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一种纳米星链状纳米结构阵列的制备方法及应用[发明专利]

专利名称：一种纳米星链状纳米结构阵列的制备方法及应用专利类型：发明专利

发明人：朱圣清，向萌，张洪硕，周鹏

申请号：CN202011552400.5

申请日：20201224

公开号：CN112775434A

公开日：

20210511

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本发明涉及一种纳米星链状纳米结构阵列的制备方法及应用，包括如下步骤：(1)在衬底材料的表面采用湿法刻蚀获得具有微纳结构阵列图案的光刻胶层，所述微纳结构阵列图案由多条二维条状镂空单元结构构成；(2)在具有所述光刻胶层的衬底材料的表面多次滴涂纳米星颗粒溶胶并自然干燥，金纳米兴颗粒即沉积在所述镂空单元结构内，去除光刻胶后最终在所述衬底材料表面获得多条纳米星链状纳米结构阵列。本发明能够将现有技术中离散的纳米材料构造成具有纳米尺度的纳米链，不仅使纳米颗粒间距达到纳米尺度，纳米链之间间距也具有纳米尺度，能够应用于表面增强拉曼散射基底，提高局域场增强效应，本发明金纳米星链状纳米结构阵列具有更好的光电效应。

申请人：江苏理工学院

地址：213001 江苏省常州市中吴大道1801号

国籍：CN

代理机构：常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙)

代理人：王巍巍

本文发布于:2024-09-22 06:46:58，感谢您对本站的认可！

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