一种绝缘窗、反应腔及电感耦合等离子体处理装置

(19)中华人民共和国国家知识产权局

	(12)发明专利说明书
		(10)申请公布号 CN 114520138 A (43)申请公布日 2022.05.20

(21)申请号 CN202011297698.X

(22)申请日 2020.11.18

(71)申请人中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司

地址 100029 北京市朝阳区北土城西路3号

(72)发明人李相龙周娜李俊杰李琳王佳

(74)专利代理机构北京知迪知识产权代理有限公司

代理人王胜利

(51)Int.CI

H01J37/32

H01L21/67

权利要求说明书说明书幅图

(54)发明名称

一种绝缘窗、反应腔及电感耦合等离子体处理装置

(57)摘要

本发明公开一种绝缘窗、反应腔及电感耦合等离子体处理装置，涉及半导体技术领域，以解决由于陶瓷窗表面温度不均匀，生成聚合物颗粒，影响刻蚀工艺的良率和性能的问题。所述绝缘窗包括：绝缘窗本体、加热组件和温度控制组件。绝缘窗本体具有腔体结构。加热组件均匀的设置在腔体结构中，用于对绝缘窗本体进行加热。温度控制组件与加热组件相连接，用于调节加热组件的加热温度。所述反应腔包括上述技术方案所提的绝缘窗。所述电感耦合等离子体处理装置包括上述技术方案所提的绝缘窗。本发明提供的电感耦合等离子体处理装置用于处理晶圆。

法律状态

法律状态公告日	法律状态信息	法律状态
2022-05-20	公开	发明专利申请公布
2022-06-07	实质审查的生效IPC(主分类):H01J37/32专利申请号:202011297698X申请日:20201118	实质审查的生效