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一种总α和总β放射性测量样品制备装置及方法[发明专利]

专利名称：一种总α和总β放射性测量样品制备装置及方法专利类型：发明专利

发明人：欧频，俞添虹，黄丽芳，李昱丞，郑雪婷

申请号：CN202010714123.7

申请日：20200722

公开号：CN111624077A

公开日：

20200904

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本发明涉及一种总α和总β放射性测量样品制备装置及方法，装置包括磨样器和铺样器。其中：磨样器，用于能够将待测固体样品磨碎成符合铺样器制样目数要求的待测灰样，铺样器，用于将待测灰样制备成厚度相对均匀的待测样品源，铺样器包括样品盘和刮片，刮片与样品盘之间的高度限定出待测样品源的制成厚度，从而在刮片和样品盘彼此相对转动的情况下，刮片能够将待测灰样制成厚度相对均匀的待测样品源。

申请人：欧频

地址：516008 广东省惠州市惠城区金榜路29号金榜山2栋2单元903号

国籍：CN

代理机构：北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司

代理人：何志欣

本文发布于:2024-09-21 01:30:12，感谢您对本站的认可！

本文链接：https://www.17tex.com/tex/4/435454.html

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