专利名称:一种青霉胺修饰的多级孔杂化材料的制备及其应用专利类型:发明专利 发明人:欧俊杰,马淑娟,张路伟,叶明亮,于之渊,姜利,孙传盛
申请号:CN201810995891.7
申请日:20180829
公开号:CN110872383A
公开日:
20200310
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:本发明涉及一种青霉胺修饰的多级孔杂化材料的制备及其在糖肽富集中的应用。具体是将八乙烯基多面体低聚倍半硅氧烷、环氧功能单体、可降解聚合物和引发剂在有机试剂中超声溶解,然后在水浴加热的情况下进行自由基聚合反应。反应完成后,在酸性条件下使可降解聚合物进行降解从而得到表面含有环氧功能团的分级孔材料。最后将该材料用青霉胺进行衍生形成含有两性亲水官能团的多级孔道整体材料。该材料的制备过程简单,原料易得,成本较低,所制备材料同时具有微孔、介孔和大孔,不但具有较大的比表面积,而且具有可加快传质速度的大孔结构,这些特点使其修饰后成功用于生物样品中糖肽的分离富集。 申请人:中国科学院大连化学物理研究所,威海威高生命科技有限公司,威高集团有限公司 地址:116023 辽宁省大连市沙河口区中山路457号
国籍:CN
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代理人:马驰