进一步优选的可聚合化合物及RM是选自下表E的那些。

特别优选的是包含一种、两种或三种式I的可聚合化合物的LC介质。

优选地，LC介质中的式I化合物的比例是0.01％至5％，非常优选0.05％至1％，最 优选0.1％至0.5％。

除如上文所述的可聚合组分A)以外，本发明LC介质包含LC组分B)或LC主体混合 物，其包含一种或多种、优选地两种或更多种选自不可聚合的低分子量化合物的LC化合物。 这些LC化合物经选择，使得其在施加至可聚合化合物的聚合的条件下对于聚合反应是稳定 的和/或不具反应性的。

LC介质中的LC组分B)的比例优选是95％至＜100％、非常优选地99％至＜100％。

这些化合物的实例是下文所示的化合物。

优选的是其中LC组分B)或LC主体混合物具有向列型LC相且优选不具有手性液晶 相的LC介质。

此外，优选的是非手性可聚合化合物及其中组分A)和/或B)的化合物排他性地选 自由非手性化合物组成的组的LC介质。

LC组分B)或LC主体混合物优选地为向列型LC混合物。

在第一优选实施方式中，LC介质含有基于具有负介电各向异性的化合物的LC组分 B)或LC主体混合物。这样的LC介质尤其适用于PS-VA及PS-UB-FFS显示器中。该LC介质的特 别优选实施方式是下文部分a)-z4)的那些：

a)LC介质，其中组分B)或LC主体混合物包含一种或多种选自式CY及PY的化合物：

其中

a表示1或2，

b表示0或1，

表示

R¹及R²各自彼此独立地表示具有1至12个C原子的烷基，其中，另外，一个或两个不 相邻的CH₂基团可经-O-、-CH＝CH-、-CO-、-OCO-或-COO-以O原子彼此不直接连接的方式替 代，优选为具有1至6个C原子的烷基或烷氧基，

Z^x及Z^y各自彼此独立地表示-CH₂CH₂-、-CH＝CH-、-CF₂O-、-OCF₂-、-CH₂O-、-OCH₂-、- CO-O-、-O-CO-、-C₂F₄-、-CF＝CF-、-CH＝CH-CH₂O-或单键，优选为单键，

L^1-4各自彼此独立地表示F、Cl、OCF₃、CF₃、CH₃、CH₂F、CHF₂。

优选地，L¹及L²二者均表示F或L¹及L²中的一者表示F且另一者表示Cl，或L³及L⁴二 者均表示F或L³及L⁴中的一者表示F且另一者表示Cl。

式CY化合物优选选自由以下子式组成的组：

其中a表示1或2，alkyl及alkyl*各自彼此独立地表示具有1至6个C原子的直链烷 基，且alkenyl表示具有2至6个C原子的直链烯基，且(O)表示氧原子或单键。alkenyl优选表 示CH₂＝CH-、CH₂＝CHCH₂CH₂-、CH₃-CH＝CH-、CH₃-CH₂-CH＝CH-、CH₃-(CH₂)₂-CH＝CH-、CH₃- (CH₂)₃-CH＝CH-或CH₃-CH＝CH-(CH₂)₂-。

特别优选的是选自式CY2、CY8、CY10及CY16的化合物，非常优选地式CY2及CY10的 那些。

式PY化合物优选选自由以下子式组成的组：

其中alkyl及alkyl*各自彼此独立地表示具有1至6个C原子的直链烷基，且 alkenyl表示具有2至6个C原子的直链烯基，且(O)表示氧原子或单键。alkenyl优选表示CH₂ ＝CH-、CH₂＝CHCH₂CH₂-、CH₃-CH＝CH-、CH₃-CH₂-CH＝CH-、CH₃-(CH₂)₂-CH＝CH-、CH₃-(CH₂)₃-CH ＝CH-或CH₃-CH＝CH-(CH₂)₂-。

特别优选的是选自式PY2、PY8、PY10及PY16的化合物，非常优选式PY2及PY10的那 些。

优选地，组分B)或LC主体混合物包含优选1重量％至20重量％、非常优选地8重 量％至20重量％的量的一种或多种式PY2化合物。

b)LC介质，其中组分B)或LC主体混合物包含一种或多种包含烯基的介晶或LC化合 物(下文也称为“烯基化合物”)，其中所述烯基对于聚合反应在用于LC介质中所含的可聚合 化合物的聚合的条件下是稳定的。

优选地，组分B)或LC主体混合物包含一种或多种选自式AN及AY的烯基化合物

其中各个基团在每次出现时相同或不同且各自彼此独立地具有以下含义：

表示

表示

表示

R^A1是具有2至9个C原子的烯基，或若环X、Y及Z中的至少一者表示环己烯基，则也具 有R^A2的含义之一，

R^A2是具有1至12个C原子的烷基，其中，另外，一个或两个不相邻的CH₂基团可经- O-、-CH＝CH-、-CO-、-OCO-或-COO-以O原子彼此不直接连接的方式替代，

Z^x是-CH₂CH₂-、-CH＝CH-、-CF₂O-、-OCF₂-、-CH₂O-、-OCH₂-、-CO-O-、-O-CO-、-C₂F₄-、- CF＝CF-、-CH＝CH-CH₂O-或单键，优选为单键，

L^1、2是H、F、Cl、OCF₃、CF₃、CH₃、CH₂F或CHF₂H，优选为H、F或Cl，

x是1或2，

z是0或1。

式AN及AY的优选化合物是其中R^A2选自乙烯基、丙烯基、丁烯基、戊烯基、己烯基及 庚烯基的那些。

在优选实施方式中，组分B)或LC主体混合物包含一种或多种选自以下子式的式AN 化合物：

其中alkyl及alkyl*各自彼此独立地表示具有1至6个C原子的直链烷基，且 alkenyl及alkenyl*各自彼此独立地表示具有2至7个C原子的直链烯基。alkenyl及 alkenyl*优选表示CH₂＝CH-、CH₂＝CHCH₂CH₂-、CH₃-CH＝CH-、CH₃-CH₂-CH＝CH-、CH₃-(CH₂)₂- CH＝CH-、CH₃-(CH₂)₃-CH＝CH-或CH₃-CH＝CH-(CH₂)₂-。

优选地，组分B)或LC主体混合物包含一种或多种选自式AN1、AN2、AN3及AN6的化合 物，非常优选地一种或多种式AN1化合物。

在另一优选实施方式中，组分B)或LC主体混合物包含一种或多种选自以下子式的 式AN化合物：

其中m表示1、2、3、4、5或6，i表示0、1、2或3，且R^b1表示H、CH₃或C₂H₅。

在另一优选实施方式中，组分B)或LC主体混合物包含一种或多种选自以下子式的 化合物：

最优选的是式AN1a2及AN1a5化合物。

在另一优选实施方式中，组分B)或LC主体混合物包含一种或多种选自以下子式的 式AY化合物：

其中alkyl及alkyl*各自彼此独立地表示具有1至6个C原子的直链烷基，“(O)”表 示O原子或单键，且alkenyl及alkenyl*各自彼此独立地表示具有2至7个C原子的直链烯基。 alkenyl及alkenyl*优选表示CH₂＝CH-、CH₂＝CHCH₂CH₂-、CH₃-CH＝CH-、CH₃-CH₂-CH＝CH-、 CH₃-(CH₂)₂-CH＝CH-、CH₃-(CH₂)₃-CH＝CH-或CH₃-CH＝CH-(CH₂)₂-。

