IGZO液晶面板制备方法

igzo液晶面板制备方法
技术领域
1.本发明涉及一种igzo液晶面板制备方法。

背景技术：

2.igzo(indium gallium zinc oxide)为铟镓锌氧化物的缩写，非晶igzo材料是用于新一代薄膜晶体管技术中的沟道层材料，是金属氧化物(oxide)面板技术的一种，其载流子迁移率是非晶硅的20～30倍，可以大大提高tft对像素电极的充放电速率，提高像素的响应速度，实现更快的刷新率，同时更快的响应也大大提高了像素的行扫描速率，使得超高分辨率在tft-lcd中成为可能。另外，由于晶体管数量减少和提高了每个像素的透光率，igzo显示器具有更高的能效水平，而且效率更高。
3.但对于目前的igzo液晶面板生产来说，igzo部分关键技术主要被日韩垄断，我国igzo技术的研发在突破材料与薄膜制程等技术瓶颈后，国内大部分企业目前还处在igzo tft技术储备和研发阶段，且多数的企业都是针对小型屏(如手机)的研究，而在大尺寸、柔性化、轻薄化oled显示面板上，还存在大尺寸面板良率低的技术瓶颈，故需要开发一套能显著提升大尺寸面板良率的igzo液晶面板制备工艺。

技术实现要素：

4.本发明的一个目的是解决至少上述问题和/或缺陷，并提供至少后面将说明的优点。
5.为了实现根据本发明的这些目的和其它优点，提供了一种igzo tft液晶面板制备方法，包括：
6.步骤一，制备igzo tft阵列基板；
7.步骤二，制备cf彩膜基板；
8.步骤三，通过cell成盒工艺对阵列基板、彩膜基板进行成盒处理；
9.其中，在步骤一中，所述阵列基板的制程中包括对阵列溅度、刻蚀阻挡层、栅极绝缘层、钝化层、有源层的优化，且优化过程被配置为包括：
10.s10、通过先在玻璃基板上溅射栅极材料膜，经掩膜曝光、显影、干法蚀刻后形成栅极布线图案；
11.s12、采用化学气相沉积法连续成膜以形成sinx膜、非掺杂igzo膜，掺磷a-si膜，通过掩膜曝光及干法蚀刻得到tft部分的igzo图案；
12.s13、通过溅射成膜法得到ito膜，再经掩膜曝光及湿法蚀刻构成显示电极图案，得到刻蚀阻挡层；
13.s14、通过掩膜曝光及干法蚀刻法得到栅极端部绝缘膜的接触孔图案；
14.s15、制备tft的源极、漏极，通过物理气相沉积法形成栅极绝缘层，再通过掩膜曝光及干法蚀刻对绝缘膜进行蚀刻得到阵列基板。
15.优选的是，在步骤一的阵列基板制备过程中，所述镀膜工艺被配置为包括：
16.在充分清洗的玻璃基板干净表面上，通过化学气相沉积的方法形成半导体膜或隔离膜；
17.通过物理气相沉积的方法，于低压环境下，通过对电压、电流参数的控制，基于各层制备工艺需要，通入气体，使气体受等离子体解离，轰击靶材表面，以在基板上形成薄膜。
18.优选的是，所述成盒的处理方式被配置为包括：
19.s30、在阵列基板、彩膜基板表面分别均匀的印刷一层配向膜并固化，通过摩擦处理，使其对液晶分子具有配向控制力，进而形成一定的预倾角；
20.s31，将摩擦后的阵列基板、彩膜基板洗净，通过对阵列基板上实施seal涂布及ag涂布工艺，在彩膜基板上均匀散布颗粒状的隔垫物spacer，进一步通过真空贴合，固化得到igzo tft液晶面板；
21.s32，在对igzo tft液晶面板进行后工程处理时，通过igzo tft液晶面板检测系统进行屏检。
22.优选的是，在s30中，所述配向膜通过相配合的印刷组件得到，且所述印刷组件被配置为包括：
23.印刷辊，其上套设有带配向纹的印刷版；
24.在空间上与印刷辊相对应，以向印刷辊提供配向液的柔性转印辊；
25.用于将待印刷的基板输送至印刷辊下方，完成印刷操作的操作台面；
26.其中，所述操作台面的后端通过相配合的罩壳设置有多级固化机构，所述多级固化机构在基板的传输方向被配置为包括：交错设置的至少两级中温冷却机构，两级低温冷却机构。
27.优选的是，所述柔性转印辊被配置为包括第一转动轴以及套设在第一转动轴的柔性层；
28.其中，所述柔性层与第一转动轴之间通过相配合的弧形板进而连接；
29.所述柔性层粘接在弧形转接板的弧形端面上，且所述弧形转接板在与第一转动轴相配合的一侧设置有至少一个异形连接块；
30.所述第一转动轴的周向上设置有多个与异形连接块相配合的异形槽。
31.优选的是，所述柔性层被配置为采用海绵或棉毡材料制备得到；
32.所述第一转动轴的两端通过相配合的卡箍进而对弧形转接板进行二次固定。
33.优选的是，还包括设置在转印辊上方的喷液组件，以及设置在转印辊一侧的压辊；
