一种基于光学镜片镀膜的镀膜机控制方法及系统与流程

1.本发明涉及镀膜技术领域，具体为一种基于光学镜片镀膜的镀膜机控制方法及系统。

背景技术：

2.最初用于制造镜头的玻璃，就是普通窗户玻璃或酒瓶上的疙瘩，形状类似“冠”，皇冠玻璃或冕牌玻璃的名称由此而来。那时候的玻璃极不均匀，多泡沫。除了冕牌玻璃外还有另一种含铅量较多的燧石玻璃。1790年左右法国人皮而
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路易
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均纳德发现搅拌玻璃酱可以制造质地均匀的玻璃。1884年蔡司公司的恩斯特
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阿贝和奥托
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肖特在德国耶拿市创建肖特玻璃厂，在几年内研制了几十种光学玻璃，其中以高折射率的钡质冕牌玻璃的发明为肖特玻璃厂的重要成就之一，在现有的光学镜片中需要通过镀膜对光学镜片进行透光增强处理，但现有的光学镜片镀膜机在控制时不便于根据不同的光学镜片形状、不同的镀膜面大小进行控制调整处理，对镀膜的准确度较低。

技术实现要素：

3.本发明的目的在于提供一种基于光学镜片镀膜的镀膜机控制方法及系统，以解决上述背景技术中提出的问题。
4.为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种基于光学镜片镀膜的镀膜机控制方法，包括以下步骤：
5.s1、将光学镜片在镀膜室内通过工件盘进行位置固定；
6.s2、通过真空泵将镀膜室内进行抽真空处理；
7.s3、抽真空后对光学镜片进行射频清洁；
8.s4、对射频清洁后的光学镜片进行图像采集处理；
9.s5、将不需要镀膜的面进行自动遮挡处理；
10.s6、对光学镜片需要镀膜的面积进行计算处理，对原料进行计算；
11.s7、对镜片进行预镀膜处理；
12.s8、预镀膜后对镀膜室内进行升温至50-70℃，蒸镀防蓝光膜和蒸镀反射膜；
13.s9、依据镀膜面的位置对工件盘进行蒸镀角度进行调节处理；
14.s10、检测光学镜片的透光率，检测合格后取出。
15.作为优选，所述s3中的射频清洁具体包括以下步骤：
16.s31、对镀膜室内的气压抽至5-10pa，在真空状态下,利用频率为10-18mhz、功率为700-900w的射频电源进行一次射频清洁；
17.s32、将镀膜室内的气压抽至11-20pa，在真空状态下,利用频率为20-30mhz、功率为1000-1400w的射频电源进行二次射频清洁；
18.s33、通过负压管道气体流将产生的挥发性物质抽出。
19.作为优选，所述s4中的图像采集处理具体包括以下步骤：
20.s41、对工件盘上的各个光学镜片进行图像拍摄处理；
21.s42、通过拍摄的图像对光学镜片的图像模型进行构建处理。
22.作为优选，所述s5中的将不需要镀膜的面进行自动遮挡处理具体包括以下步骤：
23.s51、光学镜片的镀膜面进行识别；
24.s52、通过机械臂将遮挡块安装在工件盘上，并对光学镜片不需要镀膜的地方进行覆盖遮挡处理。
25.作为优选，所述s6中的对原料进行计算具体包括以下步骤：
26.s61、得到镀膜面积的数值；
27.s62、通过镀膜面积数值的2-4倍对镀膜原料的重量进行计算。
28.作为优选，所述原料为二氧化硅。
