用于电化学机械抛光的抛光垫[发明专利]

专利名称:用于电化学机械抛光的抛光垫专利类型:发明专利
发明人:罗兰·K·塞维利亚
申请号:CN200480017653.5
申请日:20040603
公开号:CN1809445A
公开日:
20060726
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:本发明提供一种抛光垫,其包含一具有一顶部表面(10)和一底部表面的主体,所述顶部表面(10)包含一具有一第一深度和第一宽度的第一组凹槽(12),所述底部表面包含一具有一第二深度和第二宽度的第二组凹槽(16),其中所述第一组凹槽(12)与第二组凹槽(16)互连并以使其不对准的方式定向。
申请人:卡博特微电子公司
地址:美国伊利诺斯州
国籍:US
代理机构:北京律盟知识产权代理有限责任公司

本文发布于:2024-09-22 07:16:26,感谢您对本站的认可!

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