34.其中，所述转印辊的下方还设置有相配合的弧形集液槽，所述集液底部与转印辊底部具有1-3mm之间的间距，所述集液槽内侧壁与转印辊的外表面之间具有2-5mm的间距；
35.所述压力辊被配置为与转印辊直接接触，且压入转印辊柔性层预定深度；
36.所述喷液组件被配置为包括：
37.与转印辊的空间布局方式一致的至少一个中空储液辊，各储液辊在与转印辊相配合的一侧分别设置有条形和/或孔形的出液孔；
38.向各中空储液辊内液体表面施加压力的执行机构。
39.优选的是，还包括设置在操作台面出料一侧的检测组件，其被配置为包括：
40.设置在工作台面上的控制主板；
41.设置在工作台面上方，并与基板输出方向相配合的至少一个第一摄像机构；
42.其中，所述控制主板中预存储有基板上配向膜印刷后的标准图片信息，所述标准图片信息包括配向膜的印刷位置以及配向纺的形状、尺寸、角度、深度信息；
43.当第一摄像机构获取到基板上的实际配向膜信息后，控制主板上的判断模块将实际配向膜信息与标准图片信息逐一进行对比计算，得到各自的偏差值；
44.判断模块统计比对信息中的各偏差值，如有任意一个偏差值超出第一预定范围则对印刷辊的相关参数进行调整，如有两个以上偏差值超出第二预定范围则对印刷辊的相关参数进行补充调整，且第二预定范围被配置为小于第一预定范围。
45.优选的是，所述igzo tft液晶面板检测系统被配置为包括检测主机、与待测igzo tft液晶面板相配合的触摸显示屏、画面生成器，以及设置在待测igzo tft液晶面板上方的第二摄像机构，用于给不良igzo tft液晶面板添加识别码的打码装置；
46.所述检测主机内部设置有对待测igzo tft液晶面板质量进行判别的判别模块，对待测igzo tft液晶面板进行画面切换的控制模块；
47.其中，在判别模块内存储有对待测igzo tft液晶面板不良信息进行判别的图片数据库；
48.控制模块，控制画面生成器输入到触摸显示屏的画面；
49.触摸显示屏包括自发光透明显示器和贴有上偏光片的触控屏，且所述贴有触控屏上设有相配合的输入模块，以将用户点击触摸显示屏而产生的切换画面操作命令传输至检测主机的画面切换模块上；
50.所述第二摄像机构根据控制模块的画面切换，将第二摄像机构采集的画面传输至检测主机中，通过与图片数据库的比对确定待测igzo tft液晶面板的质量，并给出相应判级；
51.检测主机向打码装置发送信号，控制打码装置给传输带上的不良igzo tft液晶面板贴上相应的识别码，并通过相配合的通信模块将识别码上传给检测主机；
52.检测主机基于识别码建立对应的不良数据包，并将第二摄像机构检测到的图像以及判级结果放入至不良数据包中，并共享给云平台；
53.设置在传输带的不良igzo tft液晶面板通过相配合的igzo tft移载机输出至下一个工序的传输机构上。
54.本发明至少包括以下有益效果：其一，本发明通过igzo tft液晶面板的制备工艺主要面向50英寸以上igzo电视液晶显示面板，在制备中通过增加缓冲层、钝化层等膜层结构设计，对膜基结合力和膜抗氧化等性能进行提升，进一步通过刻蚀阻挡、背沟道刻蚀等相关结构设计，使tft器件的载流子迁移率，开关电流比，阈值电压(vth)和亚阈值摆幅等关键技术指标同步上升，面板良率可达到80％以上。
55.其二，本发明通过对配向膜的印刷装置进行结构改进，以使得其在配向膜的印刷过程中，配向膜的印刷效果具有更好的均一性、稳定性，可以有效减少后期在摩擦过程中因摩擦工艺过程带来的摩擦不均匀、碎亮点异物以及划痕等工艺不良。
56.其三，本发明通过提供一种智能化屏检系统，使得其相对于现有技术而言，其检测操作由机器自动完成，不依赖人员经验，对于操作人员来说，操作难度较低，不用长时间盯着屏幕，不易产生疲劳，能显著加快检测人员的作业速度，提高产能。
57.本发明的其它优点、目标和特征将部分通过下面的说明体现，部分还将通过对本
发明的研究和实践而为本领域的技术人员所理解。
附图说明
58.图1为本发明igzo tft液晶面板的制备工艺流程图；
59.图2为本发明阵列基板的结构布局图；
60.图3为本发明液晶面板的成盒工艺流程图；
61.图4为本发明印刷组件的结构布局示意图；
62.图5为本发明与现有技术的技术指标对比。
具体实施方式
63.下面结合附图对本发明做进一步的详细说明，以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。
