一种高压射流与空化射流组合的清洁系统



1.本发明涉及一种清洁系统,具体涉及一种高压射流与空化射流组合的清洁系统。


背景技术:



2.高压水射流清洁技术和空化射流清洗技术不但具有高效、节能、环保、安全等优点,而且具有不伤害设施母材,较少或者完全不伤害防腐层等优势。其中高压水射流与待清洁面的距离不同可用于清洗、除锈、大面积地冲刷等。空化射流利用空化泡在材料表面的狭小区域内溃灭产生的微射流冲击,达到消灭微生物、清理设施表面附着物和污垢层的目的。
3.现有的射流清洁系统较为单一,未能将两者优势充分结合进行使用。同时射流距离、射流角度等对清洁效果影响很大,现有的射流清洁系统或装置对上述参数的调整和控制较为困难。


技术实现要素:



4.本发明针对现有技术中的不足,提供一种高压射流与空化射流组合的清洁系统,以解决上述问题。
5.为实现上述目的,本发明采用以下技术方案:一种高压射流与空化射流组合的清洁系统,其特征在于:包括清洁装置,所述清洁装置包括两个调节装置、数个空化射流喷头、数个高压射流喷头及支撑杆,每个所述调节装置包括第一径向导轨、第二径向导轨、周向导轨,所述支撑杆包括第一支撑杆及第二支撑杆;所述空化射流喷头安装在第一支撑杆上,所述高压射流喷头安装在第二支撑杆上;所述第一径向导轨及第二径向导轨分别滑动设置在所述周向导轨上,所述第一支撑杆的左右两端分别滑动设置在一个第一径向导轨上,所述第二支撑杆的左右两端分别滑动设置在一个第二径向导轨上。
6.为优化上述技术方案,采取的具体措施还包括:进一步地,还包括往复运动装置,所述往复运动装置用于将支撑杆与调节装置相连接;所述往复运动装置包括滑块、步进电机、齿轮及齿条;所述滑块用于将支撑杆与调节装置滑动连接,滑块开设有供支撑杆滑入的支撑杆滑槽;所述滑块包括第一滑块及第二滑块,第一滑块上安装有步进电机,所述步进电机的输出轴上安装有齿轮,所述支撑杆的一端安装有用于与齿轮啮合连接的齿条,所述齿条延支撑杆径向安装,支撑杆安装有齿条的一端滑动设置在第一滑块的支撑杆滑槽中,支撑杆的另一端滑动设置在第二滑块的支撑杆滑槽中。
7.进一步地,所述滑块用于与调节装置的滑动连接的连接槽为开口的连接槽,所述开口可穿过所述第一径向导轨及第二径向导轨分别与周向导轨滑动连接的连接处。
8.进一步地,还包括锁紧装置,所述第一径向导轨及第二径向导轨分别与周向导轨的滑动连接处均安装有锁紧装置,所述支撑杆与调节装置的滑动连接处均安装有锁紧装置;所述锁紧装置用于在滑动调节后进行限位固定。
9.进一步地,所述周向导轨的起始角度θ1取值大于30
˚
,周向导轨的终止角度θ2取值大于30
˚

