(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201911317376.4
(22)申请日 2019.12.19
(71)申请人 广东宏陶陶瓷有限公司
地址 511500 广东省佛山市南海区狮山镇
官窑大榄工业区
申请人 广东宏海陶瓷实业发展有限公司
广东宏宇新型材料有限公司
广东宏威陶瓷实业有限公司
(72)发明人 梁桐灿 余国明 李少平 万世聪
(74)专利代理机构 北京中北知识产权代理有限
公司 11253
代理人 段秋玲
(51)Int.Cl.
C04B 35/18(2006.01)
C04B 41/81(2006.01)
C09D 201/00(2006.01)C09D 7/61(2018.01)C09D 7/65(2018.01)
(54)发明名称自释釉诱发剂、自释釉陶瓷砖及其制备方法(57)摘要本发明的自释釉诱发剂、自释釉陶瓷砖及其制备方法，在不对现有陶瓷砖的生产工艺做出重大改变的基础上，重点对坯体配方组成、自释釉诱发剂的配方组成及喷剂量等进行调整与优化，从而使制备的产品表面光滑细腻、呈轻微凹凸状，用WGG60-E4光泽度计测量表面光泽度为4～8，用30倍放大镜观察产品断面均匀一致，无坯釉分界层，产品平整度好、强度高、耐污性强、表面装饰的图案纹理清晰自然、彩鲜艳、仿石逼真，无针孔、气泡等缺陷。由于该产品不用施釉，且高温煅烧后表面完全达到了有釉陶瓷砖的使用性能和装饰性能，从而减少了传统有釉陶瓷砖釉料的加工环节，节约了资源；同时该技术具备较强的普适性， 易于在行业内推广。权利要求书2页 说明书6页 附图1页CN 110963791 A 2020.04.07
C N 110963791
A
1.一种自释釉陶瓷砖的制备方法，其特征在于：
其包括以下步骤：
A、坯体的制备：
坯体的组分的重量百分比为：
SiO2 66.5％～69.5％，Al2O3 15％～18％，CaO 1％～4％，Fe2O3+TiO2 1％～2％,MgO 1％～3％，K2O 2％～4％，Na2O 1％～3％,Li2O 0.2％～0.6％，灼烧减量3％～5％；所有的组分之和为100％；
将含上述组分的粘土、陶瓷废渣、透辉石、滑石、玻璃粉、锂辉石以及外加重量百分比为1％～3％的辅助原料，再加入适量的水经球磨细碎成细度为250目筛的筛余为质量百分比为1％～3％，含质量百分比为33％～36％水分的浆料，经除铁过筛喷雾干燥制成含质量百分比为5.5％～7.5％水分的粉料，用自动液压机压制成型，干燥窑干燥，即得坯体；
其中所述的陶瓷废渣包括陶瓷抛光砖、仿古砖和釉面砖生产过程中各工序产生的废水经处理后压榨的污泥渣；
其中所述的玻璃粉为各种废玻璃经破碎而成的粉；
其中所述的外加辅助原料包括水玻璃、五水偏硅酸钠和三聚磷酸钠；
B、自释釉诱发剂的制备：
自释釉诱发剂的重量份组分为：
水60～100份，陶瓷胶辊印油50～90份，促进剂25～35份，氧化锌1～3份，水玻璃10～30份，添加剂2～4份；
按上述自释釉诱发剂的重量份组分称取相应的水、陶瓷胶辊印油、促进剂、氧化锌、水玻璃、添加剂一起入研磨机中研磨均匀，过筛即得自释釉诱发剂；
其中所述的促进剂为硼酸、硼砂、碳酸钾、硝酸钾、碳酸钠、硝酸钠中的一种或几种混合；
其中所述的添加剂包括三聚磷酸钠和羧甲基纤维素；
C、产品的制备及烧成：
将步骤A制备得到的坯体，先喷适量的水，然后再喷施步骤B得到的自释釉诱发剂，自释釉诱发剂的喷剂量为380～560g/m2，再根据产品设计需要用丝网版或胶印辊或喷墨印花机进行印花装饰，然后经过施底浆，再进入辊道窑烧成，最高烧成温度范围为1125℃～1150℃，烧成时间范围为60～90分钟，经过磨边、分级工序，最后制得成品。