在另一优选实施方式中，组分B)或LC主体混合物包含一种或多种选自以下子式的 式AY化合物：

其中m及n各自彼此独立地表示1、2、3、4、5或6，且alkenyl表示CH₂＝CH-、CH₂＝ CHCH₂CH₂-、CH₃-CH＝CH-、CH₃-CH₂-CH＝CH-、CH₃-(CH₂)₂-CH＝CH-、CH₃-(CH₂)₃-CH＝CH-或CH₃- CH＝CH-(CH₂)₂-。

优选地，LC介质中的式AN及AY化合物的比例是2重量％至70重量％、非常优选地5 重量％至60重量％、最优选地10重量％至50重量％。

优选地，LC介质或LC主体混合物含有1至5、优选1、2或3种选自式AN及AY的化合物。

式AN和/或AY的烯基化合物的添加使能够减少LC介质的粘度及响应时间。

c)LC介质，其中组分B)或LC主体混合物包含一种或多种下式化合物：

其中各个基团具有以下含义：

表示

表示

R³及R⁴各自彼此独立地表示具有1至12个C原子的烷基，其中，另外，一个或两个不 相邻的CH₂基团可经-O-、-CH＝CH-、-CO-、-O-CO-或-CO-O-以O原子彼此不直接连接的方式 替代，

Z^y表示-CH₂CH₂-、-CH＝CH-、-CF₂O-、-OCF₂-、-CH₂O-、-OCH₂-、-CO-O-、-O-CO-、- C₂F₄-、-CF＝CF-、-CH＝CH-CH₂O-或单键，优选为单键。

式ZK化合物优选选自由以下各子式组成的组：

其中alkyl及alkyl*各自彼此独立地表示具有1至6个C原子的直链烷基，且 alkenyl表示具有2至6个C原子的直链烯基。alkenyl优选表示CH₂＝CH-、CH₂＝CHCH₂CH₂-、 CH₃-CH＝CH-、CH₃-CH₂-CH＝CH-、CH₃-(CH₂)₂-CH＝CH-、CH₃-(CH₂)₃-CH＝CH-或CH₃-CH＝CH- (CH₂)₂-。

特别优选的是式ZK1化合物。

式ZK的特别优选的化合物是选自以下子式：

其中丙基、丁基及戊基是直链。

最优选的是式ZK1a化合物。

d)LC介质，其中组分B)或LC主体混合物另外包含一种或多种下式化合物：

其中各个基团在每次出现时相同或不同地具有以下含义：

R⁵及R⁶各自彼此独立地表示具有1至12个C原子的烷基，其中，另外一个或两个不相 邻的CH₂基团可经-O-、-CH＝CH-、-CO-、-OCO-或-COO-以O原子彼此不直接连接的方式替代， 优选为具有1至6个C原子的烷基或烷氧基，

表示

表示

e表示1或2。

式DK化合物优选选自由以下子式组成的组：

其中alkyl及alkyl*各自彼此独立地表示具有1至6个C原子的直链烷基，且 alkenyl表示具有2至6个C原子的直链烯基。alkenyl优选表示CH₂＝CH-、CH₂＝CHCH₂CH₂-、 CH₃-CH＝CH-、CH₃-CH₂-CH＝CH-、CH₃-(CH₂)₂-CH＝CH-、CH₃-(CH₂)₃-CH＝CH-或CH₃-CH＝CH- (CH₂)₂-。

e)LC介质，其中组分B)或LC主体混合物另外包含一种或多种下式化合物：

其中各个基团具有以下含义：

d表eno示t

其中至少一个环F不同于亚环己基，

f表示1或2，

R¹及R²各自彼此独立地表示具有1至12个C原子的烷基，其中，另外，一个或两个不 相邻的CH₂基团可经-O-、-CH＝CH-、-CO-、-OCO-或-COO-以O原子彼此不直接连接的方式替 代，

Z^x表示-CH₂CH₂-、-CH＝CH-、-CF₂O-、-OCF₂-、-CH₂O-、-OCH₂-、-CO-O-、-O-CO-、- C₂F₄-、-CF＝CF-、-CH＝CH-CH₂O-或单键，优选为单键，

L¹及L²各自彼此独立地表示F、Cl、OCF₃、CF₃、CH₃、CH₂F、CHF₂。

优选地，基团L¹及L²二者均表示F，或基团L¹及L²中的一者表示F且另一者表示Cl。

式LY化合物优选选自由以下子式组成的组：

其中R¹具有上文所指示的含义，alkyl表示具有1至6个C原子的直链烷基，(O)表示 氧原子或单键，且v表示1至6的整数。R¹优选表示具有1至6个C原子的直链烷基或具有2至6 个C原子的直链烯基，特别是CH₃、C₂H₅、n-C₃H₇、n-C₄H₉、n-C₅H₁₁、CH₂＝CH-、CH₂＝CHCH₂CH₂-、 CH₃-CH＝CH-、CH₃-CH₂-CH＝CH-、CH₃-(CH₂)₂-CH＝CH-、CH₃-(CH₂)₃-CH＝CH-或CH₃-CH＝CH- (CH₂)₂-。

特别优选地，组分B)或LC主体混合物包含一种或多种式LY10化合物。

f)LC介质，其中组分B)或LC主体混合物另外包含一种或多种选自由下式组成的组 的化合物：

其中alkyl表示C_1-6-烷基，L^x表示H或F，且X表示F、Cl、OCF₃、OCHF₂或OCH＝CF₂。特别 优选的是式G1化合物，其中X表示F。

g)LC介质，其中组分B)或LC主体混合物另外包含一种或多种选自由下式组成的组 的化合物：

其中R⁵具有上文针对R¹所指示含义之一，alkyl表示C_1-6-烷基，d表示0或1，且z及m 各自彼此独立地表示1至6的整数。这些化合物中的R⁵特别优选为C_1-6-烷基或-烷氧基或 C_2-6-烯基，d优选为1。本发明的LC介质优选包含≥5重量％的量的一种或多种上文所提及式 的化合物。

h)LC介质，其中组分B)或LC主体混合物另外包含一种或多种选自由下式组成的组 的联苯化合物：

其中alkyl及alkyl*各自彼此独立地表示具有1至6个C原子的直链烷基，且 alkenyl及alkenyl*各自彼此独立地表示具有2至6个C原子的直链烯基。alkenyl及 alkenyl*优选表示CH₂＝CH-、CH₂＝CHCH₂CH₂-、CH₃-CH＝CH-、CH₃-CH₂-CH＝CH-、CH₃-(CH₂)₂- CH＝CH-、CH₃-(CH₂)₃-CH＝CH-或CH₃-CH＝CH-(CH₂)₂-。