10.进一步地,所述第一径向导轨的第一调整角度α取值范围为10
˚
~60
˚
,所述第二径向导轨的第二调整角度β取值范围为30
˚
~90
˚

11.进一步地,所述空化射流喷头的射流末端的中心点o1与高压射流喷头的射流末端的中心点o2之间的射流距离δ1取值范围为0.5d~20d,其中d为空化射流喷头和高压射流喷头的喷嘴内径特征尺寸中的较小值,d为较大值。
12.进一步地,还包括支撑座,所述支撑座分别安装在所述清洁装置的左右两侧,用于支撑清洁装置进行使用。
13.进一步地,所述支撑座的下端安装有滑轮。
14.进一步地,所述滑轮设有限位机构。
15.本发明的有益效果是:本发明通过高压射流与空化射流两种射流形式的结合设置,使得清洁装置的清洁能力得到提高;通过调节装置的设置,可根据不同的清洁需求,调节射流与实际清洁面的距离、角度,使得使用范围得到扩展;本系统中的清洁装置、调节装置及支撑座均可与相应的伺服系统结合,实现全自动化射流姿态调整与清洁作业,实现对待清洁物体的全自动清洁。
附图说明
16.图1为本发明的装置结构正视图;图2为本发明的装置结构侧视图;图3为本发明的往复运动装置的结构示意图。
17.附图标记:第一径向导轨1、第二径向导轨2、周向导轨3、空化射流喷头4、高压射流喷头5、第一支撑杆6、第二支撑杆7、实际清洁面8、支撑座9、第一滑块10、支撑杆滑槽11、步进电机12、齿轮13、齿条14、支撑杆15、起始角度θ1、终止角度θ2、第一调整角度α、第二调整角度β、射流距离δ1、误差间距δ2。
具体实施方式
18.现在结合附图对本发明作进一步详细的说明。
19.需要注意的是,发明中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”等的用语,亦仅为便于叙述的明了,而非用以限定本发明可实施的范围,其相对关系的改变或调整,在无实质变更技术内容下,当亦视为本发明可实施的范畴。
20.如附图所示,本发明实施例的一种高压射流与空化射流组合的清洁系统,其特征在于:包括清洁装置,所述清洁装置包括两个调节装置、数个空化射流喷头4、数个高压射流喷头5及支撑杆15,每个所述调节装置包括第一径向导轨1、第二径向导轨2、周向导轨3,所述支撑杆15包括第一支撑杆6及第二支撑杆7;所述空化射流喷头4安装在第一支撑杆6上,所述高压射流喷头5安装在第二支撑杆7上;所述第一径向导轨1及第二径向导轨2分别滑动设置在所述周向导轨3上,所述第一支撑杆6的左右两端分别滑动设置在一个第一径向导轨1上,所述第二支撑杆7的左右两端分别滑动设置在一个第二径向导轨2上。以此通过第一支撑杆6及第二支撑杆7将空化射流喷头4及高压射流喷头5进行结合设置,并将空化射流喷头
4及高压射流喷头5与左右两侧的调节装置进行连接;使得空化射流喷头4及高压射流喷头5分别可沿第一径向导轨1或第二径向导轨2的径向移动,第一径向导轨1或第二径向导轨2可沿周向导轨3周向移动,从而实现分别对空化射流喷头4及高压射流喷头5的喷射角度及距离的调节。
21.在本实施例中,还包括往复运动装置,所述往复运动装置用于将支撑杆15与调节装置相连接;所述往复运动装置包括滑块、步进电机12、齿轮13及齿条14;所述滑块用于将支撑杆15与调节装置滑动连接,滑块开设有供支撑杆15滑入的支撑杆滑槽11;所述滑块包括第一滑块10及第二滑块,第一滑块10上安装有步进电机12,所述步进电机12的输出轴上安装有齿轮13,所述支撑杆15的一端安装有用于与齿轮13啮合连接的齿条14,所述齿条14延支撑杆15径向安装,支撑杆15安装有齿条14的一端滑动设置在第一滑块10的支撑杆滑槽11中,支撑杆15的另一端滑动设置在第二滑块的支撑杆滑槽11中。以此通过齿轮13与齿条14的啮合连接,并通过步进电机12的驱动,实现驱动支撑杆15在支撑杆滑槽11中进行一定范围的移动,且不会滑出支撑杆滑槽11。可通过调节设置支撑杆滑槽11的槽深、齿条14长度,实现移动距离的调节设置,并通过步进电机12实现控制。其中,往复运动装置的位移距离应略大于空化射流喷头4或高压射流喷头5之间的安装间距,以此保证清洁的全覆盖。
