水转印透明膜的制作方法

1.本实用新型涉及水转印技术技术领域，特别涉及一种水转印透明膜。

背景技术：

2.水转印技术是超越任何印像技术方式的最新数码影像技术，它是运用纳米材料制作的专用纸张和特殊环保墨水，实现在任何固体介质上印制图像。随着人们生活水平的日益提高，对美的追求也越来越强烈，在一些塑胶或玻璃等制品上印染花纹图文的现象也越来越多，水转印技术的应用也越来越广泛。但在一些情况下，需要让用户看到包装物原有的内容，或者通过包装物看到内部结构，但转印膜的存在会对包装物产生遮挡，即透明性较差。

技术实现要素：

3.本实用新型的主要目的是提出水转印透明膜，旨在提高水转印膜的透明性。
4.为实现上述目的，本实用新型提出的水转印透明膜，包括依次层叠设置的薄膜基层、离型层、耐摩擦层、成像层；
5.所述成像层包括丙烯酸层和全息图案层，所述全息图案层压印于所述丙烯酸层背向所述摩擦层的表面，所述离型层为水熔性离型膜。
6.可选地，所述水转印透明膜还包括保护层，所述保护层设于所述成像层背离所述耐摩擦层的表面。
7.可选地，所述保护层的厚度范围为0.1μm至1.8μm。
8.可选地，所述耐摩擦层的厚度范围为1μm至8μm。
9.可选地，所述耐摩擦层由空气喷涂工艺或光固化工艺粘接固定在所述成像层与所述离型层之间。
10.可选地，所述耐摩擦层的材质为丙烯酸清漆或有机硅清漆。
11.可选地，所述全息图案层内的全息图案为镭射图案、彩虹图案、光栅图案的至少一种。
12.可选地，所述薄膜基层为聚对苯二甲酸乙二醇酯材料，且所述薄膜基层的厚度范围为12μm至20μm。
13.本实用新型技术方案通过依次层叠设置的薄膜基层、离型层、耐摩擦层、成像层形成水转印透明膜。该水转印透明膜是用于水转印工艺，并具有一定的透明性。其中，离型层是由水溶性离型膜所形成的，用于防止成型的薄膜基层与成像层相互粘接，且按照离型剂的不同状态，离型层可以为薄膜、膏状或蜡状，当水转印透明膜铺设于水转印设备中的水中时，浸泡一段时间，所述离型层融化失效，使得薄膜基层与成像层脱离。当水转印完成后，离型层遇水溶解，薄膜基层被撕除，最中只剩成像层与耐摩擦层粘贴在待转印件的表面，且耐摩擦层为透明材料制成，成像层本身也具有一定的透明性或局部透明性，使得热转印完成后，待转印产品的表面仅具有成像层与耐摩擦层，且水转印透明膜不具有遮挡光线的不透
明层，如反光金属层等。使得人眼可以清楚地看到成像层表面的图案，同时又能看到包装物原有的内容，从而提高水转印透明膜的透明性。
附图说明
14.为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
15.图1为本实用新型水转印透明膜一实施例的结构示意图。
16.附图标号说明：
17.标号名称标号名称100水转印透明膜140成像层110薄膜基层141丙烯酸层120离型层142全息图案层130耐摩擦层150保护层
18.本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
19.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
20.需要说明，若本实用新型实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后
……
)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
21.另外，若本实用新型实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，全文中出现的“和/或”的含义为，包括三个并列的方案，以“a和/或b为例”，包括a方案，或b方案，或a和b同时满足的方案。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。
22.本实用新型提出一种水转印透明膜100。
23.在本实用新型实施例中，如图1所示，该水转印透明膜100包括依次层叠设置的薄膜基层110、离型层120、耐摩擦层130、成像层140。成像层140包括丙烯酸层141和全息图案层142，全息图案层142压印于丙烯酸层141背向耐摩擦层130的表面，离型层120为水熔性离型膜。
24.具体地，该薄膜基层110是聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)薄膜基层110，pet薄膜是
以聚对苯二甲酸乙二醇酯为原料，采用挤出法制成厚片，再经双向拉伸制成的薄膜材料。此处需要说明的是，薄膜基层110中薄的定义是相对于薄膜基层110的面积而言的，即指薄膜基层110的厚度与薄膜基层110的面积相比，薄膜基层110的厚度较小，能够让成像层140的图案无阻碍地展示。离型层120是由是水溶性离型膜所形成的，用于防止成型的薄膜基层110与成像层140相互粘接，且按照离型剂的不同状态，离型层120可以为薄膜、膏状或蜡状，当水转印透明膜100铺设于水转印设备中的水中时，浸泡一段时间，离型层120融化失效，使得薄膜基层110与成像层140脱离。成像层140是水转印透明膜100最主要的涂层，成像层140上设置有图案，该图案可以是用于装饰的图形，或者具有防伪标示的图形。成像层140包括丙烯酸层141和全息图案层142，全息图案层142压印于丙烯酸层141背向耐摩擦层130的表面。在丙烯酸酸层上压印全息图案层142，可使得全息图案的结合度更牢，并且在转印过程中全息图案较为清晰，转印时全息图案周边无毛刺，转印精度较高，效果较好。在成像层140与离型层120之间设置耐摩擦层130，并将耐摩擦层130粘接固定在成像层140面对离型层120的层面上，从而通过该耐摩擦层130实现对成像层140的保护，避免了水转印透明膜100受到外界磕碰、撞击时，成像层140摩擦受损，以致成像层140的图案被刮花，保证了水转印透明膜100的显示效果；同时，由于水转印透明膜100使用时，需要使离型层120溶解，并将薄膜基层110撕除，耐摩擦层130也有利于薄膜基层110与成像层140的脱离。且该耐摩擦层130为透明材料制成。当水转印完成后，离型层120遇水溶解，薄膜基层110被撕除，最后只剩成像层140与耐摩擦层130粘贴在待转印件的表面，且耐摩擦层130为透明材料制成，成像层140本身也具有一定的透明性或局部透明性，使得热转印完成后，待转印产品的表面仅具有成像层140与耐摩擦层130，且水转印透明膜100不具有遮挡光线的不透明层，如反光金属层等。使得人眼可以清楚地看到成像层140表面的图案，同时又能看到包装物原有的内容。