LC主体混合物中的式B1至B3的联苯的比例优选为至少3重量％、特别是≥5重 量％。

式B2化合物是特别优选的。

式B1至B3的化合物优选选自由以下子式组成的组：

其中alkyl*表示具有1至6个碳原子的烷基。本发明介质特别优选包含一种或多种 式B1a和/或B2c的化合物。

i)LC介质，其中组分B)或LC主体混合物另外包含一种或多种下式的联三苯化合 物：

其中R⁵及R⁶各自彼此独立地具有上文所指示含义之一，且

各自彼此独立地表示

其中L⁵表示F或Cl、优选F，且L⁶表示F、Cl、OCF₃、CF₃、CH₃、CH₂F或CHF₂、优选F。

式T化合物优选选自由以下子式组成的组：

其中R表示具有1至7个C原子的直链烷基或烷氧基，R*表示具有2至7个C原子的直 链烯基，(O)表示氧原子或单键，且m表示1至6的整数。R*优选表示CH₂＝CH-、CH₂＝ CHCH₂CH₂-、CH₃-CH＝CH-、CH₃-CH₂-CH＝CH-、CH₃-(CH₂)₂-CH＝CH-、CH₃-(CH₂)₃-CH＝CH-或CH₃- CH＝CH-(CH₂)₂-。

R优选表示甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基或 戊氧基。

本发明的LC主体混合物优选包含0.5-30重量％、特别是1-20重量％的量的式T及 优选其子式的联三苯。

非常优选的是式T1、T2、T3、T5及T21的化合物，尤其是式T1及T2及T5的那些。在这 些化合物中，R优选表示烷基、此外是烷氧基，其各自具有1至5个C原子。

若欲使混合物的Δn值≥0.1，则在本发明的LC介质中优选使用联三苯。优选的LC 介质包含2-20重量％的一种或多种式T的联三苯化合物，优选选自化合物T1至T24的组。

k)LC介质，其中组分B)或LC主体混合物另外包含一种或多种选自由下式组成的组 的联四苯化合物：

其中

R^Q是具有1至9个C原子的烷基、烷氧基、氧杂烷基或烷氧基烷基或具有2至9个C原 子的烯基或烯基氧基，其所有均任选地经氟化，

X^Q是F、Cl、具有1至6个C原子的卤化烷基或烷氧基或具有2至6个C原子的卤化烯基 或烯基氧基，

L^Q1至L^Q6彼此独立地是H或F，其中L^Q1至L^Q6中的至少一者是F。

式Q的优选化合物是其中R^Q表示具有2至6个C原子的直链烷基、非常优选地乙基、 正丙基或正丁基的那些。

式Q的优选化合物是其中L^Q3及L^Q4是F的那些。

式Q的进一步优选的化合物是其中L^Q3、L^Q4以及L^Q1及L^Q2中的一者或二者是F的那些。

式Q的优选化合物是其中X^Q表示F或OCF₃、非常优选地F的那些。

式Q化合物优选选自以下子式

其中R^Q具有式Q的含义之一或上下文给出的其优选含义之一，且优选是乙基、正丙 基或正丁基。

特别优选的是式Q1化合物，特别是其中R^Q是正丙基的那些。

优选地，LC主体混合物中的式Q化合物的比例是＞0重量％至≤5重量％、非常优选 地0.1重量％至2重量％、最优选0.2重量％至1.5重量％。

优选地，LC主体混合物含有1至5、优选1或2种式Q化合物。

将式Q的联四苯化合物添加至LC主体混合物中使能够减少ODF不均匀性，同时维持 高UV吸收，使能够快速且完全聚合，使能够强烈且快速生成倾角，并增加LC介质的UV稳定 性。

此外，将具有正介电各向异性的式Q化合物添加至具有负介电各向异性的LC介质 中允许较好控制介电常数ε_||及ε_⊥的值，且特别是使能够实现高介电常数ε_||值，同时保持介 电各向异性Δε恒定，由此减少回踢电压(kick-back voltage)并减少图像粘滞。

l)LC介质，其中组分B)或LC主体混合物另外包含一种或多种式C化合物：

其中

R^C表示具有1至9个C原子的烷基、烷氧基、氧杂烷基或烷氧基烷基或具有2至9个C 原子的烯基或烯基氧基，其所有均任选地经氟化，

X^C表示F、Cl、具有1至6个C原子的卤化烷基或烷氧基或具有2至6个C原子的卤化烯 基或烯基氧基，

L^C1、L^C2彼此独立地表示H或F，其中L^C1及L^C2中的至少一者是F。

式C的优选化合物是其中R^C表示具有2至6个C原子的直链烷基、非常优选地乙基、 正丙基或正丁基的那些。

式C的优选化合物是其中L^C1及L^C2是F的那些。

式C的优选化合物是其中X^C表示F或OCF₃、非常优选F的那些。

式C的优选化合物选自下式

其中R^C具有式C的含义之一或上下文给出的其优选含义之一，且优选是乙基、正丙 基或正丁基，非常优选为正丙基。

优选地，LC主体混合物中的式C化合物的比例是＞0重量％至≤10重量％、非常优 选地0.1重量％至8重量％、最优选0.2重量％至5重量％。

优选地，LC主体混合物含有1至5、优选1、2或3种式C化合物。

将具有正介电各向异性的式C化合物添加至具有负介电各向异性的LC介质中允许 较好控制介电常数ε_||及ε_⊥的值，且特别是使能够实现高介电常数ε_||值，同时保持介电各向 异性Δε恒定，由此减少回踢电压并减少图像粘滞。此外，添加式C化合物使能够减少LC介质 的粘度及响应时间。

m)LC介质，其中组分B)或LC主体混合物另外包含一种或多种选自由下式组成的组 的化合物：

其中R¹及R²具有上文所指示含义且优选各自彼此独立地表示具有1至6个C原子的 直链烷基或具有2至6个C原子的直链烯基。

优选的介质包含一种或多种选自式O1、O3及O4的化合物。

n)LC介质，其中组分B)或LC主体混合物另外包含一种或多种下式化合物：

其中

表示

R⁹表示H,CH₃,C₂H₅或n-C₃H₇，(F)表示任选的氟取代基，且q表示1,2或3，且R⁷具有针 对R¹指示的含义之一，优选地该化合物的量是＞3重量％、特别是≥5重量％且非常优选地 5-30重量％。

特别优选的式FI化合物选自由以下子式组成的组：

其中R⁷优选表示直链烷基，且R⁹表示CH₃、C₂H₅或n-C₃H₇。特别优选的是式FI1、FI2及 FI3的化合物。

o)LC介质，其中组分B)或LC主体混合物另外包含一种或多种选自由下式组成的组 的化合物：

其中R⁸具有针对R¹所指示的含义，且alkyl表示具有1至6个C原子的直链烷基。

p)LC介质，其中组分B)或LC主体混合物另外包含一种或多种含有四氢萘基或萘基 单元的化合物，例如，选自由下式组成的组的化合物：

其中

R¹⁰及R¹¹各自彼此独立地表示具有1至12个C原子的烷基，其中，另外一个或两个不 相邻的CH₂基团可经-O-、-CH＝CH-、-CO-、-OCO-或-COO-以O原子彼此不直接连接的方式替 代，优选为具有1至6个C原子的烷基或烷氧基，