29.作为优选，所述s7中的预镀膜处理具体包括以下步骤：
30.s71、将二氧化硅均匀铺在镀膜室炉底；
31.s72、对二氧化硅进行加热，加热温度为900-1300℃；
32.s73、二氧化硅加热后蒸发，蒸发进行附着在光学镜片表面。
33.作为优选，所述s9中的依据镀膜面的位置对工件盘进行蒸镀角度进行调节处理具体包括以下步骤：
34.s91、识别光学镜片镀膜面凹面和凸面的曲率直径；
35.s92、对镀膜时光学镜片的工件盘的蒸发角度进行调节；
36.s93、凹面和凸面的曲率半径小于4时，蒸发角度调节至为55-65
°
；
37.s94、凹面和凸面的曲率半径大于等于4时，蒸发角度调节至为70-75
°
。
38.一种基于光学镜片镀膜的镀膜机控制系统，包括镀膜机控制终端、图像获取单元、镀膜原料计算单元和镀膜调整单元，所述图像获取单元的输出端与镀膜原料计算单元的输入端电性连接，所述图像获取单元的输出端与镀膜调整单元的输入端电性连接，所述图像获取单元、镀膜原料计算单元和镀膜调整单元均与镀膜机控制终端双向连接；
39.所述镀膜机控制终端用于对光学镜片镀膜机进行数据集中操控处理；
40.所述图像获取单元用于对光学镜片的图像进行获取并进行图像模型建立处理；
41.所述镀膜原料计算单元用于根据镀膜的面积大小对镀膜原料的量进行计算处理；
42.所述镀膜调整单元用于根据不同的镀膜位置对镜片的角度进行对应调节处理。
43.应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。
44.与现有技术相比，本发明的有益效果是：通过对光学镜片进行射频清洁，通过真空状态下的射频电源对光学镜片的表面杂质和灰尘进行分离并进行抽出，从而对光学镜片进行快速清洁，通过对光学镜片进行图像采集，从而对需要镀膜的位置进行精准定位处理，提高了镀膜的稳定性和工作效率，通过在镀膜时对工件盘的蒸镀角度进行调节，根据光学镜片的凹面和凸面对需要镀膜的位置进行蒸镀角度调节，提高了工作的效率。
具体实施方式
45.基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
46.本发明提供一种技术方案：一种基于光学镜片镀膜的镀膜机控制方法，包括以下步骤：
47.s1、将光学镜片在镀膜室内通过工件盘进行位置固定，通过工件盘对光学镜片镀膜时的位置进行稳定处理，提高了镀膜的稳定性；
48.s2、通过真空泵将镀膜室内进行抽真空处理；
49.s3、抽真空后对光学镜片进行射频清洁；
50.s4、对射频清洁后的光学镜片进行图像采集处理；
51.s5、将不需要镀膜的面进行自动遮挡处理，对光学镜片的图像进行模型设置处理，然后对不需要镀膜的位置进行遮挡处理，提高了镀膜的准确性；
52.s6、对光学镜片需要镀膜的面积进行计算处理，对原料进行计算；
53.s7、对镜片进行预镀膜处理；
54.s8、预镀膜后对镀膜室内进行升温至50-70℃，蒸镀防蓝光膜和蒸镀反射膜；
55.s9、依据镀膜面的位置对工件盘进行蒸镀角度进行调节处理，在镀膜室对蒸镀的角度依据镀膜面位置进行调节，提高了蒸镀的稳定性和工作效率，镀膜是在表面镀上非常薄的透明薄膜，当光线进入不同传递物质时，有5％会被反射掉，在光学瞄准镜中有许多透镜和折射镜，整个加起来可以让入射光线损失达30％-40％；
56.s10、检测光学镜片的透光率，检测合格后取出。
57.其中，s3中的射频清洁具体包括以下步骤：
58.s31、对镀膜室内的气压抽至5-10pa，在真空状态下,利用频率为10-18mhz、功率为700-900w的射频电源进行一次射频清洁；