64.应当理解，本文所使用的诸如“具有”、“包含”以及“包括”术语并不配出一个或多个其它元件或其组合的存在或添加。
65.需要说明的是，在本发明的描述中，术语指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，并不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
66.在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“套设/接”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接，可以是连接，也可以是电连接，可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通，对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
67.本发明的igzo tft液晶面板制备方法，包括：
68.步骤一，制备igzo tft阵列基板；
69.步骤二，制备cf彩膜基板；
70.步骤三，通过cell成盒工艺对阵列基板、彩膜基板进行成盒处理；
71.其中，在步骤一中，所述阵列基板的制备方法包括：
72.在实际应用中，igzo tft液晶面板的制备工艺主要是包含阵列、彩膜、成盒三大制程，其中阵列的制程是核心基础，彩膜、成盒制程是项目研发技术及产品示范及应用技术关键。此三大工艺流程图及其关键点工艺技术如图1所示，其中，在本方案中，阵列制程主要包括对阵列溅度、刻蚀阻挡层(采用刻蚀阻挡、背沟道刻蚀)、栅极绝缘层、钝化层、有源层的优化，且优化过程是先在玻璃基板上溅射栅极材料膜，经掩膜曝光、显影、干法蚀刻后形成栅极布线图案。第二步是用pecvd法进行连续成膜，形成sinx膜、非掺杂igzo膜，掺磷a-si膜。然后再进行掩膜曝光及干法蚀刻形成tft部分的igzo图案。第三步是用溅射成膜法形成透明电极(ito膜)，再经掩膜曝光及湿法蚀刻形成显示电极图案，开发出刻蚀阻挡层。第四igzo薄膜晶体管液晶显示器件制备关键技术及应用示范，步栅极端部绝缘膜的接触孔图案形成则是使用掩膜曝光及干法蚀刻法。第五步是将al等进行溅射成膜，用掩膜曝光、蚀刻形成tft的源极、漏极以及信号线图案。最后用物理气相沉积法形成栅极绝缘层，再用掩膜曝
光及干法蚀刻进行绝缘膜的蚀刻成形，形成栅极绝缘层，用于对栅极以及信号线电极端部和显示电极的保护。至此，整个工艺流程完成，其构建完成后的结构如图2所示，包括5层，一般情况下分别是1-第一金属层(栅极层)、2-栅极绝缘层和氧化物半导体层(igzo)、3-第二金属层(源漏极层)、4-钝化层、5、ito(电极层)其中，第一层的栅极层为hetal 1(gate)：镀上mo(钼)，al(铝)，采用气相沉积法pvd；第二层的栅极绝缘层和氧化物半导体包括：采用化学沉积法cvd的g：gate sinx(氮化硅，绝缘层)，l：o-si(非结晶矽，通道层)，n：n+α-si(在si中掺杂p)降低界面电位差使成为欧姆接触(ohmic contact)；
73.第三层的源漏极层为采用气相沉积法pvd的metal 2(source，drain)：mo(钼)，al；
74.第四层的钝化层为采用化学沉积法cvd的passivation(via)：si.nx，保护层，把金属盖住，另有via和ito连通；
75.第五层的电极层为采用气相沉积法pvd的ito(画素电极)。
76.其中，(1)镀膜：在充分清洗的玻璃基板干净表面上，通过化学气相沉积的方法形成半导体膜或隔离膜。通过物理气相沉积的方法，于低压环境下，我公司通过控制电压、电流的具体参数，根据每层需要，通氩气等气体，使气体受等离子体解离，利用电场的加速作用使igzo原子脱离靶材，离子受电场影响往阴极移动，并轰击靶材表面，进而于基板上形成薄膜。
77.(2)曝光：曝光的目的主要在提供紫外线光源。通过在基板涂覆感光材料即光阻，发射紫外线波长，使光阻产生光化学反应。光阻接受曝光后，便形成所谓的潜在(latent)电极图案，然后经由显影制程形成三维的立体图案。