且R¹⁰及R¹¹优选地表示具有1至6个C原子的直链烷基或烷氧基或具有2至6个C原子 的直链烯基，且

Z¹及Z²各自彼此独立地表示-C₂H₄-、-CH＝CH-、-(CH₂)₄-、-(CH₂)₃O-、-O(CH₂)₃-、-CH ＝CH-CH₂CH₂-、-CH₂CH₂CH＝CH-、-CH₂O-、-OCH₂-、-CO-O-、-O-CO-、-C₂F₄-、-CF＝CF-、-CF＝ CH-、-CH＝CF-、-CH₂-或单键。

q)LC介质，其中组分B)或LC主体混合物另外包含一种或多种下式的二氟二苯并 满和/或满：

其中

R¹¹及R¹²各自彼此独立地具有上文针对R¹¹所指示含义之一，

环M是反式-1,4-亚环己基或1,4-亚苯基，

Z^m是-C₂H₄-、-CH₂O-、-OCH₂-、-CO-O-或-O-CO-，

c是0、1或2，

优选地，其量是3重量％至20重量％，特别是其量为3重量％至15重量％。

式BC、CR及RC的特别优选化合物选自由以下子式组成的组：

其中alkyl及alkyl*各自彼此独立地表示具有1至6个C原子的直链烷基，(O)表示 氧原子或单键，c是1或2，且alkenyl及alkenyl*各自彼此独立地表示具有2至6个C原子的直 链烯基。alkenyl及alkenyl*优选表示CH₂＝CH-、CH₂＝CHCH₂CH₂-、CH₃-CH＝CH-、CH₃-CH₂-CH ＝CH-、CH₃-(CH₂)₂-CH＝CH-、CH₃-(CH₂)₃-CH＝CH-或CH₃-CH＝CH-(CH₂)₂-。

非常特别优选的是包含一种、两种或三种式BC-2化合物的LC主体混合物。

r)LC介质，其中组分B)或LC主体混合物另外包含一种或多种下式的氟化菲和/或 二苯并呋喃：

其中R¹¹及R¹²各自彼此独立地具有上文针对R¹¹所指示的含义之一，b表示0或1，L表 示F，且r表示1、2或3。

式PH及BF的特别优选化合物选自由以下子式组成的组：

其中R及R’各自彼此独立地表示具有1至7个C原子的直链烷基或烷氧基。

优选地，组分B)或LC主体混合物包含一种或多种式BF1、优选选自子式BF1a的化合 物

其中alkyl表示具有1至6个C原子的直链烷基，且(O)表示氧原子或单键。非常优选 的是式BF1a化合物，其中两个基团(O)均表示氧原子且alkyl是甲基、乙基、丙基、丁基或戊 基或己基，其优选是直链。

优选地，LC介质中的式BF1或B1Fa的化合物的比例是0.5％至20％、非常优选地 0.5％至10％、最优选地1％至5％。

优选地，LC介质含有1至5、优选1、2或3种式BF1或BF1a化合物。

s)LC介质，其中组分B)或LC主体混合物另外包含一种或多种下式的单环化合物：

其中

R¹及R²各自彼此独立地表示具有1至12个C原子的烷基，其中，另外，一个或两个不 相邻的CH₂基团可经-O-、-CH＝CH-、-CO-、-OCO-或-COO-以O原子彼此不直接连接的方式替 代，优选为具有1至6个C原子的烷基或烷氧基，

L¹及L²各自彼此独立地表示F、Cl、OCF₃、CF₃、CH₃、CH₂F、CHF₂。

优选地，基团L¹及L²二者均表示F，或基团L¹及L²中的一者表示F且另一者表示Cl，

式Y化合物优选选自由以下子式组成的组：

其中Alkyl及Alkyl*各自彼此独立地表示具有1至6个C原子的直链烷基，Alkoxy表 示具有1至6个C原子的直链烷氧基，Alkenyl及Alkenyl*各自彼此独立地表示具有2至6个C 原子的直链烯基，且O表示氧原子或单键。Alkenyl及Alkenyl*优选表示CH₂＝CH-、CH₂＝ CHCH₂CH₂-、CH₃-CH＝CH-、CH₃-CH₂-CH＝CH-、CH₃-(CH₂)₂-CH＝CH-、CH₃-(CH₂)₃-CH＝CH-或CH₃- CH＝CH-(CH₂)₂-。

式Y的特别优选化合物选自由以下子式组成的组：

其中Alkoxy优选表示具有3、4或5个C原子的直链烷氧基。

t)除如上下文所述可聚合化合物外不含含有末端乙烯基氧基(-O-CH＝CH₂)的化 合物的LC介质。

u)LC介质，其中组分B)或LC主体混合物包含1至8种、优选1至5种式CY1、CY2、PY1 和/或PY2的化合物。整体LC主体混合物中这些化合物的比例优选是5％至70％、特别优选 10％至35％。在每一情形下，这些各个化合物的含量优选为2％至20％。

v)LC介质，其中组分B)或LC主体混合物包含1至8种、优选1至5种式CY9、CY10、PY9 和/或PY10的化合物。整体LC主体混合物中这些化合物的比例优选是5％至60％、特别优选 10％至35％。在每一情形下，这些各个化合物的含量优选为2％至20％。

w)LC介质，其中组分B)或LC主体混合物包含1至10种、优选1至8种式ZK的化合物、 特别是式ZK1、ZK2和/或ZK6的化合物。整体LC主体混合物中这些化合物的比例优选是3％至 25％、特别优选5％至45％。在每一情形下，这些各个化合物的含量优选为2％至20％。

x)LC介质，其中整体LC主体混合物中的式CY、PY及ZK化合物的比例大于70％、优选 大于80％。

y)LC介质，其中LC主体混合物含有一种或多种含有烯基的化合物、优选选自式AN 及AY、非常优选地选自式AN1、AN3及AN6、最优选地选自式AN1a、AN3a及AN6a的化合物。LC主 体混合物中这些化合物的浓度优选是2％至70％、非常优选地3％至55％。

z1)LC介质，其中组分B)或LC主体混合物含有一种或多种、优选1至5种选自式PY1- PY8、非常优选地式PY2的化合物。整体LC主体混合物中这些化合物的比例优选是1％至 30％、特别优选2％至20％。在每一情形下，这些各个化合物的含量优选为1％至20％。

z2)LC介质，其中组分B)或LC主体混合物含有一种或多种、优选1、2或3种选自式 T1、T2、T3、T5及T21、非常优选地选自式T2的化合物。整体LC主体混合物中这些化合物的含 量优选是1％至20％。

z3)LC介质，其中LC主体混合物含有一种或多种选自式CY及PY的化合物、一种或多 种选自式AN及AY的化合物及一种或多种式ZK化合物。

z4)LC介质，其中LC主体混合物含有一种或多种、优选1、2或3种式AY14、优选式 AY14a的化合物、一种或多种、优选1、2或3种式BF1、优选式BF1a的化合物及一种或多种、优 选1、2或3种式PY2化合物。LC主体混合物中的式AY14或AY14a化合物的比例优选是0.05％至 2％、非常优选地0.1％至1％。LC主体混合物中的式BF1或BF1a化合物的比例优选是0.5％至 10％、非常优选地1％至5％。LC主体混合物中的式PY2化合物的比例优选是1％至20％、非常 优选地10％至20％。