59.s32、将镀膜室内的气压抽至11-20pa，在真空状态下,利用频率为20-30mhz、功率为1000-1400w的射频电源进行二次射频清洁，通过一次射频清洁和二次射频清洁对光学镜片的表面进行清洁处理，提高了清洁的稳定性和工作效率，压缩比是抽空设备的排出压力(绝压)与吸入口压力(绝压)的比值，过高或过低的压缩比会带来蒸汽消耗过大而不经济,因此需要对减顶抽真空系统的各级抽空器的压缩比进行优化,从而降低真空系统的能耗，对抽至的气压进行更改，对射频电源的频率进行更改，提高了对光学镜片镀膜质量的检测稳定性；
60.s33、通过负压管道气体流将产生的挥发性物质抽出。
61.其中，s4中的图像采集处理具体包括以下步骤：
62.s41、对工件盘上的各个光学镜片进行图像拍摄处理；
63.s42、通过拍摄的图像对光学镜片的图像模型进行构建处理，对光学镜片的图像模型进行建立，从而对光学镜片进行更好的识别镀膜处理。
64.其中，s5中的将不需要镀膜的面进行自动遮挡处理具体包括以下步骤：
65.s51、光学镜片的镀膜面进行识别；
66.s52、通过机械臂将遮挡块安装在工件盘上，并对光学镜片不需要镀膜的地方进行覆盖遮挡处理，对无需覆膜的位置进行遮挡，提高了镀膜的准确性和稳定性。
67.其中，s6中的对原料进行计算具体包括以下步骤：
68.s61、得到镀膜面积的数值；
69.s62、通过镀膜面积数值的2-4倍对镀膜原料的重量进行计算，通过镀膜面积的大
小对镀膜原料的重量进行计算处理，保证镀膜的原料足够，提高了镀膜的稳定性。
70.其中，原料为二氧化硅。
71.其中，s7中的预镀膜处理具体包括以下步骤：
72.s71、将二氧化硅均匀铺在镀膜室炉底；
73.s72、对二氧化硅进行加热，加热温度为900-1300℃，对二氧化硅的加热温度控制在900-1300℃，二氧化硅是一种酸性氧化物，常温下为固体，二氧化硅不溶于水，不溶于酸，溶于及热浓磷酸，能和熔融碱类起作用。二氧化硅的沸点为2230℃，将加热的温度控制在900-1300℃，使得二氧化硅表面挥发并附着在光学镜片的镀膜面上，对光学镜片的镀膜稳定性提升；
74.s73、二氧化硅加热后蒸发，蒸发进行附着在光学镜片表面，通过二氧化硅进行加热蒸发，蒸发后将二氧化硅蒸发物附着在光学镜片上进行镀膜处理，提高了镀膜效率。
75.其中，s9中的依据镀膜面的位置对工件盘进行蒸镀角度进行调节处理具体包括以下步骤：
76.s91、识别光学镜片镀膜面凹面和凸面的曲率直径；
77.s92、对镀膜时光学镜片的工件盘的蒸发角度进行调节；
78.s93、凹面和凸面的曲率半径小于4时，蒸发角度调节至为55-65
°
；
79.s94、凹面和凸面的曲率半径大于等于4时，蒸发角度调节至为70-75
°
，通过凹面和凸面的曲率半径大小进行蒸发角度调节处理，依据不同的凸面和曲面对镀膜的角度进行调节，凸面的定义是过面上任意一点做切面，表面总是在切面的下方，凹面的定义是过面上任意一点做切面，表面总是在切面的上方，若过面上任意一点做切面，有的表面在切面的上方，有的表面在切面的下方，则表面既有凸面也有凹面，在依据镀膜面的凹面和凸面对蒸发角度的进行调节，防止在镀膜时镀膜面因为凹凸不平造成各个位置的镀膜不均匀，降低了镀膜的稳定性和效率。
80.一种基于光学镜片镀膜的镀膜机控制系统，包括镀膜机控制终端、图像获取单元、镀膜原料计算单元和镀膜调整单元，所述图像获取单元的输出端与镀膜原料计算单元的输入端电性连接，所述图像获取单元的输出端与镀膜调整单元的输入端电性连接，所述图像获取单元、镀膜原料计算单元和镀膜调整单元均与镀膜机控制终端双向连接；