25.本实用新型技术方案通过依次层叠设置的薄膜基层110、离型层120、耐摩擦层130、成像层140形成水转印透明膜100。该水转印透明膜100是用于水转印工艺，并具有一定的透明性。其中，离型层120是由水溶性离型膜所形成的，用于防止成型的薄膜基层110与成像层140相互粘接，且按照离型剂的不同状态，离型层120可以为薄膜、膏状或蜡状，当水转印透明膜100铺设于水转印设备中的水中时，浸泡一段时间，离型层120融化失效，使得薄膜基层110与成像层140脱离。当水转印完成后，离型层120遇水溶解，薄膜基层110被撕除，最中只剩成像层140与耐摩擦层130粘贴在待转印件的表面，且耐摩擦层130为透明材料制成，成像层140本身也具有一定的透明性或局部透明性，使得热转印完成后，待转印产品的表面仅具有成像层140与耐摩擦层130，且水转印透明膜100不具有遮挡光线的不透明层，如反光金属层等。使得人眼可以清楚地看到成像层140表面的图案，同时又能看到包装物原有的内容，从而提高水转印透明膜100的透明性。
26.为保护成像层140，在一实施例中，水转印透明膜100还包括保护层150，保护层150设于成像层140背离耐摩擦层130的表面。保护层150为全息图案保护层150，能够保证被转移的全息图案在转移到目标物上后的完整性，从而增强被转移的全息图案美观、耐用等效果。
27.进一步的，保护层150的厚度范围为0.1μm至1.8μm。保护层150的主要是用来拓印出成像层140的微纳米结构，并在一定温度下保持结构不变，以实现对成像层140全息图案微纳米结构的保护，故其厚度要选择适宜，一般选用其厚度为0.1μm、0.5μm、1μm或1.8μm。
28.再次参照图1，在一实施例中，耐摩擦层130的厚度范围为1μm至8μm。耐摩擦层130的厚度要选择适宜，比如采用耐摩擦层130的厚度为1μm、或3μm、或6μm、或8μm。如若耐摩擦层130的厚度小于1μm，则耐磨效果不明显，或随着使用时间的延长，其耐磨效果逐渐消除；如若耐摩擦层130的厚度大于8μm，则会影响水转印透明膜100的显示效果，而且还会增加成本，造成资源浪费。
29.进一步的，耐摩擦层130的材质为丙烯酸清漆和/或有机硅清漆。其中，丙烯酸清漆的主要成分是丙烯酸树脂、体质颜料助剂和有机溶剂等，丙烯酸清漆可常温干燥，具有良好的耐候性、耐光性、耐热性、防霉性及附着力。此外，丙烯酸清漆层不仅具有良好的耐磨性能，还具有良好的耐温、耐候性，如此，本方案通过在成像层140与离型层120之间设置耐摩擦层130，使得撕下薄膜基层110和离型层120后，耐摩擦层130粘接固定在成像层140面向离型层120的层面上，进而通过丙烯酸清漆材质的耐摩擦层130对成像层140起到耐温和耐磨的双重防护作用。有机硅清漆的主要成分是有机硅，耐摩擦层130也可选用有机硅清漆材料。可以理解的，耐摩擦层130亦可采用丙烯酸清漆和有机硅清漆的组合物，以达到较好的耐磨效果，实现对成像层140的防护。
30.一般地，耐摩擦层130由空气喷涂工艺或光固化工艺粘接固定在成像层140的表面，由于丙烯酸清漆和有机硅清漆的初始状态均为液态，为了将液态的耐摩擦层130均匀地涂覆在成像层140与离型层120之间，通常采用的做法是通过空气喷涂工艺涂覆耐摩擦层130。空气喷涂工艺的具体工作原理是：利用压缩空气的气流，流过喷喷嘴孔形成负压，负压使丙烯酸清漆或有机硅清漆从吸管吸入，经喷嘴喷出，进而形成漆雾，该漆雾喷射到成像层140表面上形成均匀的耐摩擦层130。耐摩擦层130背向成像层140的表面设置有纳米颗粒层或高分子树脂层。设置纳米颗粒层或高分子层，可进一步提高水转印透明膜100的耐磨性能。纳米颗粒可选用纳米金属粒子，具有较高的硬度，能够大幅度提高水转印透明膜100表面的耐磨能力，从而有效地避免成像层140被刮花。当然的，纳米颗粒亦可选用纳米非金属粒子，比如纳米氧化钛，纳米氧化钙等，以大幅度提高水转印透明膜100表面的耐磨能力。纳米颗粒层的厚度呈均匀设置，能够全方位地防护成像层140被刮花。
31.在一实施例中，全息图案层142内的全息图案为镭射图案、彩虹图案、光栅图案的至少一种。即全息图案可选用镭射图案、彩虹图案、光栅图案中的一种或其组合，亦可以是激光防伪图案，以提高成像层140的防伪效果。
32.在一实施例中，薄膜基层110为聚对苯二甲酸乙二醇酯为材料，且薄膜基层110的厚度范围为12μm至20μm。薄膜基层110是聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)薄膜基层110，pet薄膜是以聚对苯二甲酸乙二醇酯为原料，采用挤出法制成厚片，再经双向拉伸制成的薄膜材料，使得薄膜基层110具有其良好的透明性、气密性以及透明性。进一步的，薄膜基层110的厚度大于或者12μm，小于或者20μm。具体地，具体地，薄膜基层110为pet薄膜基层110，其厚度选择要适宜，若薄膜基层110的厚度小于12μm，则薄膜基层110的厚度太薄，不利于薄膜基层110的脱离和加工；若薄膜基层110的厚度大于20μm，则薄膜基层110的厚度太厚，不利于薄膜基层110的气密性。其中，薄膜基层110的厚度具体可以为12μm、14μm、16μm、18μm、20μm等。
33.以上仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是在本实用新型的发明构思下，利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或
直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本实用新型的专利保护范围内。