在第二优选实施方式中，LC介质含有基于具有正介电各向异性的化合物的LC主体 混合物。这样的LC介质尤其适用于PS-OCB-、PS-TN-、PS-正性-VA-、PS-IPS-或PS-FFS-显示 器。

其中各个基团彼此独立地且在每次出现时相同或不同地具有以下含义：

在每次出现时相同或不同地为

R²¹、R³¹各自彼此独立地为具有1至9个C原子的烷基、烷氧基、氧杂烷基或烷氧基烷 基或具有2至9个C原子的烯基或烯基氧基，其所有均任选地经氟化，

X⁰为F、Cl、具有1至6个C原子的卤化烷基或烷氧基或具有2至6个C原子的卤化烯基 或烯基氧基，

Z³¹为-CH₂CH₂-、-CF₂CF₂-、-COO-、反式-CH＝CH-、反式-CF＝CF-、-CH₂O-或单键，优 选为-CH₂CH₂-、-COO-、反式-CH＝CH-或单键，特别优选为-COO-、反式-CH＝CH-或单键，

L²¹、L²²、L³¹、L³²各自彼此独立地为H或F，

g为0、1、2或3。

在式A及B的化合物中，X⁰优选是F、Cl、CF₃、CHF₂、OCF₃、OCHF₂、OCFHCF₃、OCFHCHF₂、 OCFHCHF₂、OCF₂CH₃、OCF₂CHF₂、OCF₂CHF₂、OCF₂CF₂CHF₂、OCF₂CF₂CHF₂、OCFHCF₂CF₃、OCFHCF₂CHF₂、 OCF₂CF₂CF₃、OCF₂CF₂CClF₂、OCClFCF₂CF₃或CH＝CF₂，非常优选地F或OCF₃，最优选地F。

在式A及B的化合物中，R²¹及R³¹优选选自具有1、2、3、4、5或6个C原子的直链烷基或 烷氧基及具有2、3、4、5、6或7个C原子的直链烯基。

在式A及B的化合物中，g优选是1或2。

在式B化合物中，Z³¹优选是COO、反式-CH＝CH或单键，非常优选地COO或单键。

优选地，LC介质的组分B)包含一种或多种选自由下式组成的组的式A化合物：

其中A²¹、R²¹、X⁰、L²¹及L²²具有式A中给出的含义，L²³及L²⁴各自彼此独立地是H或F， 且X⁰优选是F。特别优选的是式A1及A2的化合物。

式A1的特别优选化合物选自由以下子式组成的组：

其中R²¹、X⁰、L²¹及L²²具有式A1中给出的含义，L²³、L²⁴、L²⁵及L²⁶各自彼此独立地是H 或F，且X⁰优选是F。

式A1的非常优选化合物选自由以下子式组成的组：

其中R²¹是如式A1中所定义。

式A2的特别优选化合物选自由以下子式组成的组：

其中R²¹、X⁰、L²¹及L²²具有式A2中给出的含义，L²³、L²⁴、L²⁵及L²⁶各自彼此独立地是H 或F，且X⁰优选是F。

式A2的非常优选化合物选自由以下子式组成的组：

其中R²¹及X⁰是如式A2中所定义。

式A3的特别优选化合物选自由以下子式组成的组：

其中R²¹、X⁰、L²¹及L²²具有式A3中给出的含义，且X⁰优选是F。

式A4的特别优选化合物选自由以下子式组成的组：

其中R²¹是如式A4中所定义。

优选地，LC介质的组分B)包含一种或多种选自由下式组成的组的式B化合物：

其中g、A³¹、A³²、R³¹、X⁰、L³¹及L³²具有式B中给出的含义，且X⁰优选是F。特别优选的是 式B1及B2的化合物。

式B1的特别优选化合物选自由以下子式组成的组：

其中R³¹、X⁰、L³¹及L³²具有式B1中给出的含义，且X⁰优选是F。

式B1a的非常优选化合物选自由以下子式组成的组：

其中R³¹是如式B1中所定义。

式B1b的非常优选化合物选自由以下子式组成的组：

其中R³¹是如式B1中所定义。

式B2的特别优选化合物选自由以下子式组成的组：

其中R³¹、X⁰、L³¹及L³²具有式B2中给出的含义，L³³、L³⁴、L³⁵及L³⁶各自彼此独立地是H 或F，且X⁰优选是F。

式B2的非常优选化合物选自由以下子式组成的组：

其中R³¹是如式B2中所定义。

式B2b的非常优选化合物选自由以下子式组成的组：

其中R³¹是如式B2中所定义。式B2c的非常优选化合物选自由以下子式组成的组：

其中R³¹是如式B2中所定义。

式B2d及B2e的非常优选化合物选自由以下子式组成的组：

其中R³¹是如式B2中所定义。

式B2f的非常优选化合物选自由以下子式组成的组：

其中R³¹是如式B2中所定义。

式B2g的非常优选化合物选自由以下子式组成的组：

其中R³¹是如式B2中所定义。

式B2h的非常优选化合物选自由以下子式组成的组：

其中R³¹是如式B2中所定义。

式B2i的非常优选化合物选自由以下子式组成的组：

其中R³¹是如式B2中所定义。

式B2k的非常优选化合物选自由以下子式组成的组：

其中R³¹是如式B2中所定义。

式B2l的非常优选化合物选自由以下子式组成的组：

其中R³¹是如式B2中所定义。

另一选择为或除式B1和/或B2化合物外，LC介质的组分B)也可包含一种或多种如 上文所定义的式B3化合物。

式B3的特别优选化合物选自由以下子式组成的组：

其中R³¹是如式B3中所定义。

除式A和/或B化合物外，LC介质的组分B)优选还包含一种或多种式C化合物

其中各个基团具有以下含义：

各自彼此独立地且

在每次出现时相同或不同地为

R⁴¹、R⁴²各自彼此独立地具有1至9个C原子的烷基、烷氧基、氧杂烷基或烷氧基烷基 或具有2至9个C原子的烯基或烯基氧基，其所有均任选地经氟化，

Z⁴¹、Z⁴²各自彼此独立地是-CH₂CH₂-、-COO-、反式-CH＝CH-、反式-CF＝CF-、- CH₂O-、-CF₂O-、-C≡C-或单键，优选为单键，

h是0、1、2或3。

在式C化合物中，R⁴¹及R⁴²优选选自具有1、2、3、4、5或6个C原子的直链烷基或烷氧 基及具有2、3、4、5、6或7个C原子的直链烯基。

在式C化合物中，h优选是0、1或2。

在式C化合物中，Z⁴¹及Z⁴²优选选自COO、反式-CH＝CH及单键，非常优选地选自COO 及单键。

式C的优选化合物选自由以下子式组成的组：

其中R⁴¹及R⁴²具有式C中所给出的含义，且优选各自彼此独立地表示具有1至7个C 原子的烷基、烷氧基、氟化烷基或氟化烷氧基或具有2至7个C原子的烯基、烯基氧基、烷氧基 烷基或氟化烯基。