78.蚀刻：该制程中主要采取湿法蚀刻，将玻璃基板浸泡于液态的蚀刻液中，通过化学反应将没有被覆盖的膜刻蚀掉。湿刻有设备便宜、生产成本低的优点，本制程中蚀刻液主要是al酸(成分：h3po4、ch3cooh、hno3、h2o)等；显影则是经光罩曝光后，光罩上的图形转移到玻璃基板上，被光阻以潜影的方式记录下来后。但要得到真正的图形，还需要用显影液将潜影显露出来。如果使用的光阻为正性光阻，被uv光照射到的光阻会在显影过程中被溶掉，剩下没有被照射的部分。本制程中主要显影液位tmah(氢氧化四甲铵)，决定产品良率和质量的关键在于tft器件的稳定性，关通过快热退火(rtp)等后处理手段来提升器件的稳定性。
79.而cf的制程原理制程是在玻璃基板上通过颜料分散等工艺涂布bm、r/g/b、以及o/c，从而使通过的白光过滤为红、蓝、绿三种基本素点阵来实现彩显示。在cf制程中，整体工序顺序是投入白玻璃基板，到黑矩阵、三基及ito制作完成。cf制程最重要的工艺节点是bm(黑矩阵制程)，该制程功能作用就提高对比度，防止串，防止漏光/光电流产生，保护tft电极，其次是ps(photo spacer，tft/cf隔垫物制程)，其功能作用：ps主要提供tft/cf上下两层玻璃的支撑，必须均匀的分布在cf玻璃基板上，如分布不均ps聚集在一起会阻碍光线通过/维持两层玻璃基板的间隙(gap)，造成电场分布不均，会影响液晶的灰阶表现。
80.cf制程主要关键技术点包括：
81.膜厚控制技术：在彩滤光片中，各膜层的厚度直接影响产品的度。而在彩滤光片的生产中，各膜层是先后分别制作的，且各膜层的膜减率不同，因此各膜层的初始厚度控制非常重要，使膜厚误差控制在0.05微米之内，保证产品的度。
82.段差控制技术：彩滤光片主要是由红绿蓝三基的膜层线条组成，其相互间的膜层厚度偏差会引起混后颜的偏差，使膜厚段差误差控制在0.05微米之内，保证产品
质量。
83.所述成盒cell的处理方式被配置为包括：把array制程及cf制程制作的tft基板和彩膜(cf)基板，经过一系列处理后制作成合格的液晶面板(panel)。如图3所示cell工程主要分为前、中、后三部分：
84.(1)cell前工程技术：在tft和cf基板表面均匀的印刷一层配向膜并固化，通过摩擦处理，使其对液晶分子具有配向控制力，使液晶分子具有正确、稳定的取向，并形成一定的预倾角。主要目的是形成厚度均一的配向膜、基板表面均匀的摩擦处理。设计主要工序是投入洗净(紫外线及滚刷洗净方式)、配向膜印刷、配向膜烧成、摩擦、摩擦后洗净。是整个工艺基础。
85.(2)cell中工程技术：其中核心技术是ps制程(photo spacer，tft/cf隔垫物)。目的是为在array基板和cf基板间形成均匀的盒厚，在cf基板上均匀的散布颗粒状的spacer(隔垫物)作为缓冲层，进一步通过真空贴合，固化得到igzo tft液晶面板；
86.spacer散布工程的工艺技术要求包括：
87.1、散布密度稳定性：中心值
88.2、保持散布均匀性
89.3、没有spacer凝集体
90.spacer散布工程的工艺设备要求包括：
91.1、液晶滴下时spacer不发生移动
92.2、在工艺过程中基板上不附着清洁剂不可去除的不纯物。
93.3、cell中工程技术：将tft基板和cf基板贴合后的大型基板按制品尺寸进行上下切断，分割为单块屏。
94.(3)在对igzo tft液晶面板进行后工程处理时，通过igzo tft液晶面板检测系统进行屏检，在后工程处理中，对igzo tft液晶面板进行个片切割时，通过相配合的igzo液晶面板移栽机实现面板的移动；
95.如图4，在另一种实施例中，在s30中，所述配向膜通过相配合的印刷组件得到，且所述印刷组件被配置为包括：
96.印刷辊1，其上套设有带配向纹的印刷版，在这种结构中，配向纹根据需要设置对应的形状、角度以及多层或单层的排布方式，而印刷版包括相配合的底板以及设置在底板上的配向纹，各底板底部分别设置有对应的卡条，所述印刷辊的转动辊的周向上设置有多个与卡条相配合的卡槽，且转动辊中可以通入一定量的气体，以使其外径增加，在使用时卡条直接与卡槽相配合，完成印刷版与转动辊的安装，同时印刷版的两端可以通过相配合的卡箍或螺钉进行二次固定，而在印刷版伴随印刷次数增加而使其表面拉伸后，可以通过对印刷版进行定量的剪切，以对其拉伸进行控制，或者是通过向转动辊中通入定量的气体，使其表面直径增加，将印刷版进行空间上的胀紧操作，减小其因拉伸原因造成的印刷效果受限的问题；
97.在空间上与印刷辊相对应，以向印刷辊提供配向液的柔性转印辊2，在这种结构中，相对于传统的硬质转印辊来说，通过柔性结构的设计，使得其在与刷辊转输送配向液时，更加的均匀，能将印刷版的表面均匀的转移一层配向液，保证配向膜的印刷效果满足使用需要；