2.根据权利要求1所述的自释釉陶瓷砖的制备方法，其特征在于：
根据所述的自释釉陶瓷砖的制备方法制备得到的自释釉陶瓷砖成品陶瓷砖表面光滑细腻，呈微凹凸状，用WGG60-E4光泽度计测量产品表面的光泽度为4～8，但在斜光或射灯照射下，发出强烈的金属光泽，用30倍放大镜观察产品断面，整个断面均匀一致，无坯釉分界层。
3.一种自释釉陶瓷砖，其特征在于：
其根据权利要求1或2所述的自释釉陶瓷砖的制备方法制备得到。
4.一种自释釉诱发剂的制备方法，其特征在于：
其包括以下制备步骤：
a.自释釉诱发剂的重量份组分为：
水60～100份，陶瓷胶辊印油50～90份，促进剂25～35份，氧化锌1～3份，水玻璃10～30份，添加剂2～4份；
其中的促进剂为硼酸、硼砂、碳酸钾、硝酸钾、碳酸钠、硝酸钠中的一种或几种混合；
其中的添加剂包括三聚磷酸钠和羧甲基纤维素；
b.按上述自释釉诱发剂的重量份组分称取相应的水、胶辊印油、促进剂、氧化锌、水玻璃、添加剂一起入研磨机中研磨均匀，过筛即得自释釉诱发剂。
5.根据权利要求4所述的自释釉诱发剂的制备方法，其特征在于：
所述的自释釉诱发剂在自释釉陶瓷砖中的喷剂量为380～560g/m2。
6.一种自释釉诱发剂，其特征在于：
其根据权利要求4或5所述的自释釉诱发剂的制备方法制备得到。
自释釉诱发剂、自释釉陶瓷砖及其制备方法
技术领域：
[0001]本发明涉及釉面砖的制备技术领域，尤其是指一种自释釉诱发剂、自释釉陶瓷砖及其制备方法。
背景技术：
[0002]传统的有釉陶瓷砖的制备均是在陶瓷坯体上再施一层釉料，经高温煅烧而成，而这层釉料是根据坯体性能要求，利用天然矿物原料及某些化工原料按比例配合，在高温作用下熔融而覆盖在坯体表面的富有光泽的玻璃质层。这层釉可以改善坯体的表面性能，提高陶瓷砖产品的使用性能，增加产品的美感，但由于传统有釉陶瓷砖的釉是一层玻璃质层，其表面硬度、耐磨度不够高，不能经久耐用。且陶瓷砖坯体与这层釉存在热膨胀差异，因此会存在后期变形，甚至釉面龟裂、脱落等缺陷。
发明内容：
[0003]本发明的目的在于克服上述缺点，提供一种自释釉诱发剂、自释釉陶瓷砖及其制备方法，在不对现有陶瓷砖生产工艺做出重大改变的基础上，通过对坯体的配方组成、自释釉诱发剂的配方组成及自释釉诱发剂的喷剂量的优化，从而使陶瓷砖在不施釉的条件下经高温煅烧后能在表面自释出一层光滑细腻的表面层，且这层光滑细腻的表面层不但具有传统有釉陶瓷砖表面釉层的使用性能及装饰性能，而且在硬度、耐磨度、抗龟裂等性能比传统有釉陶瓷砖的表面釉层更优越，且不存在坯体与釉层热膨胀差异，经久耐用；同时该技术具备较强的普适性，易于在行业内推广。
[0004]为解决上述技术问题，本发明通过以下技术方案实现：
[0005]本发明的一种自释釉陶瓷砖的制备方法，其包括以下步骤：
[0006]A、坯体的制备：
[0007]坯体的组分的重量百分比为：
[0008]SiO2 66.5％～69.5％，Al2O3 15％～18％，CaO 1％～4％，Fe2O3+TiO2 1％～2％, MgO 1％～3％，K2O 2％～4％，Na2O 1％～3％,Li2O 0.2％～0.6％，灼烧减量3％～5％；所有的组分之和为100％；
[0009]将含上述组分的粘土、陶瓷废渣、透辉石、滑石、玻璃粉、锂辉石以及外加重量百分比为1％～3
