阵列基板及其制备方法[发明专利]

专利名称：阵列基板及其制备方法专利类型：发明专利

发明人：丁錾

申请号：CN202010408093.7申请日：20200514

公开号：CN111584515A

公开日：

20200825

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本申请提供一种阵列基板及其制备方法，该阵列基板包括依次设置的基底、遮光结构层、缓冲层、有源层、介电绝缘层和源漏极金属层。遮光结构层设置在基底上。遮光结构层包括依次设置的第一遮光层和第二遮光层。第一遮光层的材料为第一金属氧化物。第二遮光层的材料为第一铜合金。其中，第一金属氧化物至少包括氧化铝。第一铜合金至少包括铜和铝。本申请解决了遮光层在基底上的附着力较差的技术问题。

申请人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司

地址：518132 广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号

国籍：CN

代理机构：深圳紫藤知识产权代理有限公司

代理人：唐秀萍

本文发布于:2024-09-22 21:14:42，感谢您对本站的认可！

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