22.其中,所述滑块用于与调节装置的滑动连接的连接槽为开口的连接槽,所述开口可穿过所述第一径向导轨1及第二径向导轨2分别与周向导轨3滑动连接的连接处。以此避免第一径向导轨1及第二径向导轨2分别与周向导轨3的滑动连接处,阻挡滑块延第一径向导轨1或第二径向导轨2径向滑动,保证更大的调节范围。
23.在本实施例中,还包括锁紧装置,所述第一径向导轨1及第二径向导轨2分别与周向导轨3的滑动连接处均安装有锁紧装置,所述支撑杆15与调节装置的滑动连接处均安装有锁紧装置;所述锁紧装置用于在滑动调节后进行限位固定。其中,在本实施例中,锁紧装置可采用在滑块上安装螺母,在调节后通过螺钉与螺母螺纹连接后,通过螺钉抵触进行固定。以此增加调节后的固定手段,更加便于使用。
24.其中,所述周向导轨3的起始角度θ1取值大于30
˚
,周向导轨3的终止角度θ2取值大于30
˚
;以此保证清洁装置与实际清洁面8的运动不相干涉。所述第一径向导轨1的第一调整角度α取值范围为10
˚
~60
˚
,所述第二径向导轨2的第二调整角度β取值范围为30
˚
~90
˚
;以此在实际使用时,可根据不同清洁需求,保证两种射流的组合使用效果。
25.其中,o0点是周向导轨3的圆心位置,所述空化射流喷头4的射流末端的中心点o1与高压射流喷头5的射流末端的中心点o2之间的射流距离δ1取值范围为0.5d~20d,其中d为空化射流喷头4和高压射流喷头5的喷嘴内径特征尺寸中的较小值,d为较大值;以此在实际使用时,能够保证空化射流喷头4和高压射流喷头5的射流的组合清洁效果。其中,在实际使用中,存在清洁物的误差间距δ2,可通过调整的第一调整角度α、第二调整角度β,来保证δ1值满足要求。
26.在本实施例中,还包括支撑座9,所述支撑座9分别安装在所述清洁装置的左右两侧,用于支撑清洁装置进行使用。
27.其中,所述支撑座9的下端安装有滑轮,以此通过滑轮便于支撑座9支撑清洁装置进行移动使用。所述滑轮设有限位机构,以此便于使用时按需在固定位置进行限位停留。
28.本发明装置在使用时,将空化射流喷头4通过管路接通压力供水系统,获得压力为
5mpa~20mpa,水流量20~60l/min的较低压力水,根据实际情况及空化射流喷头的类型不同,也可接高压低压两路;将高压射流喷头5通过管路接通压力供水系统,获得压力为70mpa~120mpa,水流量30~120l/min的较高压力水。
29.根据实际清洁需求、水压大小情况及流量等参数,按需将第一支撑杆6或第二支撑杆7沿第一径向导轨1或第二径向导轨2的径向移动,分别调节空化射流喷头4或高压射流喷头5的喷射距离,并通过锁紧装置固定;同时,将第一径向导轨1或第二径向导轨2沿周向导轨3周向移动,分别调节空化射流喷头4或高压射流喷头5的喷射角度,并通过锁紧装置固定。以此通过高压射流喷头5的高压射流浸润表面、冲刷、除锈等,通过空化射流喷头4的空化射流在刚冲刷过的浸润表面清理附着物、杀灭微生物,从而达到更好的清洁效果。
30.待空化射流喷头4或高压射流喷头5的位置调整固定后,在清洁使用时,可通过往复运动装置控制支撑杆15延支撑杆滑槽11进行往复运动;从而实现左右往复清洁,保证待清洁面支撑杆15方向上的覆盖,保证清洁效果。在使用时,也可通过移动支撑座9,带动整个清洁装置按需移动进行清洁。
31.以上仅是本发明的优选实施方式,本发明的保护范围并不仅局限于上述实施例,凡属于本发明思路下的技术方案均属于本发明的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理前提下的若干改进和润饰,应视为本发明的保护范围。

