(19)中华人民共和国国家知识产权局
| (12)发明专利说明书 | |
| (10)申请公布号 CN 1550913 A (43)申请公布日 2004.12.01 |
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(21)申请号 CN200410063907.9
(22)申请日 2004.05.15
(71)申请人 ASML荷兰有限公司
地址 荷兰维尔德霍芬
(72)发明人 H·W·M·范布尔 桂成 A·德维里斯
(74)专利代理机构 中国专利代理(香港)有限公司
代理人 肖春京
(51)Int.CI
G03F7/20
H01L21/00
(54)发明名称
校准光刻装置的方法,对准方法，计算机程序，光刻装置和器件制造方法 | |
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(57)摘要
一种补偿前到后侧对准光学装置的变形的方法，其中计算基底标记的估计位置和基底标记的实际位置之间的位移矢量。还通过将参考基底移动一段固定量计算出光学校正阵列，并比较参考基底后侧上点的像的移动距离和基底前侧上相应点的移动距离。然后位移矢量和光学校正阵列用于准确地计算另一基底的位置。前到后侧对准光学装置可以足够地大以同时由每个分支机构投影多个标记。参考标记插入在前到后侧对准光学装置的物窗中，由前到后侧对准光学装置的单个分支机构投影的参考标记和基底标记的像的相对变化可以表示前到后侧对准光学装置的光学特性的变化。 | |
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法律状态
法律状态公告日 | 法律状态信息 | 法律状态 |
2023-05-26 | 未缴年费专利权终止IPC(主分类):G03F 7/20专利号:ZL2004100639079申请日:20040515授权公告日:20090422 | 专利权的终止 |
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权 利 要 求 说 明 书
1.一种利用参考基底前侧和后侧上的标记校准包括前到后侧对准光学装置的光刻装置的方法，该方法包括：
-计算通过前到后侧对准光学装置观察到的所述参考基底后侧上的标记的位置和所述标记的实际位置之间的位移矢量；
-相对所述前到后侧对准光学装置移动所述参考基底一小段距离，并比较所述参考基底后侧上点的像移动的距离和所述参考基底前侧上的点移动的距离以产生第一校正矢量；和
-对于在所述参考基底上的一不同点重复移动所述参考基底的上述步骤以产生第二校正矢量；
因而位移矢量和光学校正矢量为校准信息。
2.根据权利要求1的方法，其中重复移动所述参考基底的所述步骤的步骤被重复多次以产生多个第二校正矢量，并根据校正矢量产生光学校正阵列。
3 根据权利要求2的方法，其中从每个第二校正矢量减去第一校正矢量以标准化光学校正阵列。
4.根据前述任一权利要求的方法，其中在移动所述参考基底和产生校正矢量的所述步骤中，从所述校正矢量减去所述参考基底后侧上的一点的像和参考基底前侧上的所述点之间的位移矢量。
5.根据前述任一权利要求的方法，其中在移动所述参考基底和计算校正矢量的所述步骤中，使用与参考基底后侧上点对应的参考基底前侧上点的位置。
6.根据前述任一权利要求的方法，其中利用所述参考基底前侧上的标记的测量位置，可以计算出所述参考基底后侧上所述标记的实际位置。
7.根据权利要求2到6的任一权利要求的方法，其中产生至少四个光学校正矢量。
8.一种利用多个标记校准包括前到后侧对准光学装置的光刻装置的方法，该多个标记布置成通过所述前到后侧对准光学装置的单个分支机构来观察，该方法包括：
-对于每个所述多个标记确定在所述前到后侧对准光学装置的像窗中观察到的像和每个所述标记之间的位移矢量；和
在稍后的时间重复所述确定，并比较第一和后面确定的位移矢量以检测前到后侧对准光学装置的任何变化。
9.根据权利要求8的方法，其中所述多个标记之一固定在所述前到后侧对准光学装置中。
10.根据权利要求8或9的方法，其中至少一个所述多个标记位于参考基底的后侧。
11.根据权利要求8到10的任一权利要求的方法，其中所述计算用于确定光学分支机构的位移。
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