81.所述镀膜机控制终端用于对光学镜片镀膜机进行数据集中操控处理，对镀膜机的数据进行集中操控，提高了镀膜机的工作效率和稳定性；
82.所述图像获取单元用于对光学镜片的图像进行获取并进行图像模型建立处理；
83.所述镀膜原料计算单元用于根据镀膜的面积大小对镀膜原料的量进行计算处理；
84.所述镀膜调整单元用于根据不同的镀膜位置对镜片的角度进行对应调节处理。
85.实施例1、一种基于光学镜片镀膜的镀膜机控制方法，包括以下步骤：
86.s1、将光学镜片在镀膜室内通过工件盘进行位置固定；
87.s2、通过真空泵将镀膜室内进行抽真空处理；
88.s3、抽真空后对光学镜片的镀膜室内气压抽至5pa，在真空状态下,利用频率为10mhz、功率为700w的射频电源进行一次射频清洁，将镀膜室内的气压抽至11pa，在真空状态下,利用频率为20mhz、功率为1000w的射频电源进行二次射频清洁，通过负压管道气体流将产生的挥发性物质抽出，压缩比是抽空设备的排出压力(绝压)与吸入口压力(绝压)的比
值，过高或过低的压缩比会带来蒸汽消耗过大而不经济,因此需要对减顶抽真空系统的各级抽空器的压缩比进行优化,从而降低真空系统的能耗，对抽至的气压进行更改，对射频电源的频率进行更改，提高了对光学镜片镀膜质量的检测稳定性；
89.s4、对射频清洁后工件盘上的各个光学镜片进行图像拍摄处理，通过拍摄的图像对光学镜片的图像模型进行构建处理；
90.s5、光学镜片的镀膜面进行识别，通过机械臂将遮挡块安装在工件盘上，并对光学镜片不需要镀膜的地方进行覆盖遮挡处理；
91.s6、对光学镜片需要镀膜的面积进行计算处理，得到镀膜面积的数值，通过镀膜面积数值的2倍对镀膜二氧化硅的重量进行计算；
92.s7、将二氧化硅均匀铺在镀膜室炉底，对二氧化硅进行加热，加热温度为900℃，二氧化硅加热后蒸发，蒸发进行附着在光学镜片表面，对二氧化硅的加热温度控制在900℃，二氧化硅是一种酸性氧化物，常温下为固体，二氧化硅不溶于水，不溶于酸，溶于及热浓磷酸，能和熔融碱类起作用。二氧化硅的沸点为2230℃，将加热的温度控制在900℃，使得二氧化硅表面挥发并附着在光学镜片的镀膜面上，对光学镜片的镀膜稳定性提升；
93.s8、预镀膜后对镀膜室内进行升温至50℃，蒸镀防蓝光膜和蒸镀反射膜；
94.s9、识别光学镜片镀膜面凹面和凸面的曲率直径，对镀膜时光学镜片的工件盘的蒸发角度进行调节，凹面和凸面的曲率半径小于4时，蒸发角度调节至为55
°
，凹面和凸面的曲率半径大于等于4时，蒸发角度调节至为70
°
，凸面的定义是过面上任意一点做切面，表面总是在切面的下方，凹面的定义是过面上任意一点做切面，表面总是在切面的上方，若过面上任意一点做切面，有的表面在切面的上方，有的表面在切面的下方，则表面既有凸面也有凹面，在依据镀膜面的凹面和凸面对蒸发角度的进行调节，防止在镀膜时镀膜面因为凹凸不平造成各个位置的镀膜不均匀，降低了镀膜的稳定性和效率，镀膜是在表面镀上非常薄的透明薄膜，当光线进入不同传递物质时，有5％会被反射掉，在光学瞄准镜中有许多透镜和折射镜，整个加起来可以让入射光线损失达30％-40％；
95.s10、检测光学镜片的透光率，检测合格后取出。
96.实施例2、一种基于光学镜片镀膜的镀膜机控制方法，包括以下步骤：
97.s1、将光学镜片在镀膜室内通过工件盘进行位置固定；
98.s2、通过真空泵将镀膜室内进行抽真空处理；
