用于化学气相沉积工艺的机台[发明专利]

专利名称：用于化学气相沉积工艺的机台专利类型：发明专利

发明人：范纲维，吕家榛，赖立书，林世明申请号：CN200910211405.9

申请日：20091106

公开号：CN101696493A

公开日：

20100421

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：一种用于化学气相沉积工艺的机台，其包含边框、导块、第一固定件和第二固定件。导块突出于边框的一边上，且向边框的中心方向延伸。第一固定件朝向边框的一侧开设凹口，第一固定件由陶瓷构成。第二固定件朝向第一固定件的一侧以可拆卸的方式嵌合于凹口，朝向导块的一侧包含沟槽，导块以可拆卸的方式嵌合于沟槽，第二固定件由铝合金并镀上陶瓷阳极膜构成。本发明提供的用于化学气相沉积工艺的机台，使用不易崩裂且可于化学气相沉积工艺机台上替换固定沟槽的陶瓷。

申请人：友达光电股份有限公司

地址：新竹市

国籍：CN

代理机构：北京三友知识产权代理有限公司

代理人：杨俊波

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