基于电化学约束刻蚀的阵列电极及其加工方法[发明专利]

专利名称：基于电化学约束刻蚀的阵列电极及其加工方法专利类型：发明专利

发明人：胡振江，闫永达，詹东平，曹永智，赵学森，韩联欢

申请号：CN201710524891.4

申请日：20170630

公开号：CN107385504A

公开日：

20171124

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：基于电化学约束刻蚀的阵列电极及其加工方法。本发明涉及一种基于电化学约束刻蚀的阵列电极及其加工方法。所述的主控制系统将控制信号发送给电化学工作站、阵列电极控制与运动控制系统，所述的电化学工作站、阵列电极控制与运动控制系统再将信号反馈给主控制系统。本发明用于基于电化学约束刻蚀的阵列电极。

申请人：哈尔滨工业大学，厦门大学

地址：150000 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号

国籍：CN

代理机构：哈尔滨龙科专利代理有限公司

代理人：高媛

本文发布于:2024-09-21 19:54:55，感谢您对本站的认可！

留言与评论（共有 0 条评论）