技术特征:


1.一种高压射流与空化射流组合的清洁系统,其特征在于:包括清洁装置,所述清洁装置包括两个调节装置、数个空化射流喷头(4)、数个高压射流喷头(5)及支撑杆(15),每个所述调节装置包括第一径向导轨(1)、第二径向导轨(2)、周向导轨(3),所述支撑杆(15)包括第一支撑杆(6)及第二支撑杆(7);所述空化射流喷头(4)安装在第一支撑杆(6)上,所述高压射流喷头(5)安装在第二支撑杆(7)上;所述第一径向导轨(1)及第二径向导轨(2)分别滑动设置在所述周向导轨(3)上,所述第一支撑杆(6)的左右两端分别滑动设置在一个第一径向导轨(1)上,所述第二支撑杆(7)的左右两端分别滑动设置在一个第二径向导轨(2)上。2.根据权利要求1所述的一种高压射流与空化射流组合的清洁系统,其特征在于:还包括往复运动装置,所述往复运动装置用于将支撑杆(15)与调节装置相连接;所述往复运动装置包括滑块、步进电机(12)、齿轮(13)及齿条(14);所述滑块用于将支撑杆(15)与调节装置滑动连接,滑块开设有供支撑杆(15)滑入的支撑杆滑槽(11);所述滑块包括第一滑块(10)及第二滑块,第一滑块(10)上安装有步进电机(12),所述步进电机(12)的输出轴上安装有齿轮(13),所述支撑杆(15)的一端安装有用于与齿轮(13)啮合连接的齿条(14),所述齿条(14)延支撑杆(15)径向安装,支撑杆(15)安装有齿条(14)的一端滑动设置在第一滑块(10)的支撑杆滑槽(11)中,支撑杆(15)的另一端滑动设置在第二滑块的支撑杆滑槽(11)中。3.根据权利要求2所述的一种高压射流与空化射流组合的清洁系统,其特征在于:所述滑块用于与调节装置的滑动连接的连接槽为开口的连接槽,所述开口可穿过所述第一径向导轨(1)及第二径向导轨(2)分别与周向导轨(3)滑动连接的连接处。4.根据权利要求3所述的一种高压射流与空化射流组合的清洁系统,其特征在于:还包括锁紧装置,所述第一径向导轨(1)及第二径向导轨(2)分别与周向导轨(3)的滑动连接处均安装有锁紧装置,所述支撑杆(15)与调节装置的滑动连接处均安装有锁紧装置;所述锁紧装置用于在滑动调节后进行限位固定。5.根据权利要求1或4所述的一种高压射流与空化射流组合的清洁系统,其特征在于:所述周向导轨(3)的起始角度θ1取值大于30
˚
,周向导轨(3)的终止角度θ2取值大于30
˚
。6.根据权利要求5所述的一种高压射流与空化射流组合的清洁系统,其特征在于:所述第一径向导轨(1)的第一调整角度α取值范围为10
˚
~60
˚
,所述第二径向导轨(2)的第二调整角度β取值范围为30
˚
~90
˚
。7.根据权利要求6所述的一种高压射流与空化射流组合的清洁系统,其特征在于:所述空化射流喷头(4)的射流末端的中心点o1与高压射流喷头(5)的射流末端的中心点o2之间的射流距离δ1取值范围为0.5d~20d,其中d为空化射流喷头(4)和高压射流喷头(5)的喷嘴内径特征尺寸中的较小值,d为较大值。8.根据权利要求7所述的一种高压射流与空化射流组合的清洁系统,其特征在于:还包括支撑座(9),所述支撑座(9)分别安装在所述清洁装置的左右两侧,用于支撑清洁装置进行使用。9.根据权利要求8所述的一种高压射流与空化射流组合的清洁系统,其特征在于:所述支撑座(9)的下端安装有滑轮。10.根据权利要求9所述的一种高压射流与空化射流组合的清洁系统,其特征在于:所述滑轮设有限位机构。

技术总结


本发明公开了一种高压射流与空化射流组合的清洁系统,其特征在于:包括清洁装置,清洁装置包括调节装置、空化射流喷头、高压射流喷头及支撑杆,所述调节装置包括第一径向导轨、第二径向导轨、周向导轨,支撑杆包括第一支撑杆及第二支撑杆;空化射流喷头安装在第一支撑杆上,高压射流喷头安装在第二支撑杆上;第一径向导轨及第二径向导轨分别滑动设置在周向导轨上,第一支撑杆的左右两端分别滑动设置在一个第一径向导轨上,第二支撑杆的左右两端分别滑动设置在一个第二径向导轨上。本发明提高了清洁装置的清洁能力;可调节射流的距离、角度;可与相应的伺服系统结合,实现全自动化射流姿态调整与清洁作业,实现对待清洁物体的全自动清洁。自动清洁。自动清洁。


技术研发人员:

陈勇 黄家才 丁文政 卞荣 李耀 杨佳兆

受保护的技术使用者:

南京工程学院

技术研发日:

2022.09.28

技术公布日:

2022/12/9

本文发布于:2024-09-24 16:36:59,感谢您对本站的认可!

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