％的辅助原料，再加入适量的水经球磨细碎成细度为250目筛的筛余为质量百分比为1％～3％，含质量百分比为33％～36％水分的浆料，经除铁过筛喷雾干燥制成含质量百分比为5.5％～7.5％水分的粉料，用自动液压机压制成型，干燥窑干燥，即得坯体；[0010]其中所述的陶瓷废渣包括陶瓷抛光砖、仿古砖和釉面砖生产过程中各工序产生的废水经处理后压榨的污泥渣；
[0011]其中所述的玻璃粉为各种废玻璃经破碎而成的粉；
[0012]其中所述的外加辅助原料包括水玻璃、五水偏硅酸钠和三聚磷酸钠；
[0013]B、自释釉诱发剂的制备：
[0014]自释釉诱发剂的重量份组分为：
[0015]水60～100份，陶瓷胶辊印油50～90份，促进剂25～35份，氧化锌1～3份，水玻璃10～30份，添加剂2～4份；
[0016]按上述自释釉诱发剂的重量份组分称取相应的水、陶瓷胶辊印油、促进剂、氧化锌、水玻璃、添加剂一起入研磨机中研磨均匀，过筛即得自释釉诱发剂；
[0017]其中所述的促进剂为硼酸、硼砂、碳酸钾、硝酸钾、碳酸钠、硝酸钠中的一种或几种混合；
[0018]其中所述的添加剂包括三聚磷酸钠和羧甲基纤维素；
[0019]C、产品的制备及烧成：
[0020]将步骤A制备得到的坯体，先喷适量的水，然后再喷施步骤B得到的自释釉诱发剂，自释釉诱发剂的喷剂量为380～560g/m2，再根据产品设计需要用丝网版或胶印辊或喷墨印花机进行印花装饰，然后经过施底浆，再进入辊道窑烧成，最高烧成温度范围为1125℃～1150℃，烧成时间范围为60～90分钟，经过磨边、分级工序，最后制得成品。
[0021]本发明的自释釉陶瓷砖的制备方法的进一步优化为：
[0022]根据前面所述的自释釉陶瓷砖的制备方法制备得到的自释釉陶瓷砖成品陶瓷砖表面光滑细腻，呈微凹凸状，用WGG60-E4光泽度计测量产品表面的光泽度为4～8，但在斜光或射灯照射下，发出强烈的金属光泽，用30倍放大镜观察产品断面，整个断面均匀一致，无坯釉分界层。
[0023]本发明还涉及一种自释釉陶瓷砖，其根据前面所述的自释釉陶瓷砖的制备方法或优化制备方法制备得到。
[0024]本发明还涉及一种自释釉诱发剂的制备方法，其包括以下制备步骤：
[0025] a.自释釉诱发剂的重量份组分为：
[0026]水60～100份，陶瓷胶辊印油50～90份，促进剂25～35份，氧化锌1～3份，水玻璃10～30份，添加剂2～4份；
[0027]其中的促进剂为硼酸、硼砂、碳酸钾、硝酸钾、碳酸钠、硝酸钠中的一种或几种混合；
[0028]其中的添加剂包括三聚磷酸钠和羧甲基纤维素；
[0029] b.按上述自释釉诱发剂的重量份组分称取相应的水、胶辊印油、促进剂、氧化锌、水玻璃、添加剂一起入研磨机中研磨均匀，过筛即得自释釉诱发剂。
[0030]本发明的自释釉诱发剂的制备方法的进一步优化为：
[0031]所述的自释釉诱发剂在自释釉陶瓷砖中的喷剂量为380～560g/m2。
[0032]本发明还涉及一种自释釉诱发剂，其根据前面所述的自释釉诱发剂的制备方法或优化制备方法制备得到。
[0033]将本发明的自释釉诱发剂添加到自释釉陶瓷砖中后，可以使制备得到的后面所述的自释釉陶瓷砖。
[0034]本发明的自释釉陶瓷砖及其制备方法，制造的陶瓷砖产品表面光滑细腻，呈微凹凸状，用WGG60-E4光泽度计测量产品表面的光泽度为4～8，但在斜光或射灯照射下，发出强烈的金属光泽，表面质量好、无针孔、气泡等缺陷，自释釉陶瓷砖产品的平整度好、强度高、耐磨度高、耐污性强、图案颜鲜艳、纹理细腻、清晰自然、仿石逼真，用30倍放大镜观察产
豫公网安备41160202000603
站长QQ:729038198
关于我们
投诉建议