除式A和/或B化合物外，LC介质的组分B)进一步优选包含一种或多种式D化合物

其中A⁴¹、A⁴²、Z⁴¹、Z⁴²、R⁴¹、R⁴²及h具有式C中所给出的含义或上文所给出优选含义之 一。

式D的优选化合物选自由以下子式组成的组：

其中R⁴¹及R⁴²具有式D中所给出的含义且R⁴¹优选表示烷基含义，且在式D1中，R⁴²优 选表示烯基、特别优选-(CH₂)₂-CH＝CH-CH₃，且在式D2中，R⁴²优选表示烷基、-(CH₂)₂-CH＝CH₂ 或-(CH₂)₂-CH＝CH-CH₃。

除式A和/或B化合物外，LC介质的组分B)进一步优选包含一种或多种含有烯基的 式E化合物

其中各个基团在每次出现时相同或不同且各自彼此独立地具有以下含义：

表示

表示

R^A1表示具有2至9个C原子的烯基，或若环X、Y及Z中的至少一者表示环己烯基，则也 具有R^A2的含义之一，

R^A2表示具有1至12个C原子的烷基，其中，另外，一个或两个不相邻的CH₂基团可经- O-、-CH＝CH-、-CO-、-OCO-或-COO-以O原子彼此不直接连接的方式替代，

x是1或2。

R^A2优选是具有1至8个C原子的直链烷基或烷氧基或具有2至7个C原子的直链烯基。

式E的优选化合物选自以下子式：

其中alkyl及alkyl*各自彼此独立地表示具有1至6个C原子的直链烷基，且 alkenyl及alkenyl*各自彼此独立地表示具有2至7个C原子的直链烯基。alkenyl及 alkenyl*优选表示CH₂＝CH-、CH₂＝CHCH₂CH₂-、CH₃-CH＝CH-、CH₃-CH₂-CH＝CH-、CH₃-(CH₂)₂- CH＝CH-、CH₃-(CH₂)₃-CH＝CH-或CH₃-CH＝CH-(CH₂)₂-。

式E的非常优选化合物选自以下子式：

其中m表示1、2、3、4、5或6，i表示0、1、2或3，且R^b1表示H、CH₃或C₂H₅。

式E的非常优选化合物选自以下子式：

最优选的是式E1a2、E1a5、E3a1及E6a1的化合物。

除式A和/或B化合物外，LC介质的组分B)进一步优选包含一种或多种式F化合物

其中各个基团彼此独立地且在每次出现时相同或不同地具有以下含义：

表示

R²¹、R³¹各自彼此独立地具有1至9个C原子的烷基、烷氧基、氧杂烷基或烷氧基烷基 或具有2至9个C原子的烯基或烯基氧基，其所有均任选地经氟化，

X⁰是F、Cl、具有1至6个C原子的卤化烷基或烷氧基或具有2至6个C原子的卤化烯基 或烯基氧基，

Z²¹是-CH₂CH₂-、-CF₂CF₂-、-COO-、反式-CH＝CH-、反式-CF＝CF-、-CH₂O-或单键，优 选为-CH₂CH₂-、-COO-、反式-CH＝CH-或单键，特别优选为-COO-、反式-CH＝CH-或单键，

L²¹、L²²、L²³、L²⁴各自彼此独立地为H或F，

g是0、1、2或3。

式F的特别优选化合物选自由下式组成的组：

其中R²¹、X⁰、L²¹及L²²具有式F中所给出的含义，L²⁵及L²⁶各自彼此独立地是H或F，且 X⁰优选是F。

式F1-F3的非常优选化合物选自由以下子式组成的组：

其中R²¹是如式F1中所定义。

LC主体混合物中的式A及B化合物的浓度优选是2％至60％、非常优选地3％至 45％、最优选地4％至35％。

LC主体混合物中的式C及D化合物的浓度优选是2％至70％、非常优选地5％至 65％、最优选地10％至60％。

LC主体混合物中的式E化合物的浓度优选是5％至50％、非常优选地5％至35％。

LC主体混合物中的式F化合物的浓度优选是2％至30％、非常优选地5％至20％。

下文列举本发明的此第二优选实施方式的进一步优选的实施方式，包括其任意组 合。

2a)LC主体混合物包含一种或多种具有高正介电各向异性、优选具有Δε＞15的式 A和/或B化合物。

2b)LC主体混合物包含一种或多种选自由式A1a2、A1b1、A1d1、A1f1、A2a1、A2h1、 A2l2、A2k1、B2h3、B2l1、F1a组成的组的化合物。LC主体混合物中这些化合物的比例优选是 4％至40％、非常优选地5％至35％。

2c)LC主体混合物包含一种或多种选自由式B2c1、B2c4、B2f4、C14组成的组的化合 物。LC主体混合物中这些化合物的比例优选是4％至40％、非常优选地5％至35％。

2d)LC主体混合物包含一种或多种选自由式C3、C4、C5、C9及D2组成的组的化合物。 LC主体混合物中这些化合物的比例优选是8％至70％、非常优选地10％至60％。

2e)LC主体混合物包含一种或多种选自由式G1、G2及G5、优选G1a、G2a及G5a组成的 组的化合物。LC主体混合物中这些化合物的比例优选是4％至40％、非常优选地5％至35％。

2f)LC主体混合物包含一种或多种选自由式E1、E3及E6、优选地E1a、E3a及E6a、非 常优选地E1a2、E1a5、E3a1及E6a1组成的组的化合物。LC主体混合物中这些化合物的比例优 选是5％至60％、非常优选地10％至50％。

上文所提及的优选实施方式的化合物与上文所述聚合化合物的组合在本发明LC 介质中造成低阈值电压、低旋转粘度及非常良好的低温稳定性，同时造成持续高的清亮点 及高HR值，且允许在PSA显示器中快速建立尤其低的预倾角。特别地，在PSA显示器中LC介质 与来自现有技术的介质相比呈现显著缩短的响应时间、特别是也呈现灰阶响应时间。

在本发明的LC介质中，如上下文所述使用LC主体混合物或组分B)连同使用可聚合 组分A)在PSA显示器中产生有利的性质，包括但不限于以下：

-减少的ODF不均匀性，

-减少的图像粘滞，

-在较长波长下同样良好的UV吸收，

-RM的快速且完全聚合，

-低预倾角的快速生成，尤其已在低UV能量下和/或在较长UV波长下如此，

-在UV暴露后的高预倾角稳定性，

-在UV暴露和/或热处理后的高可靠性及高VHR值，

-高双折射率，

-减少的粘度

-较快的响应时间。

本发明的LC介质及LC主体混合物于20℃下优选具有至少80K、特别优选至少100K 的向列相范围及旋转粘度≤250mPa·s、优选≤200mPa.s。

在本发明的VA型显示器中，处于关闭状态的LC介质层中的分子垂直于电极表面配 向(垂面地)或具有倾斜垂面配向。在将电压施加至电极时，LC分子发生再配向，其中分子纵 轴平行于电极表面。

基于根据第一优选实施方式的具有负介电各向异性的化合物、特别是用于PS-VA 及PS-UB-FFS型显示器中的本发明LC介质在20℃及1kHz下具有优选地-0.5至-10、特别是- 2.5至-7.5的负介电各向异性Δε。