98.用于将待印刷的基板输送至印刷辊下方，完成印刷操作的操作台面3，其用于定量向印刷辊所在的印刷工位输送基板，完成印刷操作；
99.其中，所述操作台面的后端通过相配合的罩壳设置有多级固化机构4，所述多级固化机构在基板的传输方向被配置为包括：交错设置的至少两级中温冷却机构，两级低温冷却机构，在这种结构中，通过多级因化机构的使用，使得印刷后的基板在输出后即可以完成配向膜的固化操作，保证其后期工作的稳定性，同时减小传输过程中因配向膜未固化造成的变形、破损或污染，在实际应用中，所述两级中温冷却机构，两级低温冷却机构的排布方式为一级中温冷却机构、一级低温冷却机构、二级中温冷却机构、二级低温冷却机构，其中，一级中温冷却机构的冷却温度控制在50-65℃，其用于通过较高温度的作用，将配向液中的水份进行部分去除，但不影响其本身的性能；一级低温冷却机构的冷却温度控制在25-32℃，其用于温度差的方式，使得其水份快速凝结；二级中温冷却机构的冷却温度控制在80-85℃，其通过较高温度的设定，使得配向液中的水分能快速蒸发；二级低温冷却机构的冷却温度控制在5-15℃，其用于较大的温度差方式，使得其剩余的水份快速凝结，并通过这个较大的温度差使得其表面平整度较好，形变较低，同时可以做到部分改性的作用。
100.如图4，在另一种实施例中，所述柔性转印辊被配置为包括第一转动轴5以及套设在第一转动轴的柔性层6；
101.其中，所述柔性层与第一转动轴之间通过相配合的弧形板7进而连接，在这种结构中，通过弧形转接板的结构设计，使得柔性层可以根据需要维护，调整，以使其始终处于最佳的工作状态；
102.所述柔性层粘接在弧形转接板的弧形端面上，且所述弧形转接板在与第一转动轴相配合的一侧设置有至少一个异形连接块8，在这种结构中，通过粘接剂的作用，将柔性材料粘接在弧形的转接板上，使得每一个弧形的转接板形成一个独立的结构，进而在后期维护时，不需要将第一转动轴与其它设备进行分离，就可以直接完成对转印辊的维护，进一步地通过异形连接块的作用，使得弧形转接板与第一转动轴的配合稳定性度更好，同时在第一转动轴转动时，其结构稳定性不会受到影响，不会产生松动；
103.所述第一转动轴的周向上设置有多个与异形连接块相配合的异形槽9，在这种结构中，通过异形槽的结构设计，对一个一个的弧形转接板进行固定，进面在第一转动轴的周向上形成一个完整的筒形柔性层，且因每个结构相互独立，故在实际应用中，各弧形转接板之间接触的柔性层之间被配置为紧密接触，使得其在空间上具有一定的完整度，同时在旋转施压的过程中，其各部分又可以分别作用，分别形变，保证其转印的的效果。
104.在另一种实施例中，所述柔性层被配置为采用海绵或棉毡材料制备得到；
105.所述第一转动轴的两端通过相配合的卡箍(未示出)进而对弧形转接板进行二次固定，在这种结构中，通过高密度的海绵材料使得其吸水以及释放水的效果满足需要，同时根据一定的需要在两边通过相配合的卡箍进行二次固定，保证设备在运用时的结构稳定性不受限定，当然地这里的卡箍也可以采用扎带进行适应性的替换，而为了保证结构件之间配合的稳定性，柔性层的长度可以设计为小于各转接板的长度，进而在两端具有与卡箍相配合的固定部，各固定部上根据需要设置相配合的卡槽，所述卡箍设置在卡槽内，将各转接板在空间上构成相配合的环形结构，更进一步地，卡箍在与柔性层相配合的一侧设置有延伸部，所述延伸部上设置有相配合的卡齿，将柔性层在空间上进行抓紧，并进一步通过卡箍
的收紧，将柔性层在空间上进行压紧操作，使其成类似的构成一体式结构，保证结构配合的稳定性。
106.如图4，在另一种实施例中，还包括设置在转印辊上方的喷液组件10，以及设置在转印辊一侧的压辊11，在这种结构中，通过喷液组件的作用，将转印辊上提供连续的配向液，而压辊的作用，在于将柔性层吸收的配向液进行定量的挤压操作，使得配向液的分布更为的均匀，同时通过挤压操作，使得转印辊在经挤压后向印刷辊进行转动时，其与印刷辊结合的配向液更为均匀，且液量具有更好的可控性；
107.其中，所述转印辊的下方还设置有相配合的弧形集液槽12，所述集液底部与转印辊底部具有1-3mm之间的间距，所述集液槽内侧壁与转印辊的外表面之间具有2-5mm的间距，在这种结构中，集液槽的作用在于将工作中经挤压产生的多余的配向液进行收集，同时通过其与转印辊之间的间距限定，使得其收集的配向液也可以反向提供给转印辊，保证其内的配向液体满足使用要求；