99.s3、抽真空后对光学镜片的镀膜室内气压抽至10pa，在真空状态下,利用频率为18mhz、功率为900w的射频电源进行一次射频清洁，将镀膜室内的气压抽至20pa，在真空状态下,利用频率为30mhz、功率为1400w的射频电源进行二次射频清洁，通过负压管道气体流将产生的挥发性物质抽出，压缩比是抽空设备的排出压力(绝压)与吸入口压力(绝压)的比值，过高或过低的压缩比会带来蒸汽消耗过大而不经济,因此需要对减顶抽真空系统的各级抽空器的压缩比进行优化,从而降低真空系统的能耗，对抽至的气压进行更改，对射频电源的频率进行更改，提高了对光学镜片镀膜质量的检测稳定性；
100.s4、对射频清洁后工件盘上的各个光学镜片进行图像拍摄处理，通过拍摄的图像对光学镜片的图像模型进行构建处理；
101.s5、光学镜片的镀膜面进行识别，通过机械臂将遮挡块安装在工件盘上，并对光学镜片不需要镀膜的地方进行覆盖遮挡处理；
102.s6、对光学镜片需要镀膜的面积进行计算处理，得到镀膜面积的数值，通过镀膜面积数值的4倍对镀膜二氧化硅的重量进行计算；
103.s7、将二氧化硅均匀铺在镀膜室炉底，对二氧化硅进行加热，加热温度为1300℃，二氧化硅加热后蒸发，蒸发进行附着在光学镜片表面，对二氧化硅的加热温度控制在1300℃，二氧化硅是一种酸性氧化物，常温下为固体，二氧化硅不溶于水，不溶于酸，溶于及热浓磷酸，能和熔融碱类起作用。二氧化硅的沸点为2230℃，将加热的温度控制在1300℃，使得二氧化硅表面挥发并附着在光学镜片的镀膜面上，对光学镜片的镀膜稳定性提升；
104.s8、预镀膜后对镀膜室内进行升温至70℃，蒸镀防蓝光膜和蒸镀反射膜；
105.s9、识别光学镜片镀膜面凹面和凸面的曲率直径，对镀膜时光学镜片的工件盘的蒸发角度进行调节，凹面和凸面的曲率半径小于4时，蒸发角度调节至为65
°
，凹面和凸面的曲率半径大于等于4时，蒸发角度调节至为75
°
，凸面的定义是过面上任意一点做切面，表面总是在切面的下方，凹面的定义是过面上任意一点做切面，表面总是在切面的上方，若过面上任意一点做切面，有的表面在切面的上方，有的表面在切面的下方，则表面既有凸面也有凹面，在依据镀膜面的凹面和凸面对蒸发角度的进行调节，防止在镀膜时镀膜面因为凹凸不平造成各个位置的镀膜不均匀，降低了镀膜的稳定性和效率；
106.s10、检测光学镜片的透光率，检测合格后取出。
107.尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
108.本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的公开后，将容易想到本公开的其它实施方案。本技术旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本公开的真正范围由下面的权利要求指出。

技术特征：

1.一种基于光学镜片镀膜的镀膜机控制方法，其特征在于，包括以下步骤：s1、将光学镜片在镀膜室内通过工件盘进行位置固定；s2、通过真空泵将镀膜室内进行抽真空处理；s3、抽真空后对光学镜片进行射频清洁；s4、对射频清洁后的光学镜片进行图像采集处理；s5、将不需要镀膜的面进行自动遮挡处理；s6、对光学镜片需要镀膜的面积进行计算处理，对原料进行计算；s7、对镜片进行预镀膜处理；s8、预镀膜后对镀膜室内进行升温至50-70℃，蒸镀防蓝光膜和蒸镀反射膜；s9、依据镀膜面的位置对工件盘进行蒸镀角度进行调节处理；s10、检测光学镜片的透光率，检测合格后取出。2.