用于PS-VA及PS-UB-FFS型显示器中的本发明LC介质中的双折射率Δn优选低于 0.16、特别优选地0.06至0.14、非常优选地0.07至0.12。

在本发明的OCB型显示器中，LC介质层中的分子具有“弯曲”配向。在施加电压时， LC分子发生再配向，其中分子纵轴垂直于该电极表面。

用于PS-OCB、PS-TN、PS-IPS、PS-正性-VA及PS-FFS型显示器中的本发明LC介质优 选为基于根据第二优选实施方式的具有正介电各向异性的化合物的那些，且优选在20℃及 1kHz下具有+4至+17的正介电各向异性Δε。

用于PS-OCB型显示器中的本发明LC介质中的双折射率Δn优选是0.14至0.22、特 别优选地0.16至0.22。

用于PS-TN-、PS-正性-VA-、PS-IPS-或PS-FFS型显示器中的本发明LC介质中的双 折射率Δn优选是0.07至0.15、特别优选地0.08至0.13。

基于根据第二优选实施方式的具有正介电各向异性的化合物且用于PS-TN-、PS- 正性-VA-、PS-IPS-或PS-FFS型显示器中的本发明LC介质于20℃及1kHz下优选具有+2至+ 30、特别优选+3至+20的正介电各向异性Δε。

优选地，本发明LC介质基本上由如上下文所述的可聚合组分A)及LC组分B)(或LC 主体混合物)组成。然而，LC介质可另外包含一种或多种其他组分或添加剂，优选地选自包 括但不限于以下的列表：共聚单体、手性掺杂剂、聚合引发剂、抑制剂、稳定剂、表面活性剂、 润湿剂、润滑剂、分散剂、疏水剂、粘合剂、流动改进剂、消泡剂、除气剂、稀释剂、反应性稀释 剂、辅助剂、着剂、染料、颜料及纳米粒子。

这些添加剂可以是可聚合的或不可聚合的。可聚合添加剂因此归类于可聚合组分 或组分A)。不可聚合的添加剂因此归类于不可聚合组分或组分B)。

在优选实施方式中，LC介质含有一种或多种手性掺杂剂，其浓度优选为0.01％至 1％，非常优选0.05％至0.5％。手性掺杂剂优选选自由下表B的化合物组成的组，非常优选 由R-或S-1011、R-或S-2011、R-或S-3011、R-或S-4011及R-或S-5011组成的组。

在另一优选的实施方式中，LC介质包含一种或多种手性掺杂剂(其优选选自之前 段落提及的手性掺杂剂)的外消旋体。

此外，可以向LC介质中添加例如0至15重量％的多性染料，此外还有纳米颗粒， 导电盐，优选为乙基二甲基十二烷基4-己氧基苯甲酸铵，四丁基四苯基硼酸铵或冠醚的络 合盐(例如参见Haller等人，Mol.Cryst.Liq.Cryst.24，249-258(1973))用于改进导电性， 或添加用于改性向列相的介电各向异性、粘度和/或配向的物质。例如在DE-A 22 09 127、 22 40 864、23 21 632、23 38 281、24 50 088、26 37 430和28 53 728中描述了这种类型 的物质。

根据本发明的LC介质的优选实施方式a)-z)的单个组分是已知的，或者用于制备 其的方法可以通过相关领域的技术人员得自现有技术，这是因为它们是基于文献中描述的 标准方法。例如在EP-A-0 364 538中描述了相应的式CY的化合物。例如在DE-A-26 36 684 和DE-A-33 21 373中描述了相应的式ZK的化合物。

可根据本发明使用的LC介质是以本身常规的方式、例如通过使一种或多种上述化 合物与一种或多种上文所定义可聚合化合物、且任选与其他液晶化合物和/或添加剂混合 来制备。一般而言，将期望量的以较少量使用的组分溶解于构成主要成分的组分中，有利地 在高温下进行。也可在有机溶剂中(例如在丙酮、氯仿或甲醇中)混合该组分的溶液，且在充 分混合后再通过例如蒸馏去除溶剂。此外，本发明涉及制备本发明LC介质的方法。

对于本领域技术人员来说，不言而喻地，根据本发明的LC介质还可以包含例如其 中H、N、O、Cl、F被相应的同位素例如氘替代的化合物。

以下实施例解释了本发明但是并不限制本发明。然而，它们向本领域技术人员展 示了优选的混合物概念，以及优选使用的化合物及其各自的浓度，以及它们彼此之间的组 合。此外，实施例阐明了哪些性能以及性能的组合是可获得的。

使用以下缩写：

(n、m、z：在每一情形下彼此独立地为1、2、3、4、5或6)

表A

在本发明的优选实施方式中，本发明LC介质包含一种或多种选自由表A的化合物 组成的组的化合物。

表B

(n＝1-15；(O)C_nH_2n+1意指C_nH_2n+1或OC_nH_2n+1)

在本发明的优选实施方式中，本发明LC介质包含一种或多种选自由表B的化合物 组成的组的化合物。

表C

表C显示可添加至本发明LC介质中的可能的手性掺杂剂。

LC介质优选包含0重量％至10重量％、特别是0.01重量％至5重量％、特别优选0.1 重量％至3重量％的掺杂剂。LC介质优选包含一种或多种选自由表C的化合物组成的组的掺 杂剂。

表D

表D显示可添加至本发明LC介质中的可能稳定剂。

(此处，n表示1至12、优选1、2、3、4、5、6、7或8的整数，末端甲基不显示)。

LC介质优选包含0重量％至10重量％、特别是1ppm至5重量％、特别优选1ppm至1重 量％的稳定剂。LC介质优选包含一种或多种选自由表D的化合物组成的组的稳定剂。

表E

表E显示可用于本发明LC介质中，优选作为反应性介晶化合物的阐释性化合物。

在本发明的优选实施方式中，LC介质包含一种或多种选自表E的化合物的组的可 聚合化合物。

另外，使用以下缩写及符号：

V₀表示在20℃下的阈值电压，电容性[V]，

n_e表示在20℃和589nm下的非寻常折射率，

n_o表示在20℃和589nm下的寻常折射率，

△n表示在20℃和589nm下的光学各向异性，

ε_⊥表示在20℃和1kHz下垂直于指向矢的介电常数，

ε_||表示在20℃和1kHz下平行于指向矢的介电常数，

△ε表示在20℃和1kHz下的介电各向异性，

cl.p.，T(N,I)表示清亮点[℃]，

γ₁表示在20℃下的旋转粘度[mPa·s]，

K₁表示在20℃下的弹性常数，“展曲”变形[pN]，

K₂表示在20℃下的弹性常数，“扭曲”变形[pN]，

K₃表示在20℃下的弹性常数，“弯曲”变形[pN]。

除非另有说明，本说明书中所有的浓度都通过重量百分数表示，并且涉及相应的 整个混合物，包含所有的固体或液晶组分，不包含溶剂。

除非另有说明，本申请中指出的所有的温度值，例如熔点T(C,N)，从近晶相(S)到 向列相(N)的转变T(S,N)以及清亮点T(N,I)都以摄氏度(℃)表示。M.p.表示熔点，cl.p.＝ 清亮点。此外，C＝液晶相，N＝向列相，S＝近晶相和I＝各向同性相。这些符号之间的数据表 示转变温度。