108.所述压力辊被配置为与转印辊直接接触，且压入转印辊柔性层预定深度，在实际应用中，现有技术中的硬质辊，其在与印刷辊进行接触转印时，受印刷辊上配向纹的结构、高度的限定，其转印效果通常会受到限定，故其配向液印刷后的厚度、均匀性并不能满足实际要求，而采用柔性辊的设计，使得其具有可形变的能力，能在一定程度上，保证转印辊与印刷辊接触转印的效果，进而保证后期的印刷效果满足使用要求，而更进一步地，根据转印辊的高度，所述印刷辊与柔性层之间的接触的紧密性可以根据需要调整，通常使得配向纹的一半能陷入柔性层中为佳，同时根据不同的配向纹，可以根据需要选择合适厚度的柔性层，进而保证其转印效果；
109.所述喷液组件被配置为包括：
110.与转印辊的空间布局方式一致的至少一个中空储液辊13，各储液辊在与转印辊相配合的一侧分别设置有条形和/或孔形的出液孔14，在这种结构中通过中空内部装有配向液的储液辊向转印辊连续输送配向液，以保证其满足连续作业的要求，更具体的，储液辊上可以设置相配合的多个进液口，配合相应的液面感应器，以完成智能化补液操作，而条形或孔形的结构设计，使得具有一定黏度的配向液的输送更加均匀，分布的面积更广泛，通过挤压辊的操作，在柔性层的分布更加均匀，具体来说，条形孔控制量，孔形结构控制分布面积，保证其送液效果；
111.向各中空储液辊内液体表面施加压力的执行机构15，在这种结构中，执行机构可以是输送空气的送风机构，也可以是可以往复伸缩的压板(其动力可以通过电机或气缸提供)，即通过压板的下行，将压力定量施加给液面，以使其从条形孔或孔形结构输出的配向液的量具有可控性。
112.如图4，在另一种实施例中，还包括设置在操作台面出料一侧的检测组件，其被配置为包括：
113.设置在工作台面上的控制主板；
114.设置在工作台面上方，并与基板输出方向相配合的至少一个第一摄像机构16；
115.其中，所述控制主板中预存储有基板上配向膜印刷后的标准图片信息，所述标准图片信息包括配向膜的印刷位置以及配向纺的形状、尺寸、角度、深度信息；
116.当第一摄像机构获取到基板上的实际配向膜信息后，控制主板上的判断模块将实
际配向膜信息与标准图片信息逐一进行对比计算，得到各自的偏差值；
117.判断模块统计比对信息中的各偏差值，如有任意一个偏差值超出第一预定范围则对印刷辊的相关参数进行调整，如有两个以上偏差值超出第二预定范围则对印刷辊的相关参数进行补充调整，且第二预定范围被配置为小于第一预定范围，在本方案中，因基板的输送，以及印刷辊的反复使用，基板在印刷时会存在如配向纹不清楚，配向纹深度不够，或配向纹的方向不对或者是因长期使用印刷版伸缩导致其位置不对等，影响后期基板的应用效果，故在操作中，通过设置相配合的检测机构，对印刷的基板进行实时检测，并将获取的图像与预存的图像进行匹配式比对，以对其印刷效果进行实施检测，以在其印刷效果不满足使用要求后，对印刷设备进行实时调整，保证其良率，而在应用中，控制主板可以对每一个基板进行自动编码，以便于后期根据编码对不良产品进行溯源。
118.在另一种实施例中，所述igzo tft液晶面板检测系统被配置为包括检测主机、与待测igzo tft液晶面板相配合的触摸显示屏、画面生成器，以及设置在待测igzo tft液晶面板上方的第二摄像机构，用于给不良igzo tft液晶面板添加识别码的打码装置；
119.所述检测主机内部设置有对待测igzo tft液晶面板质量进行判别的判别模块，对待测igzo tft液晶面板进行画面切换的控制模块；
120.其中，在判别模块内存储有对待测igzo tft液晶面板不良信息进行判别的图片数据库；
121.控制模块，控制画面生成器输入到触摸显示屏的画面；
122.触摸显示屏包括自发光透明显示器和贴有上偏光片的触控屏，且所述贴有触控屏上设有相配合的输入模块，以将用户点击触摸显示屏而产生的切换画面操作命令传输至检测主机的画面切换模块上；
123.所述第二摄像机构根据控制模块的画面切换，将第二摄像机构采集的画面传输至检测主机中，通过与图片数据库的比对确定待测igzo tft液晶面板的质量，并给出相应判级；
124.检测主机向打码装置发送信号，控制打码装置给传输带上的不良igzo tft液晶面板贴上相应的识别码，并通过相配合的通信模块将识别码上传给检测主机；
125.检测主机基于识别码建立对应的不良数据包，并将第二摄像机构检测到的图像以及判级结果放入至不良数据包中，并共享给云平台；
126.设置在传输带的不良igzo tft液晶面板通过相配合的igzo tft移载机输出至下一个工序的传输机构上。