根据权利要求1所述的一种基于光学镜片镀膜的镀膜机控制方法，其特征在于，所述s3中的射频清洁具体包括以下步骤：s31、对镀膜室内的气压抽至5-10pa，在真空状态下，利用频率为10-18mhz、功率为700-900w的射频电源进行一次射频清洁；s32、将镀膜室内的气压抽至11-20pa，在真空状态下，利用频率为20-30mhz、功率为1000-1400w的射频电源进行二次射频清洁；s33、通过负压管道气体流将产生的挥发性物质抽出。3.根据权利要求2所述的一种基于光学镜片镀膜的镀膜机控制方法，其特征在于，所述s4中的图像采集处理具体包括以下步骤：s41、对工件盘上的各个光学镜片进行图像拍摄处理；s42、通过拍摄的图像对光学镜片的图像模型进行构建处理。4.根据权利要求3所述的一种基于光学镜片镀膜的镀膜机控制方法，其特征在于，所述s5中的将不需要镀膜的面进行自动遮挡处理具体包括以下步骤：s51、光学镜片的镀膜面进行识别；s52、通过机械臂将遮挡块安装在工件盘上，并对光学镜片不需要镀膜的地方进行覆盖遮挡处理。5.根据权利要求4所述的一种基于光学镜片镀膜的镀膜机控制方法，其特征在于，所述s6中的对原料进行计算具体包括以下步骤：s61、得到镀膜面积的数值；s62、通过镀膜面积数值的2-4倍对镀膜原料的重量进行计算。6.根据权利要求5所述的一种基于光学镜片镀膜的镀膜机控制方法，其特征在于，所述原料为二氧化硅。7.根据权利要求6所述的一种基于光学镜片镀膜的镀膜机控制方法，其特征在于，所述s7中的预镀膜处理具体包括以下步骤：s71、将二氧化硅均匀铺在镀膜室炉底；s72、对二氧化硅进行加热，加热温度为900-1300℃；s73、二氧化硅加热后蒸发，蒸发进行附着在光学镜片表面。8.根据权利要求7所述的一种基于光学镜片镀膜的镀膜机控制方法，其特征在于，所述
s9中的依据镀膜面的位置对工件盘进行蒸镀角度进行调节处理具体包括以下步骤：s91、识别光学镜片镀膜面凹面和凸面的曲率直径；s92、对镀膜时光学镜片的工件盘的蒸发角度进行调节；s93、凹面和凸面的曲率半径小于4时，蒸发角度调节至为55-65
°
；s94、凹面和凸面的曲率半径大于等于4时，蒸发角度调节至为70-75
°
。9.根据权利要求1-8任意一项所述的一种基于光学镜片镀膜的镀膜机控制系统，其特征在于，包括镀膜机控制终端、图像获取单元、镀膜原料计算单元和镀膜调整单元，所述图像获取单元的输出端与镀膜原料计算单元的输入端电性连接，所述图像获取单元的输出端与镀膜调整单元的输入端电性连接，所述图像获取单元、镀膜原料计算单元和镀膜调整单元均与镀膜机控制终端双向连接；所述镀膜机控制终端用于对光学镜片镀膜机进行数据集中操控处理；所述图像获取单元用于对光学镜片的图像进行获取并进行图像模型建立处理；所述镀膜原料计算单元用于根据镀膜的面积大小对镀膜原料的量进行计算处理；所述镀膜调整单元用于根据不同的镀膜位置对镜片的角度进行对应调节处理。

技术总结

本发明公开了一种基于光学镜片镀膜的镀膜机控制方法及系统，包括以下步骤：S1、将光学镜片在镀膜室内通过工件盘进行位置固定；S2、通过真空泵将镀膜室内进行抽真空处理；S3、抽真空后对光学镜片进行射频清洁，本发明的有益效果是：通过对光学镜片进行射频清洁，通过真空状态下的射频电源对光学镜片的表面杂质和灰尘进行分离并进行抽出，从而对光学镜片进行快速清洁，通过对光学镜片进行图像采集，从而对需要镀膜的位置进行精准定位处理，提高了镀膜的稳定性和工作效率，通过在镀膜时对工件盘的蒸镀角度进行调节，根据光学镜片的凹面和凸面对需要镀膜的位置进行蒸镀角度调节，提高了工作的效率。工作的效率。