所有的物理性质是并且已经根据“Merck Liquid Crystals，Physical Properties of Liquid Crystals”Status 1997年11月，Merck KGaA，Germany确定，并且适 用于20℃的温度，且△n是在589nm下测定的和Δε是在1kHz下测定的，除非在每种情况中另 有明确说明。

用于本发明的术语“阈值电压”涉及涉及电容性阈值(V₀)，其还被称作 Freedericks阈值，除非另有说明。在实施例中，光学阈值也如通常的那样针对10％的相对 对比度(V₁₀)给出的。

除非另有说明，在如上下文所述的PSA显示器中聚合可聚合化合物的方法在其中 LC介质表现为液晶相，优选向列相的温度下进行，且最优选在室温下进行。

除非另有说明，制备测试盒并且测量它们的光电和其他性质的方法通过下文所述 的方法或其类似的方法进行。

用于测量预倾角的显示器或测试盒是由两个间隔3-4μm的平面平行玻璃外板组 成，其每一者在内部具有电极层且在顶部具有聚酰亚胺配向层，其中该两个聚酰亚胺层彼 此反平行地摩擦且实现液晶分子的垂面边缘配向。

通过用限定强度的UVA光辐照预定时间来聚合单体，其中同时对显示器施加电压 (通常为10V至30V交流电，1kHz)。在实施例中，除非另外指示，否则使用金属卤化物灯及 50mW/cm2强度进行聚合。强度是使用标准UVA计(具有UVA传感器的高端Hoenle UV计)来测 量。

实施例1

如下配制向列型LC主体混合物N1。

可聚合混合物P1是通过向向列型LC主体混合物N1中添加0.45％单体RM-1来制备。

实施例2

如下配制向列型LC主体混合物N2。

可聚合混合物P2是通过向向列型LC主体混合物N2中添加0.3％单体RM-1来制备。

用途实施例

对于如上文所述可聚合混合物P1及P2中的每一者而言，PSVA-测试盒是通过以下 方法制造：

聚酰亚胺掺杂：向聚酰亚胺(PI)前体AL60702(JSR)中添加100ppm抑制剂1076(Ciba)或100ppm光引发剂651(Ciba)，或使用PI前体而不掺杂。

基板清洁：在3个步骤中洗涤经氧化铟锡(ITO)的薄层涂布的玻璃基板，首先利用 清洁剂(0.5％)于蒸馏(DI)水中的溶液洗涤(20min)，随后利用DI水鼓泡洗涤(20min)，且最 后利用纯DI水洗涤(20min)。

PI层涂布：如下通过旋涂将经掺杂或未经掺杂的PI前体(6％)、N-甲基-2-吡咯烷 酮(39％)及丁基溶纤剂(54％)的溶液涂布于经洗涤的ITO基板上。将PI溶液(1.5g)滴在基 板中心上并在旋涂机(MIKASA)中在两个步骤中以不同涂布速度扩散，在第一步骤中以 80rpm持续10sec用于在整个基板区域中均匀扩散，且在第二步骤中以760rpm持续45sec以 获得具有恒定厚度(100nm)的PI层。

PI层固化：为消除溶剂并固化PI前体，具有经涂布PI层的ITO基板经受具有两个步 骤的热固化方法。将基板在第一步骤中于60℃下在热板上加热1min且在第二步骤中于230 ℃下在加热炉中加热90min。

盒装配：将可聚合LC混合物及密封材料分配在具有经涂布及固化的PI层的第一 ITO基板上，其中密封剂分配在基板边缘区域处且可聚合LC混合物逐滴分配在中心基板区 域上。将具有经涂布及固化的PI层及光间隔体(3.3微米)的第二ITO基板放在真空装配站 (5Pa,30sec)中具有LC介质及密封剂的第一基板上。

密封剂固化：通过在两个步骤中暴露于UV辐射及热，使用光掩模以覆盖无密封剂 的区域来固化密封材料。在第一步骤中，向密封剂区域施加UV光(3000mJ)，且在第二步骤 中，将盒加热至(120℃，保持60min)。

PSVA第一及第二方法：对于预倾角生成，在第一步骤中通过UV暴露(6J)固化可聚 合LC混合物中所含的单体，同时施加电压至ITO电极(14Vpp)。因此，在顶部及底部基板处在 LC分子中由固化单体生成预倾角。在施加电压的第一UV固化步骤后，使测试盒经受不施加 电压的第二UV固化步骤以消除LC混合物中的残余单体(使用具有305nm～355nm的C型荧光 UV灯UV暴露80min)。

预倾斜测量：使用Mueller矩阵成像偏振仪(Axometrics Axostep)测量第一基板 (顶部)及第二基板(底部)处的预倾角。

用途实施例A

为展现向PI配向层中添加抑制剂或光引发剂的效应，利用两个相同基板制备测试 盒，即两个基板均包含未经掺杂的PI配向层或掺杂有抑制剂的PI配向层或掺杂有引发剂的 PI配向层。测试盒配置示于表1中：

表1-测试盒配置(PI＝聚酰亚胺)

实施例 顶部(第一)基板 底部(第二)基板

D1 未经掺杂的PI 未经掺杂的PI

D2 PI+光引发剂 PI+光引发剂

D3 PI+抑制剂 PI+抑制剂

预倾斜测量

在用50mW/cm²UV辐照120s(6J)后通过Mueller矩阵成像偏振仪(Axometrics Axostep)测定预倾角。预倾角示于表2中。

表2-预倾角(°)

从表2可以看出，在包含掺杂有引发剂的PI配向层的测试盒(D2)中，所生成预倾角 较在包含未经掺杂的PI配向层的测试盒(D1)中低。另一方面，在包含掺杂有抑制剂的PI配 向层的测试盒(D3)中，所生成预倾角较在包含未经掺杂的PI配向层的测试盒(D1)中高。

这证明向配向层中添加抑制剂或引发剂是增加或减小预倾角的有效方法。

用途实施例B

利用两个不同基板制备本发明的测试盒，即具有未经掺杂的PI配向层、或具有掺 杂有抑制剂的PI配向层、或具有掺杂有引发剂的PI配向层。测试盒配置示于表3中。所用LC 介质是P1。

表3-测试盒配置(PI＝聚酰亚胺)

预倾斜测量

为测量预倾角，使用Axostep测量设备，其使能够分别测量顶部及底部基板中的每 一者处的配向LC介质的预倾角。

预倾角示于表4中。

表4-预倾角(°)

从表4可以看出，在具有两个未经掺杂的PI配向层的参照测试盒中，预倾角在两个 基板处大约相同。与此相比，在其中顶部基板含有掺杂有抑制剂的PI配向层和/或底部基板 含有掺杂有光引发剂的PI配向层的本发明的测试盒D4、D5及D6中，顶部基板处的预倾角高 于底部基板处的预倾角。

这展现可彼此分开且独立地控制PSA显示器中顶部基板处的预倾角及底部基板处 的预倾角。

因此，此方法可用于调节曲面显示器中的预倾角以减少LC分子的取向的扭曲。