氧化铌溅射靶材的制备方法[发明专利]

(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201610893329.4
(22)申请日 2016.10.13
(71)申请人 法柯特科技(江苏)有限公司
地址 224005 江苏省盐城市盐城高新区凤
凰南路18号
(72)发明人 施玉良 
(74)专利代理机构 北京中政联科专利代理事务
所(普通合伙) 11489
代理人 谢磊
(51)Int.Cl.
C23C  14/34(2006.01)
(54)发明名称
氧化铌溅射靶材的制备方法
(57)摘要
本发明公开了一种能保证在溅射工艺过程
中有效起辉放电溅射的氧化铌溅射靶材的制备
方法,包括如下步骤:原料造粒:取纯度不低于
99.99%的五氧化二铌粉末原料投于造粒设备中
球化造粒;高温脱氧喷涂:将原料造粒步骤中所
得原料装入供粉箱,将原料通过管道输送至低压
高温等离子喷涂焰体内,原料被高温等离子焰
瞬间熔化成液滴状,被高速焰流喷涂到靶材基管
表面,喷涂沉积到预定厚度;等离子焰温度为
15000~20000°C,焰流速度>150m/s,在无氧高
温的等离子焰体中,原料中的一部分氧键被均匀
的脱去,通过XRD对靶材进行分析所得靶材的化
学分子式为Nb2O4.9,采用四探针电阻仪测试所
得靶材电阻率为0.06Ω·
cm。权利要求书1页  说明书2页CN 106567046 A 2017.04.19
C N  106567046
A
1.氧化铌溅射靶材的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:原料造粒:
取纯度不低于99.99%的五氧化二铌粉末原料投于造粒设备中球化造粒;高温脱氧喷涂:将原料造粒步骤中所得原料装入供粉箱,将原料通过管道输送至低压高温等离子喷涂焰体内,原料被高温等离子焰瞬间熔化成液滴状,被高速焰流喷涂到靶材基管表面,喷涂沉积到预定厚度;等离子焰温度为15000~20000°C,焰流速度>150m/s,在无氧高温的等离子焰体中,原料中的一部分氧键被均匀的脱去,通过XRD对靶材进行分析所得靶材的化学分子式为Nb2O4.9,采用四探针电阻仪测试所得靶材电阻率为0.06Ω·cm;机械加工:待喷涂所得靶材到达所定尺寸后,对成型的靶材进行外形机械加工 ,加工后进行清洁包装即得到氧化铌溅射靶材。
权 利 要 求 书1/1页CN 106567046 A
氧化铌溅射靶材的制备方法
技术领域
[0001]本发明涉及一种光电镀膜材料,尤其涉及一种氧化铌溅射靶材的制备方法。
背景技术
[0002]氧化铌溅射靶材是制备高折射率薄膜的溅射材料 ,应用在液晶显示器(LCD)、等离子显示器(PDP)、触摸屏(Touch Panel)、光学镜片等方面。通常的制备方法是将五氧化二铌原料,填装到成型模具中压实,放置于高温烧结炉中烧结,烧结温度1100-1500°C,由于烧结温度较低,无法致原料失氧,所制备出的靶材不具导电性,无法起辉放电溅射。为了让靶材具备一定的导电性,一般是在五氧化二铌原料中参入1-5%的金属铌粉,以增强导电性,但这样做的弊端是:靶材具备了金属属性,所制备出的光电薄膜透光率下降,影响薄膜品质。
发明内容
[0003]本发明所要解决的技术问题是:提供一种能保证在溅射工艺过程中有效起辉放电溅射的氧化铌溅射靶材的制备方法。
[0004]为了解决上述技术问题,本发明的技术方案为:氧化铌溅射靶材的制备方法,包括如下步骤:原料造粒:取纯度不低于99.99%的五氧化二铌粉末原料投于造粒设备中球化造粒;高温脱氧喷涂:将原料造粒步骤中所得原料装入供粉箱,将原料通过管道输送至低压高温等离子喷涂焰体内,原料被高温等离子焰瞬间熔化成液滴状,被高速焰流喷涂到靶材基管表面,喷涂沉积到预定厚度;等离子焰温度为15000~20000°C,焰流速度>150m/s,在无氧高温的等离子焰体中,原料中的一部分氧键被均匀的脱去,通过XRD对靶材进行分析所得靶材的化学分子式为Nb2O4.9,采用四探针电阻仪测试所得靶材电阻率为0.06Ω·cm;
机械加工:待喷涂所得靶材到达所定尺寸后,对成型的靶材进行外形机械加工 ,加工后进行清洁包装即得到氧化铌溅射靶材。
[0005]本发明的优点是:上述氧化铌溅射靶材的制备方法,是通过无氧高温等离子喷涂的超高温超高速焰体,对五氧化二铌原料进行热熔喷涂,一次性完成高温脱氧和喷涂工艺,减少化学分子式中氧的含量,得到的氧化铌溅射靶材化学分子式由NbOx 构成,4.6 < X < 5,本发明既能保证在溅射工艺过程中有效起辉放电溅射,又能制备出高折射率薄膜,本发明没有在五氧化二铌原料中加入金属铌成分,也没有将五氧化二铌原料事先进行脱氧工艺,而是用高温等离子焰直接进行了热熔喷涂,同时完成了脱氧、喷涂工艺,使靶材具备一定的导电性,在溅射工艺中能够顺利放电起辉,制成的薄膜在可见光谱范围平均透光率在95%以上。
具体实施方式
[0006]下面通过具体实施例详细描述一下本发明的具体内容。
[0007]氧化铌溅射靶材的制备方法,包括如下步骤:原料造粒:取纯度不低于99.99%的五氧化二铌粉末原料投于造粒设备中球化造粒,使之外形呈球状具有流动性;高温脱氧喷
涂:将原料造粒步骤中所得原料装入供粉箱,将原料通过管道输送至低压高温等离子喷涂焰体内,原料被高温等离子焰瞬间熔化成液滴状,被高速焰流喷涂到靶材基管表面,喷涂沉积到预定厚度;等离子焰温度为15000~20000°C,焰流速度>150m/s,在无氧高温的等离子焰体中,原料中的一部分氧键被均匀的脱去,通过XRD对靶材进行分析所得靶材的化学分子式为Nb2O4.9,采用四探针电阻仪测试所得靶材电阻率为0.06Ω·cm;
机械加工:待喷涂所得靶材到达所定尺寸后,对成型的靶材进行外形机械加工 ,加工后进行清洁包装即得到氧化铌溅射靶材。

本文发布于:2024-09-22 10:04:44,感谢您对本站的认可!

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