技术特征：

1.一种水转印透明膜，其特征在于，包括依次层叠设置的薄膜基层、离型层、耐摩擦层、成像层；所述成像层包括丙烯酸层和全息图案层，所述全息图案层压印于所述丙烯酸层背向所述耐摩擦层的表面，所述离型层为水熔性离型膜。2.如权利要求1所述的水转印透明膜，其特征在于，所述水转印透明膜还包括保护层，所述保护层设于所述成像层背离所述耐摩擦层的表面。3.如权利要求2所述的水转印透明膜，其特征在于，所述保护层的厚度范围为0.1μm至1.8μm。4.如权利要求1所述的水转印透明膜，其特征在于，所述耐摩擦层的厚度范围为1μm至8μm。5.如权利要求1所述的水转印透明膜，其特征在于，所述耐摩擦层由空气喷涂工艺或光固化工艺粘接固定在所述成像层与所述离型层之间。6.如权利要求5所述的水转印透明膜，其特征在于，所述耐摩擦层的材质为丙烯酸清漆或有机硅清漆。7.如权利要求1所述的水转印透明膜，其特征在于，所述全息图案层内的全息图案为镭射图案、彩虹图案、光栅图案的至少一种。8.如权利要求1所述的水转印透明膜，其特征在于，所述薄膜基层为聚对苯二甲酸乙二醇酯为材料，且所述薄膜基层的厚度范围为12μm至20μm。

技术总结

本实用新型公开一种水转印透明膜，该水转印透明膜包括依次层叠设置的薄膜基层、离型层、耐摩擦层、成像层。所述成像层包括丙烯酸层和全息图案层，所述全息图案层压印于所述丙烯酸层背向所述摩擦层的表面，所述离型层为水熔性离型膜。本实用新型技术方案能够提高水转印膜的透明性。膜的透明性。膜的透明性。

技术研发人员：

刘海龙 林桂礼 任金雁 覃毅

受保护的技术使用者：

深圳市坤弘科技有限公司

技术研发日：

2022.07.04

技术公布日：

2022/11/21