127.在本方案中，通过自主设计的检测系统对面板的良率进行检测，相对于现有的技术而言，其检测对操作人员的要求更低，同时所有的检测均通过经训练的图片数据库进行比对判断实现，对于不同产线上不同尺寸的检测，其其训练的图片数据库有所差异性，同时相对于现有技术而言，通过识别码(二维、条形码等)给予一个不良屏对应一个唯一的身份标签，使得其后期在做数据整合时，可以根据标签对不良品进行二次抽检，同时根据需要也可以对良率的屏进行打码操作，使得其在后期制备时可以根据打码对检测图像进行调取，进行二次抽检，或做为基础数据进行使用。
128.在实际应用时，根据使用需要可以对一个较大的待检屏在空间上进行分割，以使得其分割的区域与第二摄像机构中各摄像头的位置相对应，对于每一个摄像头所在的位置
得到的图片信息，可以按区别进行存储、编码，以方便其与数据库中对应的图片进行比对，减少中间寻图的周期，保证比对速率，具体来说，如果以文件的形式进行存储，每个屏的检测图片以识别码为文件名进行存储，在存储时，按摄像头所在的区间为序号逐层进行分配存储位置，将第一个区间的摄像头的图片存储在第一区间，在调取图片的时候根据识别友配合区间码就能到对应的检测图片。
129.如图5所示，经实验比较，采用本发法制备的显示器与现有技术达到的技术指标比对，本发明显著性得到有效提升。
130.以上方案只是一种较佳实例的说明，但并不局限于此。在实施本发明时，可以根据使用者需求进行适当的替换和/或修改。
131.这里说明的设备数量和处理规模是用来简化本发明的说明的。对本发明的应用、修改和变化对本领域的技术人员来说是显而易见的。
132.尽管本发明的实施方案已公开如上，但其并不仅仅限于说明书和实施方式中所列运用。它完全可以被适用于各种适合本发明的领域。对于熟悉本领域的人员而言，可容易地实现另外的修改。因此在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念下，本发明并不限于特定的细节和这里示出与描述的图例。

技术特征：

1.一种igzo tft液晶面板制备方法，其特征在于，包括：步骤一，制备igzo tft阵列基板；步骤二，制备cf彩膜基板；步骤三，通过cell成盒工艺对阵列基板、彩膜基板进行成盒处理；其中，在步骤一中，所述阵列基板的制程中包括对阵列溅度、刻蚀阻挡层、栅极绝缘层、钝化层、有源层的优化，且优化过程被配置为包括：s10、通过先在玻璃基板上溅射栅极材料膜，经掩膜曝光、显影、干法蚀刻后形成栅极布线图案；s12、采用化学气相沉积法连续成膜以形成sinx膜、非掺杂igzo膜，掺磷a-si膜，通过掩膜曝光及干法蚀刻得到tft部分的igzo图案；s13、通过溅射成膜法得到ito膜，再经掩膜曝光及湿法蚀刻构成显示电极图案，得到刻蚀阻挡层；s14、通过掩膜曝光及干法蚀刻法得到栅极端部绝缘膜的接触孔图案；s15、制备tft的源极、漏极，通过物理气相沉积法形成栅极绝缘层，再通过掩膜曝光及干法蚀刻对绝缘膜进行蚀刻得到阵列基板。2.如权利要求1所述的igzo tft液晶面板制备方法，其特征在于，在步骤一的阵列基板制备过程中，所述镀膜工艺被配置为包括：在充分清洗的玻璃基板干净表面上，通过化学气相沉积的方法形成半导体膜或隔离膜；通过物理气相沉积的方法，于低压环境下，通过对电压、电流参数的控制，基于各层制备工艺需要，通入气体，使气体受等离子体解离，轰击靶材表面，以在基板上形成薄膜。3.如权利要求1所述的igzo液晶面板移栽机，其特征在于，在步骤三中，所述成盒的处理方式被配置为包括：s30、在阵列基板、彩膜基板表面分别均匀的印刷一层配向膜并固化，通过摩擦处理，使其对液晶分子具有配向控制力，进而形成一定的预倾角；s31，将摩擦后的阵列基板、彩膜基板洗净，通过对阵列基板上实施seal涂布及ag涂布工艺，在彩膜基板上均匀散布颗粒状的隔垫物spacer，进一步通过真空贴合，固化得到igzo tft液晶面板；s32，在对igzo tft液晶面板进行后工程处理时，通过igzo tft液晶面板检测系统进行屏检。4.如权利要求3所述的igzo tft液晶面板制备方法，其特征在于，在s30中，所述配向膜通过相配合的印刷组件得到，且所述印刷组件被配置为包括：印刷辊，其上套设有带配向纹的印刷版；在空间上与印刷辊相对应，以向印刷辊提供配向液的柔性转印辊；用于将待印刷的基板输送至印刷辊下方，完成印刷操作的操作台面；其中，所述操作台面的后端通过相配合的罩壳设置有多级固化机构，所述多级固化机构在基板的传输方向被配置为包括：交错设置的至少两级中温冷却机构，两级低温冷却机构。5.如权利要求4所述的igzo tft液晶面板制备方法，其特征在于，所述柔性转印辊被配
置为包括第一转动轴以及套设在第一转动轴的柔性层；其中，所述柔性层与第一转动轴之间通过相配合的弧形板进而连接；所述柔性层粘接在弧形转接板的弧形端面上，且所述弧形转接板在与第一转动轴相配合的一侧设置有至少一个异形连接块；所述第一转动轴的周向上设置有多个与异形连接块相配合的异形槽。6.如权利要求5所述的igzo tft液晶面板制备方法，其特征在于，所述柔性层被配置为采用海绵或棉毡材料制备得到；所述第一转动轴的两端通过相配合的卡箍进而对弧形转接板进行二次固定。7.如权利要求4所述的igzo tft液晶面板制备方法，其特征在于，还包括设置在转印辊上方的喷液组件，以及设置在转印辊一侧的压辊；其中，所述转印辊的下方还设置有相配合的弧形集液槽，所述集液底部与转印辊底部具有1-3mm之间的间距，所述集液槽内侧壁与转印辊的外表面之间具有2-5mm的间距；所述压力辊被配置为与转印辊直接接触，且压入转印辊柔性层预定深度；所述喷液组件被配置为包括：与转印辊的空间布局方式一致的至少一个中空储液辊，各储液辊在与转印辊相配合的一侧分别设置有条形和/或孔形的出液孔；向各中空储液辊内液体表面施加压力的执行机构。8.如权利要求4所述的igzo tft液晶面板制备方法，其特征在于，还包括设置在操作台面出料一侧的检测组件，其被配置为包括：设置在工作台面上的控制主板；设置在工作台面上方，并与基板输出方向相配合的至少一个第一摄像机构；其中，所述控制主板中预存储有基板上配向膜印刷后的标准图片信息，所述标准图片信息包括配向膜的印刷位置以及配向纺的形状、尺寸、角度、深度信息；当第一摄像机构获取到基板上的实际配向膜信息后，控制主板上的判断模块将实际配向膜信息与标准图片信息逐一进行对比计算，得到各自的偏差值；判断模块统计比对信息中的各偏差值，如有任意一个偏差值超出第一预定范围则对印刷辊的相关参数进行调整，如有两个以上偏差值超出第二预定范围则对印刷辊的相关参数进行补充调整，且第二预定范围被配置为小于第一预定范围。9.如权利要求3所述的igzo tft液晶面板制备方法，其特征在于，所述igzo tft液晶面板检测系统被配置为包括检测主机、与待测igzo tft液晶面板相配合的触摸显示屏、画面生成器，以及设置在待测igzo tft液晶面板上方的第二摄像机构，用于给不良igzo tft液晶面板添加识别码的打码装置；所述检测主机内部设置有对待测igzo tft液晶面板质量进行判别的判别模块，对待测igzo tft液晶面板进行画面切换的控制模块；其中，在判别模块内存储有对待测igzo tft液晶面板不良信息进行判别的图片数据库；控制模块，控制画面生成器输入到触摸显示屏的画面；触摸显示屏包括自发光透明显示器和贴有上偏光片的触控屏，且所述贴有触控屏上设有相配合的输入模块，以将用户点击触摸显示屏而产生的切换画面操作命令传输至检测主
机的画面切换模块上；所述第二摄像机构根据控制模块的画面切换，将第二摄像机构采集的画面传输至检测主机中，通过与图片数据库的比对确定待测igzo tft液晶面板的质量，并给出相应判级；检测主机向打码装置发送信号，控制打码装置给传输带上的不良igzo tft液晶面板贴上相应的识别码，并通过相配合的通信模块将识别码上传给检测主机；检测主机基于识别码建立对应的不良数据包，并将第二摄像机构检测到的图像以及判级结果放入至不良数据包中，并共享给云平台；设置在传输带的不良igzo tft液晶面板通过相配合的igzo tft移载机输出至下一个工序的传输机构上。

技术总结

本发明公开了一种IGZO TFT液晶面板制备方法，包括：步骤一，制备IGZO TFT阵列基板；步骤二，制备CF彩膜基板；步骤三，通过Cell成盒工艺对阵列基板、彩膜基板进行成盒处理；所述阵列基板的制程中包括对栅极层、栅极绝缘层、氧化物半导体层、刻蚀阻挡层、钝化层的优化，且优化过程被配置为包括：通过先在玻璃基板上溅射栅极材料膜，经掩膜曝光、显影、干法蚀刻后形成栅极布线图案；通过溅射成膜法得到ITO膜，再经掩膜曝光及湿法蚀刻构成显示电极图案，得到刻蚀阻挡层。本发明提供一种IGZO TFT液晶面板制备方法，IGZO TFT液晶面板的制备工艺主要面向50英寸以上IGZO电视液晶显示面板，在制备中通过增加钝化层等膜层结构设计，对膜基结合力和膜抗氧化等性能进行提升。膜抗氧化等性能进行提升。膜抗氧化等性能进行提升。